DE2420001A1 - STORAGE TARGET FOR A CATHODE BEAM TUBE AND THE PROCESS FOR MANUFACTURING IT - Google Patents

STORAGE TARGET FOR A CATHODE BEAM TUBE AND THE PROCESS FOR MANUFACTURING IT

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DE2420001A1
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    • H01J9/20Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel

Description

D-IPL-ING. KLAUS NEUBECKERD-IPL-ING. KLAUS NEUBECKER

Patentanwalt
4 Düsseldorf 1 ■ Schadowplatz 9
Patent attorney
4 Düsseldorf 1 ■ Schadowplatz 9

Düsseldorf, 24. April 1974Düsseldorf, April 24, 1974

PF 2050
7439
PF 2050
7439

Tektronix, Inc.Tektronix, Inc.

Beaverton, Oregon, W St. A. Beaverton, Oregon, W St. A.

Speichertarget für eine Kathodenstrahlröhre
und Verfahren zu dessen Herstellung
Storage target for a cathode ray tube
and method of making it

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf Kathodenstrahlröhren, . insbesondere Kathodenstrahlröhren mit verbessertem Speicherverhalten, Speichertargets dafür sowie ein Verfahren zur Herstellung solcher Speichertargets.The present invention relates to cathode ray tubes,. in particular cathode ray tubes with improved storage behavior, storage targets therefor and a method for production such storage targets.

In der US-PS 3,531,675 wird eine Kathodenstrahl-Speicherröhre beschrieben, bei der das Speichertarget mit Erhebungen versehen ist, die aus dem isolierenden Substrat herausgeätzt worden sind. Die
Erhebungen und die Fläche, von der aus die Erhebungen vorragen,
sind mit einer dünnen Schicht transparenten leitenden Metalloxids beschichtet, so daß eine Kollektorelektrode gebildet wird. Auf
diese Kollektorelektrode ist eine dielektrische Lage gebracht,
und die übrigen Bereiche der Erhebungen ragen über die dielektrische Lage nach außen hinaus. Ein solches Speichertarget läßt sich wegen des Ätzens des Substrats zwecks Bildung der Erhebungen nur mit hohen Kosten herstellen, und die anschließende Bildung der
US Pat. No. 3,531,675 describes a cathode ray storage tube in which the storage target is provided with elevations which have been etched out of the insulating substrate. the
Elevations and the area from which the elevations protrude,
are coated with a thin layer of transparent conductive metal oxide to form a collector electrode. on
this collector electrode is placed in a dielectric layer,
and the remaining areas of the elevations protrude outward beyond the dielectric layer. Such a memory target can only be manufactured at high cost because of the etching of the substrate for the purpose of forming the bumps, and the subsequent formation of the

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Telefon (O211) 32O8 58Telephone (O211) 32O8 58

Telegramme CustopatTelegrams Custopat

dielektrischen Lage kann infolge Schwankungen bei der stattfindenden Ätzung zu unterschiedlichen Dicken an verschiedenen Stellen des Targets führen. Ebenso schwankt die Fläche der Erhebungen infolge Ungleichförmigkeiten des Substrats und dessen Herstellung. Der geätzte Aufbau des Substrats macht es schwierig, ungleichförmigkeiten und Mängel der Erhebungen und der dielektrischen Lage festzustellen. Die Arbeitsbereiche der Erhebungen können dadurch beeinträchtigt werden, daß Leuchtstoff zu weit bis zu den Erhebungen haftet, so daß die Auffangeffektivität verringert wird.dielectric layer can occur as a result of fluctuations Etching lead to different thicknesses at different points on the target. The area of the elevations also fluctuates as a result Non-uniformities of the substrate and its manufacture. The etched structure of the substrate makes it difficult to remove irregularities and detect defects in the elevations and the dielectric position. The work areas of the surveys can thereby are adversely affected that phosphor adheres too far to the bumps, so that the collection efficiency is reduced.

Die vorliegende Erfindung ist auf eine Kathodenstrahlröhre gerichtet, die mit einem Speichertarget versehen ist. Das Speichertarget weist einen dielektrischen Stützkörper auf, auf den eine leitende Lage aufgebracht ist. Punkte oder Erhebungen, metallischer Partikel mit im wesentlichen konischem oder kontinuierlichem Verlauf sind mit ihren Grundflächen an die leitende Schicht angeschlossen, während ihre Scheitel oder Spitzen über die Oberseite der dielektrischen Speicherlage hinausragen, so daß Kollektorbereiche für das Auffangen sekundäremittierter Elektronen von dem Dielektrikum gebildet werden.The present invention is directed to a cathode ray tube, which is provided with a storage target. The memory target has a dielectric support body on which a conductive Location is applied. Points or elevations, metallic particles with a substantially conical or continuous course are connected with their bases to the conductive layer, while their vertices or tips protrude beyond the top of the dielectric storage layer, so that collector areas for the Trapping secondary emitted electrons are formed by the dielectric.

Ein solches Speichertarget führt zu einer besseren Auffangeffektivität, weil die die Kollektorpunkte oder -Erhebungen umgebende oder diesen benachbarte Leuchtstofffläche so kontrolliert wird, daß die Kollektorpunkte oder -Erhebungen eine größere Kollektorfläche ergeben. Das ermöglicht es, Information auf das Speichertarget mittels des Elektronenstrahls rascher zu schreiben und eineSuch a storage target leads to better collection effectiveness, because the fluorescent surface surrounding or adjacent to the collector points or elevations is controlled in this way, that the collector points or elevations result in a larger collector surface. This enables information to be transferred to the storage target to write faster using the electron beam and a

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größere Luminanz zu erhalten. Die Lebensdauer dieses Speichertargets ist langer, weil mit einem niedrigeren Potential gearbeitet werden kann, nachdem der Targetverschleiß bei niedrigeren Arbeitspotentialen niedriger ist. Das Speichertarget nach 'der vorliegenden Erfindung läßt sich leichter fertigen und ist somit wirtschaftlicher. Es ist regenerierbar, weil die Kollektorpunkte oder -Erhebungen entfernt und der Stützkörper mit der darauf befindlichen leitenden Schicht erneut verwendet werden kann, um ein neues Target herzustellen. Die Herstellung des Speichertargets nach der vorliegenden Erfindung läßt sich wirksamer überwachen, was zu besseren Ausbeuten führt.get greater luminance. The lifetime of this storage target is longer because it is possible to work with a lower potential after the target wear is lower at lower work potentials. The memory target according to the present invention can be manufactured more easily and is therefore more economical. It can be regenerated because the collector points or elevations have been removed and the support body with the one on it conductive layer can be used again to make a new target. The manufacture of the memory target according to the present invention The invention can be monitored more effectively, which leads to better yields.

