WO2003012529A2 - Objektiv, insbesondere projektionsobjectiv für die halbleiter-lithographie - Google Patents

Objektiv, insbesondere projektionsobjectiv für die halbleiter-lithographie Download PDF

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    • G03F7/70825Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports

Definitions

  • the invention relates to a lens, in particular a projection lens for semiconductor lithography with optical elements such as lenses and mirrors.
  • the individual objective parts e.g. Lenses and mirrors can be set up with very high absolute accuracy both in the spatial coordinates and in the angular coordinates to one another.
  • Optical elements previously used e.g. Lenses for lenses have a centering collar on the outside diameter and an upper and a lower surface, with a reference and sealing collar, as references for installation in the lens.
  • a lens is aligned so that its optical axis runs perpendicularly through the two reference surfaces of the frame.
  • the lens is "balled" exactly with respect to its optical axis and then glued to the mount.
  • an offset to the mechanical axis of the flange or the socket cannot be avoided.
  • the offset of the optical axis of the lens to the centering collar on the mount is measured in terms of magnitude and angular position, and is then appropriately maintained during assembly in the lens. This is often sufficient, since each frame generally rests on the previous one and then only has to be centered laterally.
  • a catadioptric lens With a catadioptric lens, however, it is necessary to measure the angular position of the individual lens groups relative to one another over a larger distance between a central body and the frames.
  • Known measuring machines such as gantry or column measuring machines with tactile measuring keys, are used, which may also be provided with an optical measuring system for absolute location and angle determination.
  • Flat mirrors are used to measure the reference surfaces of the respective optical element.
  • lens groups of a catadioptric lens in an assembly in which the optical axis at least approximately extends horizontally and a vertical "assembly in which the optical axis extends in the vertical direction, it is provided to adjust a reference surface by means of a plane mirror. Then the plane mirror must be replaced with the respective lens group.
  • the present invention is therefore based on the object of avoiding the above-mentioned disadvantages of a lens, in particular of creating a lens of the type mentioned at the outset by which the adjustment is simplified, and possible sources of error are also to be reduced.
  • the reference surfaces according to the invention which are arranged on the optical element itself or on its mount, make it possible to directly adjust a group of lenses or mirrors, and without having to go through plane mirrors and the subsequent subsequent exchange, which can always lead to errors .
  • the reflecting surface integrated in or on the optical element for example a mirror surface, can be produced simultaneously with the optical element or with the holder. After the known gluing-in process of a lens, the reflecting surface can also be parallel to reference collars of the mount and thus perpendicular to the optical axis with a corresponding arrangement.
  • the reflecting surface makes it possible to make an exact adjustment of the respective lens part to one or more specific reference points in the lens. This can e.g. by an optical measuring system with measuring beams generated by an interferometer or an autocollimation telescope. It is only necessary to design the size of the reflecting surface in accordance with the desired adjustment accuracy and the existing accuracy of the measuring means.
  • Figure 1 is a schematic diagram of a measuring machine for measuring and adjusting optical elements built into a frame structure of an object
  • FIG. 2 shows a half section through a lens with the reflective surface according to the invention on the mount; and
  • FIG. 3 shows a basic illustration of a catadioptric objective.
  • a measuring machine 1 e.g. a portal measuring machine of a known type has a measuring table 2 as a granite block, which has a vertical measuring bore 3 with a transverse bore 4 in the lower region.
  • An autocollimation telescope 5 is flanged onto the end of the transverse bore 4.
  • an interferometer can of course also be used.
  • a deflection mirror 6 is arranged at the point at which the measuring bore 3 meets the transverse bore 4. With the aid of the deflecting mirror 6 and a plane mirror (not shown) which is placed on the surface of the measuring table 2 via the measuring bore 3, the auto-collimation telescope 5 can be initially calibrated on the surface of the measuring table 2 as a reference surface 7.
  • the upper component of the objective with the upper frame structure 8a is placed on the measuring table with its reference surface 7 in a first step.
  • the underside of the frame structure 8b also serves as a reference surface 9.