Entsprechend verfahrensmäßigen Gesichtspunkten der vorliegenden Erfindung wird ein Speichertarget vorteilhafterweise hergestellt, indem eine Lage aus photopolymerisierbarem Material, in welchem eine Dispersion leitender Partikel enthalten ist, auf eine leitende Schicht auf einem Stützkörper aufgebracht wird. Die Lage aus photopolymerisierbarem Material wird mit Licht durch eine Maske beaufschlagt, die die gewünschte Aufteilung oder Rasterung für die Kollektorelemente hat, so daß das photopolymerisierbare Material in den durch das Licht aktivierten Bereichen polymerisiert. Das photopolymerisierbare Material wird ausgewaschen, so daß die Kollektorelemente aus leitenden Partikeln mit einem bestimmten Muster zurückbleiben. Eine Lage aus photopolymerisierbarem, Leuchtstoffpartikel enthaltendem Material wird auf die leitende Lage und das Kollektor-Raster aufgebracht, worauf durch das Kollektor-Raster Licht zugeführt wird, was das photopolymerisierbare MaterialIn accordance with procedural aspects of the present invention, a memory target is advantageously manufactured, by placing a layer of photopolymerizable material, in which a dispersion of conductive particles is contained, on a conductive one Layer is applied to a support body. The layer of photopolymerizable material is exposed to light through a mask applied, which has the desired division or grid for the collector elements, so that the photopolymerizable material polymerized in the areas activated by the light. The photopolymerizable material is washed out so that the Remaining collector elements made of conductive particles with a certain pattern. A layer of photopolymerizable, fluorescent particles containing material is applied to the conductive layer and the collector grid, whereupon through the collector grid Light is supplied what the photopolymerizable material

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in den durch das Licht aktivierten Gebieten polymerisieren läßt. Diese Lage photopolymerisierbaren Materials wird ausgewaschen, so daß das nichtaktivierte photopolymerisierbare Material um die Kollektorelemente herum entfernt wird und die die dielektrische Speicherlage bildenden Leuchtstoffpartikel zurückbleiben, wobei die Scheitel oder Spitzen der Kollektorelemente über die Außenfläche der dielektrischen Speicherlage hinausragen.polymerize in the areas activated by the light. This layer of photopolymerizable material is washed out, so that the unactivated photopolymerizable material is removed from around the collector elements and the dielectric Phosphor particles forming the storage layer remain, with the vertices or tips of the collector elements protrude beyond the outer surface of the dielectric storage layer.

Erfindungsgemäß soll eine Kathodenstrahlröhre mit einem Speichertarget hergestellt werden, das mit einer kontinuierlichen leitenden Lage versehen ist, an die ein Kollektor-Raster oder eine Kollektor-Matrix aus leitenden Partikeln angeschlossen ist, und auf die kontinuierliche leitende Lage ist ein dielektrisches Speichertarget aufgebracht, wobei die äußeren Bereiche der leitenden Kollektorelemente über die Außenfläche der dielektrischen Speichertargetlage hinausragen.According to the invention, a cathode ray tube with a storage target is intended be produced, which is provided with a continuous conductive layer to which a collector grid or a collector matrix of conductive particles, and on the continuous conductive layer is a dielectric memory target applied with the outer portions of the conductive collector elements over the outer surface of the dielectric memory target layer protrude.

Das Speichertarget nach der Erfindung weist eine verbesserte Möglichkeit auf, um Sekundärelektronen aufzufangen, da eine größere Fläche an Auffangmitteln zur Verfügung steht und damit die Auffangeffektivität erhöht wird. Eine mit einem Speichertarget nach der Erfindung ausgestattete Kathodenstrahlröhre kann mit höherer Geschwindigkeit schreiben und hat eine erhöhte Luminanz. Außerdem hat die Kathodenstrahlröhre nach der Erfindung eine längere Lebensdauer, weil sie mit einem niedrigeren Potential betrieben werden kann, bei dem der Targetverschleiß langsamer ist. Ferner kann das Speichertarget nach der Erfindung leichter und wirt-The storage target according to the invention has an improved possibility in order to collect secondary electrons, since a larger area is available to the collection means and thus the collection effectiveness is increased. A cathode ray tube equipped with a storage target according to the invention can with higher Write speed and has increased luminance. In addition, the cathode ray tube according to the invention is longer Lifetime because it can be operated at a lower potential at which target wear is slower. Further the storage target according to the invention can be easier and more economical

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schaftlicher hergestellt werden, weil sich seine Fertigung besser unter Kontrolle halten läßt, was zu einem geringeren Anteil an Ausschuß führt. Außerdem läßt der Stützkörper mit der darauf angeordneten leitenden Schicht sich regenerieren, da die Kollektorelemente leicht entfernbar sind. Die.auf der leitenden Schicht des Stützkörpers hergestellte Kollektor-Matrix kann als- integrale Photomaske verwendet werden, wenn das dielektrische Speichertarget hergestellt wird.be produced more economically, because its production can be kept better under control, which leads to a lower proportion of Committee leads. In addition, the support body with the conductive layer arranged thereon can be regenerated since the collector elements are easily removable. The collector matrix produced on the conductive layer of the support body can be an integral Photomask can be used when the dielectric memory target will be produced.

Die Erfindung wird nachstehend nahand von Ausführungsbeispielen in Verbindung mit der zugehörigen Zeichnung erläutert. In der Zeichnung zeigen:The invention is explained below close to exemplary embodiments in conjunction with the accompanying drawings. In the Drawing show:

Fig. 1 schematisch die Seitenansicht, teilweise im Schnitt, einer Kathodenstrahl-Speicherröhre nach der Erfindung;1 schematically shows the side view, partly in section, of a cathode ray storage tube according to the invention;

Fig. 2 eine Querschnittsansicht zur Veranschaulichung der Herstellung der Matrix mit den leitenden Punkten auf der leitenden Schicht eines Stützkörpers;Fig. 2 is a cross-sectional view to illustrate the manufacture the matrix with the conductive points on the conductive layer of a support body;

Fig. 3 eine Querschnittsansicht der leitenden Punkte auf der leitenden Schicht des Stützkörpers;Fig. 3 is a cross-sectional view of the conductive points on the conductive layer of the support body;

Fig. 4 eine Querschnittsansicht der Fertigung des dielektrischen Speichertargets;Fig. 4 is a cross-sectional view showing the fabrication of the dielectric memory target;

Fig. 5 teilweise weggebrochen und teilweise im Querschnitt perspektivisch eine Ansicht des vervollständigtenFig. 5, partly broken away and partly in cross-section, is a perspective view of the completed

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Speichertargetaufbaus; ·Memory target structure; ·

Fig. 6 in vergrößertem Maßstab einen Querschnitt durch einen Teil des Speichertargets der Fig. 5;6 shows, on an enlarged scale, a cross-section through part of the memory target of FIG. 5;

Fig. 7a i» perspektivisch in teilweise weggebrochener Darstel- und 7bFig. 7a i »in perspective in a partially broken away representation and 7b

lung Ansichten weiterer Ausführungsmöglichkeiten des Speichertargets; unddevelopment views of further options for implementing the storage target; and

Fig. 8 perspektivisch eine Ansicht eines Eckbereichs einer Frontplatte einer gewölbten Vorderseite einer Kathodenstrahlröhre mit großer Betrachtungsfläche.8 is a perspective view of a corner region of a front plate of a curved front side of a cathode ray tube with a large viewing area.

Im einzelnen läßt Fig. 1 eine Kathodenstrahl-Speicherröhre 10 mit einem Kolben 12 aus Isoliermaterial erkerinen, in dessen Innerem ein Elektronenstrahlerzeugersystem mit einer Heizwendel 14, einer an ein hohes negatives Potential anzuschließenden Kathode 16, einem Steuergitter 18 sowie einem Fokussier- und Beschleunigungsaufbau 20 angeordnet ist. Ein durch das Elektronenstrahlerzeugersystem erzeugter Elektronenstrahl 22 mit Elektronen hoher Geschwindigkeit wird in horizontaler Richtung durch horizontale Ablenkplatten 24 und in vertikaler Richtung durch vertikale Ablenkplatten in Obereinstimmung mit einem Eingangssignal abgelenkt, das eine Eingangsklemme 28 beaufschlagt und über diese eine herkömmliche Ablenkschaltung 30 speist, die mit den horizontalen und vertikalen Ablenkplatten so verbunden ist, daß der Elektronenstrahl in Übereinstimmung mit dem Eingangssignal selektiv längs des Speichertargets 32 am Ende des Kolbens 12 gegenüber dem Elektronenstrahl-In detail, FIG. 1 shows a cathode ray storage tube 10 with a piston 12 made of insulating material, inside it an electron gun system with a heating coil 14, a cathode 16 to be connected to a high negative potential, a control grid 18 and a focusing and acceleration structure 20 is arranged. One through the electron gun system generated electron beam 22 with high velocity electrons is deflected in the horizontal direction by horizontal baffles 24 and deflected in the vertical direction by vertical baffles in accordance with an input signal which is a Input terminal 28 applied and fed through this a conventional deflection circuit 30, which with the horizontal and vertical Deflector plates are connected so that the electron beam is selectively along the storage target in accordance with the input signal 32 at the end of the piston 12 opposite the electron beam

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erzeugersystem positioniert wird.generating system is positioned.

In der Speicherröhre sind außerdem ein oder mehrere Flutelektronen-Erzeugersysteme 34 mit einer Kathode 36, einem Steuergitter und einer Anode 40 untergebracht. Die Flutelektronen-Erzeugersysteme 34 sind an der Innenseite des Kolbens 12 neben den ausgangsseitigen Enden der vertikalen Ablenkplatten 26 abgestützt. Die Kathoden 36 werden in herkömmlicher Weise bei einem niedrigen Spannungsniveau, typischerweise Masse, betrieben, während die Steuergitter 38 an ein niedriges negatives Potential angeschlossen sind. Von dem Flutelektronen-Erzeugersystem 34 emittierte Elektro- ' nen niedriger Geschwindigkeit divergieren in einen konischen Strahl und werden gleichförmig über das Speichertarget 32 verteilt.There are also one or more flood electron generation systems in the storage tube 34 with a cathode 36, a control grid and an anode 40 housed. The flood electron generation systems 34 are on the inside of the piston 12 next to the output side Ends of the vertical baffles 26 supported. The cathodes 36 are conventionally operated at a low Voltage level, typically ground, operated while the control grid 38 is connected to a low negative potential are. Electrical 'emitted by the flood electron generation system 34 Low velocity waves diverge into a conical beam and are uniformly distributed across the storage target 32.

An der Innenfläche des Kolbens 12 sind zwischen den Flutelektronen-Erzeuger systemen 34 und dem Speichertarget 32 mehrere Elektroden angeordnet. Diese Elektroden sind vorzugsweise als im Abstand voneinander angeordnete Beschichtungen aus leitendem Material ausgebildet, und die erste entsprechende Beschichtung 42 dient in erster Linie als Fokussierelektrode für die von den Flutelektronen^Erzeugersystemen 34 emittierten Flutelektronen. Die erste Beschichtung 42 ist an ein geeignetes positives Potential angeschlossen. Eine zweite als Elektrode wirksame Wand-Beschichtung 44 ist im Abstand von der ersten Beschichtung 42 angeordnet und elektrisch an ein positives Potential angeschlossen, um als Fokussier- und Kollimations-Elektrode zu wirken. Eine dritte als Elektrode wirkende Beschichtung 46 ist im Abstand von der Beschichtung 44 an-On the inner surface of the piston 12 are between the flood electron generator systems 34 and the storage target 32 arranged a plurality of electrodes. These electrodes are preferably as spaced from each other arranged coatings formed from conductive material, and the first corresponding coating 42 is used in primarily as a focusing electrode for the generation systems used by the flood electrons 34 emitted flood electrons. The first coating 42 is connected to a suitable positive potential. A second wall coating 44 acting as an electrode is arranged at a distance from the first coating 42 and is electrical connected to a positive potential to act as a focusing and collimation electrode. A third acting as an electrode Coating 46 is spaced from coating 44

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geordnet und an ein positives Potential angeschlossen, um ebenfalls als Fokussier- und Kollimations-Elektrode zu wirken. Infolge der Kollimationswirkung der an den Wänden angebrachten Elektroden-Beschichtungen werden die Elektronen von den Flutelektronen-Erzeugersystemen 34 gleichförmig über die Fläche des Speichertargets 32 verteilt.ordered and connected to a positive potential to likewise to act as a focusing and collimation electrode. As a result of the collimation effect of the ones attached to the walls Electrode coatings are the electrons from the tide electron generation systems 34 distributed uniformly over the area of the storage target 32.

Zwischen der dritten Beschichtung 46 und dem Speichertarget 32 ist eine vierte, als Elektrode wirksame Wand-Beschichtung 48 im Abstand von der dritten Beschichtung 46 angeordnet, die an ein positives Potential angeschlossen ist. Die vierte Beschichtung dient ebenfalls als Fokussier- und Kollimations-Elektrode für die Flutelektronen, ferner als Hilfs-Kollektorelektrode, um einen Teil der von dem Speichertarget 32 emittierten Sekundärelektronen aufzufangen.Between the third coating 46 and the storage target 32 there is a fourth wall coating 48 in the form of an electrode Arranged at a distance from the third coating 46, which is connected to a positive potential. The fourth coating also serves as a focusing and collimation electrode for the flood electrons, as well as an auxiliary collector electrode around a Part of the secondary electrons emitted by the storage target 32 to catch.

Die Beschichtungen 42, 44, 46 und 48 sind an positive Potentiale abnehmender Größe angeschlossen, wobei im Hinblick auf eine optimale Arbeitsweise das höchste positive Potential an die Elektrode 42 angeschlossen ist.The coatings 42, 44, 46 and 48 are at positive potentials decreasing size connected, with the highest positive potential to the electrode in view of an optimal mode of operation 42 is connected.