  • a prism body 10 is inserted into the upper frame structure 8a.
  • an optical assembly 11 with a curved mirror 11a and one or more lenses 11b is flanged to the side.
  • the underside of the prism body 10 is used as an auxiliary surface by means of the autocollimation onsfernrohrs 5 aligned (see the beam path a in Figure 1).
  • the auxiliary surface is used in optics production with a corresponding mean accuracy compared to the front surfaces of the prism body. 10 manufactured. In this way, the prism body 10 is aligned within the horizontal plane with a corresponding accuracy.
  • the lens group 11 is then aligned with the curved mirror 11a to the autocollimation telescope 5 (see beam path b in FIG. 1).
  • the optical beam emanating from the autocollimation telescope 5 must be reflected back in itself.
  • This is created by expanding the diameter of the curved mirror 11a, which is located outside the optically effective region, because a reflected surface in the form of a mirror surface is formed on the diameter extension as a reference surface 12.
  • the reflective surface is in an area outside the area required for an image. It is therefore only necessary that the beam path b is selected so that it strikes the annular mirror surface 12. In this way, the entire optical assembly 11 with its optically effective surfaces can be aligned precisely with respect to their angular position.
  • the necessary adjustment or the measurement of the distance of the optical assembly 11 from the tip of the prism body 10 can be carried out by a measuring head 13 of the measuring machine 1 which can be moved in the direction of the arrow on the measuring table 3 and by known measurements with one or more active measuring elements 14.
  • a separate, precisely controlled lifting table 15 can be used to precisely shift the optical assembly 11 on the outer surface or an interface surface of the upper frame structure 8a according to the direction of action represented by an arrow serve who attacks on the underside of the optical assembly 11 and raises or lowers it accordingly.
  • a lens or a lens group 16 is placed on the upper frame structure 8a.
  • the lens 16 or, in the case of a lens group, the lens 16 lying next to the measuring table 2 is likewise provided in the region of its mount 17 with a reference surface in the form of a mirror surface 12 as a reflecting surface.
  • the lens 16 is then precisely aligned by means of the mirror surface 12. For this purpose, it is only necessary to direct the measuring beam c accordingly onto the mirror surface 12.
  • Sealing and reference collars 18 on the undersides and the upper sides of the mount 17 of lenses 16 also serve this purpose in a known manner.
  • the reference collars 18, which have a very high flatness area, are exactly perpendicular to the optical axis 19. in the case of the compound 'of the lens 16 with the frame 17 is to ensure that the switching on or sticking to contact surfaces 20 of the socket takes place so 17 that the optical axis 19 perpendicular to the reference surfaces 18 lies.
  • the mirror surface 12 Since the mirror surface 12 has been applied to one of the reference frets 18, for which purpose the corresponding reference collar 18 is widened to such an extent that there is a sufficiently large ring surface for reflection of the measuring beams b and c, the mirror surface 12 is thus also perpendicular to the optical axis 19 In general, a width of the mirror surface 12 of approximately 5 mm will be sufficient (see enlarged representation in FIG. 2). For the lateral displacement of the lens 16 for the desired adjustment, the latter has a centering collar 21 on the outer circumference, to which actuators (not shown) act for displacement. can.
  • the refractive part 22 built into the lower frame structure 8b can be measured and adjusted.
  • the two frame structures 8a and 8b can then be composed in any manner.
  • mirror surfaces 12 for a curved mirror 11a and the mount 17 of a lens 16 are only written for one measuring method with the measuring machine 1, it is of course clear that within the scope of the invention optical elements that are compatible with the reflecting surface according to the invention, e.g. of the mirror surface 12, can also be used in some other way for an exact adjustment or location and angle determination of the respective optical element.
  • the mirror surface 12 can e.g. be taken into account in the manufacture already in the manufacture of the mount 17 and the lens 16 or the curved mirror 11a.
  • the mirror surface 12 can e.g. with a coating in a galvanic manner, e.g. with nickel or chrome, as a highly reflective layer (in FIG. 2 the coating of the mirror surface 12 is shown greatly enlarged for reasons of clarity). Before the coating is applied, the corresponding surface or area of the holder 17 will be mechanically finely machined, e.g. by lapping.
  • the surface is polished for good reflection. Finally, the lens seat, lower reference surface 18 and centering collar 21 are turned. In this process, the mirror surface 12 is thus automatically aligned with the lens support.