Das Speichertarget 32 weist eine isolierende Endplatte 50 mit einer transparenten Targetelektrode 52 auf, über die eine Reihe leitender Punkte 54 in Form eines Punktrasters und eine dielektrische Lage 56 gebracht sind. Die isolierende Endplatte 50 bildet einen Stützkörper und besteht aus transparentem Material wie etwa Glas. Die Targetelektrode 52 ist eine dünne transparente Be-The storage target 32 has an insulating end plate 50 with a transparent target electrode 52 over which a row conductive points 54 in the form of a point grid and a dielectric layer 56 are brought. The insulating end plate 50 forms a support body and is made of a transparent material such as glass. The target electrode 52 is a thin transparent sheet

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schichtung, vorzugsweise aus Zinnoxid, die in geeigneter Weise an den Mittelpunkt eines Spannungsteilers mit Widerständen 58 und 60 angeschlossen ist, die zwischen ein positives Potential und Masse ■ geschaltet sind. Der Widerstand 58 ist veränderlich und so eingestellt, daß die Targetelektrode 52 mit der richtigen Arbeitsspannung beaufschlagt wird. Statt dessen kann die Targetelektrode 52 auch an eine Verstärkereinrichtung angeschlossen sein, um auf dem Speichertarget gespeicherte Information elektrisch auszulesen.layering, preferably of tin oxide, which is suitably applied to the midpoint of a voltage divider with resistors 58 and 60 is connected, which are connected between a positive potential and ground ■. The resistor 58 is variable and is set so that that the target electrode 52 is applied with the correct working voltage. Instead, the target electrode 52 can also be connected to an amplifier device in order to read out information stored on the storage target electrically.

Die Punkte 54 sind leitende Partikel, vorzugsweise aus Kobalt, und haben einen vorzugsweise im wesentlichen konischen Aufbau, wobei ihre Grundflächen an die Elektrode 52 angeschlossen sind, während ihre Scheitel oder Spitzen-nach außen von der Außenfläche der dielektrischen Lage 56 aus vorragen. Die Punkte 54 bilden Kollektorelektroden, die nachstehend weiter ins einzelne gehend erläutert werden, und die Punkte können auch eine andere als eine konische Gestalt haben, beispielsweise pyramidenförmig, dreieckig etc. ausgestaltet sein. Die dielektrische Lage 56 ist Leuchtstoff, vorzugsweise P-1-Leuchtstoff.The points 54 are conductive particles, preferably made of cobalt, and have a preferably substantially conical structure, with their bases connected to the electrode 52, while their apex or point-outward from the outer surface of the dielectric Position 56 protrude from. The points 54 form collector electrodes, which are explained in more detail below and the points can also have a shape other than a conical shape, for example pyramidal, triangular, etc. be. The dielectric layer 56 is phosphor, preferably P-1 phosphor.

Information wird auf das Speiehertarget 32 mittels des Elektronenstrahls 22 geschrieben,.was in der Form einer Signalkurve gesche-. hen kann, die die vertikalen Ablenkplatten beaufschlagt, während der Strahl in horizontaler Richtung mittels der horizontalen Ablenkplatten 24 abgelenkt wird. Zusätzlich zu der elektrischen Ablesung wird die auf das Speichertarget geschriebene Information visuell durch die transparente, als Trägerelement wirkende Endplatte 50 wiedergegeben. Im Betrieb werden die RöhrenpotentialeInformation is transferred to the storage target 32 by means of the electron beam 22 written, what happened in the form of a signal curve. hen that acts on the vertical baffles while the beam is deflected in the horizontal direction by means of the horizontal deflection plates 24. In addition to the electrical reading the information written on the storage target is visible through the transparent end plate acting as a carrier element 50 reproduced. In operation, the tube potentials

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so eingestellt, daß der Strahl 22 eine relativ hohe Schreibgeschwindigkeit annimmt und Sekundärelektronen erzeugen kann, wenn er auf die dielektrische Lage 56 auftrifft. Das vom Elektronenstrahl 22 beaufschlagte Gebiet wird auf das Potential der Punkte 54 (Kollektorelektroden) und der Targetelektrode 52 von Masseniveau aus angehoben, so daß das dielektrische Target dort leuchtet (phosphoresziert). Diese Sekundärelektronen werden dann durch die Punkte 54 (Kollektorelektroden) aufgefangen, und die vom Elektronenstrahl 22 beaufschlagten Gebiete des Speicherelektrikums werden positiv aufgeladen, so daß Flutelektronen von den Flutelektronen-Erzeugersystemen 34 von diesen positiv geladenen Gebieten angezogen werden. Sie emittieren Sekundärelektronen im Verhältnis Eins davon, wobei die Sekundärelektronen über Kollektor-Punkte 54 aufgefangen werden, die den positiv geladenen (beschriebenen) Gebieten der dielektrischen Speicher-Lage 56 benachbart sind, so daß die Information visuell beobachtet und zum Zwecke des Studiums oder des Photographierens unendlich lang erhalten bleiben kann. Das Target kann in herkömmlicher Weise dadurch gelöscht werden, daß die Targetelektrode einen Impuls erhält, der das Speicherdielektrikum auf das Potential der Kollektorelektroden (Punkte 54) anhebt und es dann auf Masseniveau absinken läßt, so daß die Flutelektronen es dort halten, bis der Elektronenstrahl 22 erneut Information darauf schreibt. Bezüglich weiterer Information betreffend die Arbeitsweise der bistabilen Speichertargets dieser Art wird auf die zuvor erwähnte US-PS 3,531,675 Bezug genommen .adjusted so that the beam 22 has a relatively high writing speed and can generate secondary electrons when it strikes the dielectric layer 56. That from the electron beam 22 acted upon area is at the potential of the points 54 (collector electrodes) and the target electrode 52 of ground level raised off so that the dielectric target glows there (phosphorescent). These secondary electrons are then through the points 54 (collector electrodes) collected, and the areas of the storage electric impinged on by the electron beam 22 are positively charged, so that flood electrons from the flood electron generation systems 34 are attracted to these positively charged areas. They emit secondary electrons in proportion One of them, whereby the secondary electrons are collected via collector points 54, which form the positively charged (described) Areas of the dielectric storage layer 56 are adjacent so that the information can be visually observed and used for purposes of study or photography can be preserved indefinitely. The target can thereby be erased in a conventional manner be that the target electrode receives a pulse that the storage dielectric to the potential of the collector electrodes (Points 54) and then lets it sink to the ground level, so that the tide electrons hold it there until the electron beam 22 writes information on it again. For more information on how the bistable memory targets work of this type, reference is made to the aforementioned US Pat. No. 3,531,675.

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Nachstehend wird anhand von Fig. 2-6 die Herstellung des Speichertargets 32 erläutert. Wie mit Fig. 2 gezeigt, hat ein transparenter Körper 62 eine Photomaske 64- mit einer darin angeordneten Lochmatrix. Die transparente Endplatte 50 mit Ser transparenten leitenden Targetelektrode 52 wird auf die Photomaske 64 gebracht. Um den Umfang der Endplatte 50 herum wird ein Rahmen 66 angeordnet, und ein photopolymerisierbarer Brei 68 aus Polyvinylalkohol, Wasser, Ammoniumdichromat, Kobaltpulver (2 - 5,u) sowie Isopropylalkohol wird auf die leitende, die Targetelektrode 52 bildende Schicht gegossen.The production of the memory target will now be described with reference to FIGS. 2-6 32 explained. As shown in Fig. 2, a transparent body 62 has a photo mask 64 with one disposed therein Hole matrix. The transparent end plate 50 with Ser transparent conductive target electrode 52 is placed on the photomask 64. A frame 66 is placed around the perimeter of the end plate 50 arranged, and a photopolymerizable slurry 68 made of polyvinyl alcohol, Water, ammonium dichromate, cobalt powder (2 - 5, u) and isopropyl alcohol is applied to the conductive, target electrode 52 poured forming layer.

Es können beliebige andere leitende Partikel oder Partikel, die · leitend gemacht werden, außer Kobalt verwendet werden, aber zur Verfolgung des Hintergrundkontrastes sind dunklere Partikel mit verringertem Reflexionsverhalten günstiger. Kobalt ist schwarz und führt zu optimalen Arbeitseigenschaften. Die Partikel können ebenso aus dem gleichen Material wie die leitende Lage sein.Any other conductive particles or particles that are made conductive other than cobalt can be used, but for Following the background contrast, darker particles with reduced reflection behavior are more favorable. Cobalt is black and leads to optimal working properties. The particles can also be made of the same material as the conductive layer.

Eine kollimierte Lichtquelle 70 dient zur Aussendung von Lichtstrahlen 72 durch den transparenten Körper 62, die Löcher in der Photomaske 64, die Endplatte 50 und die die Targetelektrode 52 bildende leitende Schicht in den Brei 68, so daß der Brei 68 durch Licht aktiviert wird und der Polyvinylalkohol in diesen Gebieten polymerisiert.A collimated light source 70 is used to emit light beams 72 through the transparent body 62, the holes in the photomask 64, the end plate 50 and the target electrode 52 forming a conductive layer in the slurry 68 so that the slurry 68 is activated by light and the polyvinyl alcohol in them Areas polymerized.

Der Rahmen 66 wird abgenommen, und der Targetaufbau wird mit Wasser gewaschen, so daß der nicht aktivierte Brei entfernt wird und ein Raster mit Kobaltpunkten zurückbleibt.The frame 66 is removed and the target assembly is filled with water washed so that the unactivated pulp is removed and a grid with cobalt dots remains.

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Dem Targetaufbau wird ein Schrumpfmittel wie Aceton, wäßriges Ammoniumsulfat, Alkohole oder andere hydrophile Stoffe zugeführt, so daß die Kobaltpartikel durch rasche Extraktion von H^O schrumpfen und die Kobalt-Punkte 54 entstehen, die auf der die Targetelektrode 52 bildenden leitenden Schicht eine ausgeprägte Leuchtpunkt-Matrix bilden, wie das mit Fig. 3 und 5 gezeigt ist. Darauf wird der Targetaufbau getrocknet.A shrinking agent such as acetone, aqueous, is added to the target structure Ammonium sulfate, alcohols or other hydrophilic substances are supplied so that the cobalt particles shrink through the rapid extraction of H ^ O and the cobalt dots 54 arise, which form a pronounced luminous dot matrix on the conductive layer forming the target electrode 52 as shown in FIGS. 3 and 5. The target structure is then dried.

Ein photopolymerisierbarer Brei 74 aus Polyvinylalkohol, Wasser, Dimethylsulfoxid, Ammoniumdichromat und Leuchtstoff wird auf die die Targetelektrode bildende leitende Schicht 52 und die Punkte 54 gebracht, wie das mit Fig. 4 gezeigt ist. Darauf sendet die kollimierte Lichtquelle 70 durch die Endplatte 50 und die die Targetelektrode 52 bildende leitende Schicht in den Brei 74 Lichtstrahlen 72, die den Brei 74 in den Bereichen aktivieren, wo keine Punkte angeordnet sind, so daß der Polyvinylalkohol in diesen Bereichen polymerisiert.A photopolymerizable slurry 74 made from polyvinyl alcohol, water, Dimethyl sulfoxide, ammonium dichromate and phosphor is applied to the target electrode forming conductive layer 52 and the dots 54, as shown in FIG. The collimated light source 70 then sends through the end plate 50 and the target electrode 52 forming conductive layer in the slurry 74 light rays 72 that activate the slurry 74 in the areas where none Points are arranged so that the polyvinyl alcohol polymerizes in these areas.

Wie zu ersehen, wird für diesen Vorgang keine Photomaske benötigt, weil die leitenden Punkte eine integrale Photomaske bilden, so daß im Bereich jedes leitenden Punktes keine Polymerisation des Polyvinylalkohol stattfindet.As you can see, no photo mask is required for this process, because the conductive points form an integral photomask, so that no polymerization of the in the area of each conductive point Polyvinyl alcohol takes place.

Der Aufbau wird mit Wasser ausgewaschen, das den nicht aktivierten Brei entfernt und eine Schicht mit Licht aktivierten Breis zurückläßt, die eine dielektrische Lage bildet. Dieser Targetaufbau wird dann durch das Schrumpfmittel aufgeweicht, das zur SchrumpfungThe build-up is washed out with water that does not activate the Slurry removed, leaving a layer of light activated slurry which forms a dielectric layer. This target structure is then softened by the shrink agent causing shrinkage

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der leitenden Partikel der Punkte eingesetzt wird, und dieser Schrumpfvorgang läßt die dielektrische Lage zu einem dichteren Gefüge zusammenschrumpfen, so daß das die einzelnen Punkte umgebende Dielektrikum von den Punkten wegschrumpft und damit einen großen Bereich der einzelnen Punkte freilegt. Zwar wurde davon ausgegangen, daß das photopolymerisierbare Material für die Bildung der Matrix leitender Kollektorsegmente und der dielektrischen Schicht in Form eines Breis vorliegt, jedoch kann dieses Material auch als photopolymerisxerbarer trockener Film ausgestaltet sein. Wie aus Fig. 5 und 6 ersichtlich, steigt die Fläche der die einzelnen Punkte 54 umgebenden dielektrischen Speicher-Lage 56 in Aufwärtsrichtung von den Punkten weg an, so daß eine ringförmige Fläche 76 darum herum gebildet wird, die sich am besten als trichterförmige öffnung bezeichnen läßt. Dadurch ergibt sich die vergrößerte Kollektorfläche, die von jedem Kollektor-Punkt 54 zur Verfügung gestellt wird, um die Sekundärelektronen wirksamer aufzufangen. Die Punkte erstrecken sich auch etwa mit einem Viertel ihrer Höhe über die Außenfläche der dielektrischen Speicher-Lage 56.of the conductive particles of the dots is inserted, and this shrinking process makes the dielectric layer denser Shrink structure so that the dielectric surrounding the individual points shrinks away from the points and thus one exposes a large area of the individual points. Although it was assumed that the photopolymerizable material for the formation of the matrix of conductive collector segments and the dielectric layer is in the form of a slurry, but this may Material can also be designed as a photopolymerizable dry film. As can be seen from FIGS. 5 and 6, the area increases of the dielectric memory layer 56 surrounding the individual points 54 in an upward direction away from the points, so that a annular surface 76 is formed around it, which can best be referred to as a funnel-shaped opening. This results in the increased collector area created by each collector point 54 is provided to collect the secondary electrons more effectively. The points also extend roughly with a quarter of its height above the outer surface of the dielectric Memory location 56.