Abstract

Bei einem Objektiv, insbesondere einem Projektionsobjektiv für die Halbleiter-Lithographie, mit optischen Elementen, wie Linsen (16) und Spiegel (lla), ist wenigstens ein Teil der optischen Elemente (16, 11a) mit einer reflektierenden Fläche ausserhalb des optisch wirksamen Bereiches als Referenzfläche (12) zur Justierung des optischen Elementes innerhalb des Objektives (8) versehen.

Description

Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für die Halbleiter-Lithographie
Die Erfindung betrifft ein Objektiv, insbesondere ein Projektionsobjektiv für die Halbleiter-Lithographie mit optischen Elementen, wie Linsen und Spiegeln.
Beim Zusammenbau eines Objektives, insbesondere eines Projek- tionsobjektives in der Halbleiter-Lithographie, zur Herstellung von Halbleiterelementen, müssen die einzelnen Objektivteile, wie z.B. Linsen und Spiegel, mit sehr hoher absoluter Genauigkeit sowohl in den Ortskoordinaten als auch in den Winkelkoordinaten zueinander eingerichtet werden.
Bisher verwendete optische Elemente, z.B. Fassungen von Linsen, besitzen einen Zentrierbund am Außendurchmesser und eine obere und eine untere Fläche, mit einem Referenz- und Dichtbund, als Referenzen für einen Einbau im Objektiv. Eine Linse wird dabei so ausgerichtet, daß ihre optische Achse senkrecht durch die beiden Referenzflächen der Fassung geht. Hierzu wird die Linse bezüglich ihrer optischen Achse exakt "eingekugelt" und dann mit der Fassung verklebt. Dabei ist jedoch ein Offset zur mechanischen Achse des Flansches bzw. der Fassung nicht zu vermeiden. Aus diesem Grund wird der Versatz der optischen Achse der Linse zum Zentrierbund an der Fassung in Betrag und Winkellage gemessen und dann bei der Montage ins Objektiv entsprechend vorgehalten. Häufig ist dies ausreichend, da jede Fassung im allgemeinen auf der vor- herigen aufliegt und dann nur noch lateral zentriert werden muß .
Bei einem katadioptrischen Objektiv ist es jedoch erforderlich, über einen größeren Abstand zwischen einem Zentralkör- per und den Fassungen die Winkellage der einzelnen Linsengruppen zueinander zu messen. Hierzu können bekannte Meßma- schinen, z.B. Portal- oder Ständermeßmaschinen mit taktilen Meßtasten, verwendet werden, die gegebenenfalls noch mit einem optischen Meßsystem zur absoluten Orts- und Winkelbestimmung versehen sind. Zur Vermessung der Referenzflächen des jeweiligen optischen Elementes werden dabei Planspiegel benützt .
Zur Justage von Linsengruppen eines katadioptrischen Objektives in einer Baugruppe, in der die optische Achse wenigstens annähernd horizontal verläuft und mit einer vertikalen "Baugruppe, in der die optische Achse in vertikaler Richtung verläuft, ist es vorgesehen, eine Referenzfläche mit Hilfe eines Planspiegels zu justieren. Anschließend muß der Planspiegel gegen die jeweilige Linsengruppe ausgetauscht werden.
Nachteilig dabei ist, daß durch den Austausch des bzw. der Planspiegel gegen die jeweilige Linsengruppe nicht nur ein höherer Montageaufwand erforderlich ist, sondern daß darüber hinaus neue Fehlerquellen auftreten können.
Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, bei einem Objektiv die vorstehend genannten Nachteile zu vermeiden, insbesondere ein Objektiv der eingangs erwähnten Art zu schaffen, durch das die Justage vereinfacht wird, wobei außerdem mögliche Fehlerquellen reduziert werden sollen.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch die im kennzeichnenden Teil von Anspruch 1 genannten Merkmale gelöst.
Durch die erfindungsgemäßen Referenzflächen, die an dem optischen Element selbst oder an dessen Fassung angeordnet sind, ist es möglich, eine Linsen- oder Spiegelgruppe direkt zu justieren und zwar ohne den Umweg über Planspiegel und einem daraus resultierenden anschließenden Austauschen, was immer zu Fehlern führen kann. Die in bzw. an dem optischen Element integrierte reflektierende Fläche, z.B. eine Spiegelfläche, kann gleichzeitig mit dem optischen Element oder mit der Fassung hergestellt werden. Nach dem bekannten Einklebevorgang einer Linse kann auch die reflektierende Fläche bei einer entsprechenden Anordnung parallel zu Referenzbünden der Fassung und damit senkrecht zur optischen Achse liegen.