Nach dem Schrumpfen des Speichertarget-Aufbaus wird dieser bei einer geeigneten Temperatur in einem Ofen ausgebacken, um organische Bindemittel zu entfernen und die dielektrische Speicher-Lage zurückzulassen, die im wesentlichen Leuchtstoffmaterial enthält. Das Speichertarget wird dann fertiggestellt und in herkömmlicher Weise durch Fritte-Dichtungsverfahren an dem Kolben 12 festgelegt, wobei die Endplatte 50 die Frontseite bildet»After the storage target structure has shrunk, it becomes at baked at a suitable temperature in an oven to remove organic binders and the dielectric storage layer leave behind which contains essentially phosphor material. The storage target is then completed and affixed to the piston 12 in a conventional manner by frit sealing methods, whereby the end plate 50 forms the front side »

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Das Punktraster mit den Punkten 54, das den Kollektorelektroden-Aufbau bildet, ist vorzugsweise so ausgebildet, daß der Mittenabstand zwischen benachbarten Punkten geringer als der Durchmesser des Elektronenstrahls 22 ist, so daß eine verbesserte Kollektoreinrichtung für das Auffangen von Sekundärelektronen, eine optimale Auflösung des Targets, eine Eliminierung von Spuren-Schattenbildung und eine verbesserte visuelle Wiedergabe, ferner Ablesegenauigkeit der gespeicherten Information auf dem bistabilen Speichertarget erhalten werden. Die Auffangeffektivität gegenüber Sekundärelektronen durch die Kollektor-Punkte wird durch die größere Oberfläche und die Kontrolle der die Punkte umgebenden Leuchtstofffläche erhöht. Das führt zu einer höheren Schreibgeschwindigkeit und einer verbesserten Luminanz des Targets. Die Lebensdauer des Speichertargets wird erhöht, weil das Target bei einem niedrigeren Arbeitspotential arbeitet, nachdem die Abnutzung eines Targets bei niedrigeren Arbeitspotentialen langsamer erfolgt.The dot matrix with the dots 54, which the collector electrode structure forms, is preferably designed so that the center distance between adjacent points is less than the diameter of the electron beam 22, so that an improved collector device for collecting secondary electrons, an optimal one Resolution of the target, elimination of trace shadowing and improved visual reproduction, as well as reading accuracy of the information stored on the bistable memory target can be obtained. The collection effectiveness against Secondary electrons through the collector points will be through the increased surface area and control of the fluorescent surface surrounding the points. This leads to a higher writing speed and an improved luminance of the target. The service life of the storage target is increased because the target is at works at a lower work potential after the wear and tear of a target occurs more slowly at lower work potentials.

Fig. 7a zeigt eine Ausführung des Speichertargets, bei dem die KollektorSegmente 54a partikelförmigen leitenden Materials kontinuierliche, etwa keilförmig ausgebildete Erhebungen sind, deren Grundflächen mit der leitenden Schicht 52a in Verbindung stehen und deren Scheitel über die Außenseite der dielektrischen Lage 56a hinausragen. Somit begrenzen abwechselnde Reihen der dielektrischen Lage und der leitenden Kollektorsegmente den Targetaufbau der Fig. 7a. Die partikelförmig aufgebauten Kollektorsegmente 54b können ebenfalls diskontinuierlich ausgebildet sein, wie das mit Fig. 7b gezeigt ist, und die dielektrische Lage 56b ist inFig. 7a shows an embodiment of the memory target in which the Collector segments 54a of particulate conductive material continuous, are approximately wedge-shaped elevations, the base areas of which are connected to the conductive layer 52a and their vertices protrude beyond the outside of the dielectric layer 56a. Thus, alternate rows delimit the dielectric Position and the conductive collector segments the target structure of Fig. 7a. The collector segments built up in the form of particles 54b can also be discontinuous, as shown in FIG. 7b, and the dielectric layer 56b is in FIG

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den Gebieten kontinuierlich, wo die Kollektorsegmente nicht kontinuierlich sind.the areas where the collector segments are not continuous are.

Die Gebiete der dielektrischen Lage 56a und 56b in Nachbarschaft der Kollektorsegmente- 54a und· 54b sind geneigt ausgeführt, um eine größere Kollektorfläche in der gleichen Weise wie bezüglich der Kollektor-Punkt-Matrix nach Fig. 2 - 6 zu erhalten.The areas of the dielectric layer 56a and 56b in the vicinity of the collector segments 54a and 54b are inclined to to obtain a larger collector area in the same way as with respect to the collector-point matrix of FIGS. 2-6.

Der Aufbau der Targets nach Fig. 7a und 7b wird in der gleichen Weise hergestellt, wie das in Verbindung mit Fig. 2-6 erläutert wurde, und die Kollektorsegmente mit den leitenden Partikeln können jede gewünschte Gestalt annehmen, um das angestrebte Ergebnis zu erzielen.The construction of the targets according to FIGS. 7a and 7b is produced in the same way as that explained in connection with FIGS. 2-6 and the collector segments with the conductive particles can take any shape desired to achieve the desired result.

Die vorstehend erläuterten Ausführungsformen sind auf einen ebenen Stützkörper gerichtet, auf dem sich die dünne Schicht aus leitendem Material befindet und auf dem die die Kollektorpunkte oder Kollektorsegmente bildenden leitenden Partikel an eine leitende Schicht angeschlossen sind. Eine Lage aus dielektrischem Speichermaterial bedeckt die leitende Lage, wobei die den Punkten oder Segmenten benachbarte dielektrische Lage mit geneigten oder abgeschrägten Oberflächen versehen ist, während die Scheitel der Punkte oder Segmente über die Oberseite oder die Außenseite der dielektrischen Lage hinausragen, so daß ein Speichertarget mit planarem Aufbau erhalten wird.The embodiments explained above are on a plane Support body directed on which the thin layer of conductive material is located and on which the collector points or conductive particles forming collector segments are connected to a conductive layer. A layer of dielectric Memory material covers the conductive layer, the dielectric layer adjacent to the points or segments being inclined or beveled surfaces, while the vertices of the points or segments over the top or the outside of the dielectric layer protrude, so that a memory target with planar structure is obtained.

Bei dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 8 hat eine Frontplatte 78 aus Glas gewölbte Innen- und Außenflächen, wobei die InnenflächeIn the embodiment of FIG. 8, a front plate 78 made of glass has curved inner and outer surfaces, the inner surface

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mit einer leitenden Beschichtung 52c, leitenden Kollektor-Punkten 54c und einer dielektrischen Lage 56c versehen ist, die in der gleichen Weise wie zuvor beschrieben hergestellt wird. Die Frontplatte 78 enthält eine integrale Wandung 80, an der der Röhrenkolben einer größeren Kathodenstrahlröhre befestigt werden kann. Die Ausführung nach Fig. 8 betrifft somit ein gewölbt ausgebildetes Speichertarget, das sich in Verbindung mit Kathodenstrahlen-Speicherröhren einsetzen läßt, die eine größere Beobachtungsfläche haben.with a conductive coating 52c, conductive collector points 54c and a dielectric layer 56c, which is in the in the same way as previously described. The faceplate 78 includes an integral wall 80 on which the tubular piston a larger cathode ray tube can be attached. The embodiment according to FIG. 8 thus relates to a curved one Storage target that works in conjunction with cathode ray storage tubes can be used that have a larger observation area.

Das Speichertarget nach der vorliegenden Erfindung läßt sich leichter herstellen und ist daher wirtschaftlicher. Der Stützkörper mit der darauf befindlichen leitenden Schicht läßt sich regenerieren, da die Matrix mit der dielektrischen Lage und/oder den leitenden Kollektorelementen entfernt werden kann, so daß der Stützkörper mit der darauf befindlichen leitenden Schicht sich erneut in Verbindung mit der Herstellung eines neuen Speichertargets einsetzen läßt. Die Herstellung der Speichertargets nach der vorliegenden Erfindung läßt sich besser überwachen, so daß sich bessere Produktionszahlen erzielen lassen.The memory target of the present invention is easier to manufacture and therefore more economical. The support body with the conductive layer located thereon can be regenerated, since the matrix with the dielectric layer and / or the conductive collector elements can be removed, so that the support body with the conductive layer located thereon again can be used in connection with the production of a new memory target. The manufacture of the memory targets according to the present invention Invention can be monitored better, so that better production figures can be achieved.

Die Erfindung stellt damit eine Kathodenstrahl-Speicherröhre mit einem Speichertarget zur Verfügung, das eine Vielzahl Segmente der Kollektorelektrode aufweist, die durch die dielektrische Lage des Speichertargets hindurchragen. Diese Segmente enthalten Punkte oder kontinuierliche bzw. unterbrochene Erhebungen aus leitendenThe invention thus provides a cathode ray storage tube with a storage target that has a plurality of segments of the collector electrode which protrude through the dielectric layer of the storage target. These segments contain points or continuous or interrupted surveys from conductive

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Partikeln, die durch ein Photoverfahren auf die Kollektorelektrode aufgebracht worden sind. Anschließend wird die dielektrische Speicher-Lage darübergebracht, die die richtige Stärke besitzt, so daß die Segmente über das Dielektrikum hinausragen und somit Kollektorflächen erhalten werden, die die sekundäremittierten Elektronen von dem Dielektrikum auffangen.Particles that are photocopied onto the collector electrode have been applied. Then the dielectric storage layer is put over it, which has the right thickness, so that the segments protrude beyond the dielectric and thus collector surfaces are obtained, which the secondary emitted Catch electrons from the dielectric.

Patentansprüche; Claims ;

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Claims (27)

P a t e η t a η s ρ r ü c h e :P a t e η t a η s ρ r ü c h e: Speichertarget für eine Kathodenstrahlröhre, mit einem isolierenden Stützkörper, dadurch gekennzeichnet, daß eine Fläche des Stützkörpers mit einer leitenden- Beschichtung versehen ist, über der eine dielektrische Speicherschicht angeordnet ist, und daß eine Matrix aus partikelförmigem leitendem Material aufgebauter Elemente mit Enden an die leitende Beschichtung angeschlossen sind, sich durch die dielektrische Speicherschicht erstrecken und mit freien Enden über eine Außenfläche der dielektrischen Speicherschicht nach auswärts ragen.Storage target for a cathode ray tube, with an insulating Support body, characterized in that one surface of the support body has a conductive coating is provided, over which a dielectric storage layer is arranged, and that a matrix of particulate conductive material composed of elements with ends connected to the conductive coating, extending through the dielectric storage layer and extend with free ends over an outer surface of the dielectric storage layer protrude outwards. 2. Speichertarget nach Anspruch 1, dadurch, gekennzeichnet, daß die Fläche eben ausgestaltet ist.2. Storage target according to claim 1, characterized in that the surface is flat. 3. Speichertarget nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Fläche gewölbt ausgebildet ist.3. Storage target according to claim 1, characterized in that the surface is curved. 4. Speichertarget nach einem der Ansprüche 1-3, dadurch gekennzeichnet, daß der isolierende Stützkörper transparent ist.4. Storage target according to one of claims 1-3, characterized in that that the insulating support body is transparent. 5. Speichertarget nach einem der Ansprüche 1-4, dadurch gekennzeichnet, daß die leitende Beschichtung transparent ist.5. Storage target according to one of claims 1-4, characterized in that that the conductive coating is transparent. 6. Speichertarget nach einem der Ansprüche 1-5, dadurch gekennzeichnet, daß die Matrix leitender Elemente Punkte mit im wesentlichen konischer Gestalt aufweist.6. Storage target according to one of claims 1-5, characterized in that that the matrix of conductive elements has points with a substantially conical shape. 409845/0876409845/0876 7. Speichertarget nach einem der Ansprüche 1-6, dadurch gekennzeichnet, daß Bereiche der dielektrischen Speicherschicht in Nachbarschaft der leitenden Elemente abgeschrägte Flächen haben.7. Storage target according to one of claims 1-6, characterized in that that areas of the dielectric storage layer in the vicinity of the conductive elements beveled surfaces to have. 8. Speichertarget nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Matrix leitender Elemente kontinuierliche Segmente enthält. 8. Storage target according to claim 1, characterized in that the matrix of conductive elements contains continuous segments. 9. Speichertarget nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Matrix leitender Elemente diskontinuierliche Segmente · enthält.9. Storage target according to claim 1, characterized in that the conductive element matrix contains discontinuous segments. 10. Speichertarget nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Segmente keilförmig ausgebildet sind.10. Storage target according to claim 8 or 9, characterized in that that the segments are wedge-shaped. 11. Speichertarget für eine Kathodenstrahlröhre mit einem isolierenden Stützkörper, dadurch gekennzeichnet, daß eine Fläche des Stützkörpers mit einer leitenden Beschichtung versehen ist, über der eine dielektrische Speicherschicht angeordnet ist, daß eine Matrix mit geneigte Flächen aufweisenden öffnungen in der dielektrischen Speicherschicht vorgesehen ist und leitende Erhebungen in den öffnungen integral mit der leitenden Beschichtung sind, deren äußere Enden nach außen über eine Außenfläche der dielektrischen Speicherlage ragen.11. Storage target for a cathode ray tube with an insulating Support body, characterized in that one surface of the support body has a conductive coating is provided, over which a dielectric storage layer is arranged, that a matrix having inclined faces Openings is provided in the dielectric storage layer and conductive elevations are integral in the openings with the conductive coating having their outer ends outwardly over an outer surface of the dielectric storage layer protrude. 409845/0876409845/0876 12. Speichertarget nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die leitenden Erhebungen im wesentlichen konisch ausgestaltet und die abgeschrägten Flächen den leitenden Erhebungen benachbart sind.12. Storage target according to claim 11, characterized in that the conductive bumps are essentially conical in shape and the beveled surfaces are adjacent to the conductive bumps are. 13. Speichertarget nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Grundflächen der konisch gestalteten Erhebungen mit der leitenden Beschichtung verbunden sind und Scheitel der Erhebungen sich über die Außenfläche nach außen erstrecken.13. Storage target according to claim 12, characterized in that the bases of the conically shaped elevations are connected to the conductive coating and vertices of the elevations extend outwardly beyond the outer surface. 14. Speichertarget nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die leitenden Erhebungen leitende Partikel aufweisen, die im wesentlichen konisch geformte Punkte formen.14. Storage target according to claim 11, characterized in that the conductive bumps include conductive particles that form substantially conically shaped points. 15. Speichertarget nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die leitenden Erhebungen keilförmige kontinuierliche Segmente sind.15. Storage target according to claim 11, characterized in that the conductive bumps are wedge-shaped continuous segments. 16. Speichertarget nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die leitenden Erhebungen keilförmige diskontinuierliche Segmente sind.16. Storage target according to claim 11, characterized in that the conductive bumps are wedge-shaped discontinuous segments. 17. Kathodenstrahlröhre mit einer Frontplatte, an deren Innenfläche sich eine leitende Beschichtung befindet, dadurch gekennzeichnet, daß auf der leitenden Beschichtung eine dielektrische Lage mit einer Matrix abgeschrägter oder verjüngter Öffnungen angeordnet ist, daß in den abgeschrägten oder verjüngten Öffnungen leitende Segmente angeordnet sind,17. Cathode ray tube with a faceplate on its inner surface there is a conductive coating, characterized in that a dielectric Layer with a matrix of beveled or tapered openings is arranged that in the beveled conductive segments are arranged or tapered openings, 409845/0876409845/0876 die mit inneren Enden an die leitende Beschichtung angeschlossen sind und mit äußeren Enden von einer Außenfläche der dielektrischen Lage aus nach auswärts ragen, wobei die leitenden Segmente eine Kollektorelektrode bilden, daß eine Einrichtung vorgesehen ist, um einen Elektronenstrahl hoher Geschwindigkeit auf die dielektrische Lage zu richten und dabei in dieser ein Ladungsraster zu erzeugen, und daß eine Einrichtung vorgesehen ist, um Elektronen niedriger Geschwindigkeit auf die dielektrische Lage zu richten, wobei die Elektronen niedriger Geschwindigkeit von dem Ladungsraster angezogen und dadurch Sekundärelektronen daraus emittiert und von der Kollektorelektrode aufgefangen werden.which are connected with inner ends to the conductive coating and with outer ends from an outer surface of the dielectric layer protrude outward, wherein the conductive segments form a collector electrode that a Means are provided to direct a high speed electron beam onto the dielectric sheet and thereby to generate a charge grid in this, and that a device is provided for electrons of low speed towards the dielectric layer, the low velocity electrons from the charge grid attracted and secondary electrons are thereby emitted and captured by the collector electrode. 18. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß die Matrix abgeschrägter oder verjüngter öffnungen ringförmige Löcher enthält. '18. Cathode ray tube according to claim 17, characterized in that that the matrix of beveled or tapered openings is annular Contains holes. ' 19. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß die Matrix verjüngter öffnungen Kanäle enthält.19. Cathode ray tube according to claim 17, characterized in that that the matrix of tapered openings contains channels. 20. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß die Kanäle kontinuierlich sind.20. Cathode ray tube according to claim 19, characterized in that the channels are continuous. 21. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß die Kanäle diskontinuierlich sind.21. Cathode ray tube according to claim 19, characterized in that that the channels are discontinuous. 22. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet,22. Cathode ray tube according to claim 17, characterized in that 409845/0876409845/0876 daß die leitenden Segmente Partikel aus leitendem Material aufweisen.that the conductive segments comprise particles of conductive material. 23. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß die Frontplatte eben ausgebildet ist.23. Cathode ray tube according to claim 17, characterized in that that the front panel is flat. 24. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß die Frontplatte gewölbt ausgebildet ist.24. Cathode ray tube according to claim 17, characterized in that the front plate is curved. 25. Verfahren zur Herstellung eines für eine Kathodenstrahlröhre geeigneten Speichertargets nach einem der Ansprüche 1-24, dadurch gekennzeichnet, daß eine Lage photopolymerisierbaren Materials mit einer durchweg in ihr verteilten Dispersion leitender Partikel auf eine leitende Beschichtung eines dielektrischen Stützkörpers aufgebracht. Licht, das das polymerisierbare Material unter Polymerisierung desselben in von dem Licht getroffenen Bereichen aktiviert, durch eine Öffnungsmatrix in einer Photomaske geleitet, das photopolymerisierbare Material unter Entfernung des nicht polymerisierten Materials und unter Belassung von Segmenten leitender Partikel ausgewaschen, eine Lage photopolymerisierbaren Materials mit darin dispergierten Leuchtstoffpartikeln auf die leitende Beschichtung und die Segmente leitender Partikel aufgebracht, Licht, das das photopolymerisierbare Material unter Polymerisierung desselben in den Bereichen außer dort, wo sich die Segmente befinden, aktiviert, in das photopolymerisierbare Material eingeleitet; und das photopolymerisierbare25. A method for producing a storage target suitable for a cathode ray tube according to any one of claims 1-24, characterized in that a layer of photopolymerizable material with a dispersion distributed throughout it conductive particles applied to a conductive coating of a dielectric support body. Light that the polymerizable Material activated with polymerisation of the same in areas struck by the light, through an aperture matrix passed in a photomask, the photopolymerizable material with removal of the unpolymerized Material and leaving segments of conductive particles washed out, a layer of photopolymerizable material with phosphor particles dispersed therein applied to the conductive coating and the segments of conductive particles, Light that causes the photopolymerizable material to polymerize in the areas except where the segments are, activated, introduced into the photopolymerizable material; and the photopolymerizable A09845/0876A09845 / 0876 Material unter Entfernung des nicht polymerisierten Materials unter Belassung von Leuchtstoffschichten ausgewaschen wird.Material with removal of the unpolymerized material is washed out leaving phosphor layers. 26. Verfahren nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß die Segmente leitender Partikel der Behandlung mit einem Schrumpfmittel ausgesetzt werden, um die leitenden Partikel stärker zu verdichten.26. The method according to claim 25, characterized in that the segments of conductive particles are treated with a shrink agent be exposed to more densify the conductive particles. 27. Verfahren nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß die Leuchtstofflage der Behandlung mit einem Schrumpfmittel aus- · gesetzt wird, um die Lage unter Freilegung einer größeren Fläche der Segmente von den Segmenten wegschrumpfen zu lassen.27. The method according to claim 25, characterized in that the fluorescent layer of the treatment with a shrink agent is set to allow the layer to shrink away from the segments, exposing a larger area of the segments. KN/sg5KN / sg5 409845/0876409845/0876 ftft LeerseiteBlank page
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