Durch die reflektierende Fläche ist es damit möglich, eine exakte .Justage des jeweiligen Objektivteiles zu einem oder mehreren bestimmten Referenzpunkten in dem Objektiv vorzunehmen. Dies kann z.B. durch ein optisches Meßsystem mit von einem Interferometer oder einem Autokollimationsfernrohr erzeugten Meßstrahlen erfolgen. Es ist lediglich erforderlich, die Größe der reflektierenden Fläche entsprechend der gewünschten Justiergenauigkeit und der vorhandenen Genauigkeit der Meßmittel auszulegen.
Von Vorteil ist auch, daß für eine spätere Kontrolle der Win- kellage der eingebauten optischen Elemente die Referenz durch die entsprechenden Referenzflächen, z.B. Spiegelflächen bereits im Objektiv 8 vorhanden ist. Somit ist eine spätere Kontrolle ohne großen Aufwand möglich.
Nachfolgend ist ein Ausführungsbeispiel der Erfindung anhand der Zeichnung prinzipmäßig beschrieben.
Es zeigt:
Figur 1 eine Prinzipdarstellung einer Meßmaschine zum Vermessen und Justieren von in eine Rahmenstruktur eines Obj ektives eingebauten optischen Elementen ;
Figur 2 einen Halbschnitt durch eine Linse mit der erfin- dungsgemäßen reflektierenden Fläche an der Fassung; und Figur 3 .eine Prinzipdarstellung eines katadioptrischen Objektives .
Eine Meßmaschine 1, z.B. eine Portal-Meßmaschine, bekannter Bauart weist einen Meßtisch 2 als Granitblock auf, der eine vertikale Meßbohrung 3 mit einer Querbohrung 4 im unteren Bereich aufweist. Am Ende der Querbohrung 4 ist ein Autokolli- mationsfernrohr 5 angeflanscht. Anstelle eines Autokollimati- onsfernrohrs 5 kann selbstverständlich auch ein Interferome- ter verwendet werden. An der Stelle, an der sich die Meßbohrung 3 mit der Querbohrung 4 trifft, ist ein Umlenkspiegel 6 angeordnet. Mit Hilfe des Umlenkspiegels 6 und eines Planspiegels (nicht dargestellt) , der auf die Oberfläche des Meß- tisches 2 über die Meßbohrung 3 gelegt wird, kann das Auto- kollimationsfernrohr 5 zu Beginn auf die Oberfläche des Meßtisches 2 als Referenzfläche 7 eingeeicht werden. Auf diese Weise ist man dann in der Lage, mit dem Autokollimationsfern- rohr 5 zu vermessende Flächen stets absolut zu der Meßfläche 7 zu referenzieren. Vermessen werden soll mit der Meßmaschine 1 der obere Teil eines Objektives 8, wobei die optischen Elemente in eine obere Rahmenstruktur 8a und eine untere Rahmenstruktur 8b eingesetzt werden.
Zum Zusammenbau des Objektives 8 bzw. zum Einbau der optischen Teile des Objektives wird in einem ersten Schritt das obere Bauteil des Objektives mit der oberen Rahmenstruktur 8a auf den Meßtisch mit seiner Referenzfläche 7 aufgesetzt. Die Unterseite der Rahmenstruktur 8b dient ebenfalls als Refe- renzflache 9.
In die obere Rahmenstruktur 8a wird ein Prismenkörper 10 eingesetzt. Gleichzeitig wird eine optische Baugruppe 11 mit einem gekrümmten Spiegel 11a und ein oder mehreren Linsen 11b seitlich angeflanscht. Anschließend wird die Unterseite des Prismenkörpers 10 als Hilfsfläche mittels des Autokollimati- onsfernrohrs 5 ausgerichtet (siehe hierzu den Strahlengang a in Figur 1) . Die Hilfsfläche wird in der Optikfertigung mit einer entsprechenden Mittelgenauigkeit gegenüber den vorderen Flächen des Prismenkörpers. 10 hergestellt. Auf diese Weise wird der Prismenkörper 10 innerhalb der horizontalen Ebene mit einer entsprechenden Genauigkeit ausgerichtet.
Anschließend wird die Linsengruppe 11 mit dem gewölbten Spiegel 11a zu dem Autokollimationsfernrohr 5 ausgerichtet (siehe Strahlengang b in Figur 1) . Hierzu muß der von dem Autokolli- mationsfernrohr 5 ausgehende optische Strahl in sich zurückreflektiert werden. Dies wird durch eine Durchmessererweiterung des gekrümmten Spiegels 11a, die sich außerhalb des optisch wirksamen Bereiches befindet, geschaffen, denn auf der Durchmessererweiterung ist eine reflektierte Fläche in Form einer Spiegelfläche als Referenzfläche 12 gebildet. Mit anderen Worten: Die reflektierende Fläche befindet sich in einem Bereich außerhalb des für eine Abbildung erforderlichen Bereichs. Es ist somit lediglich erforderlich, daß der Strah- lengang b so gewählt wird, daß er auf die ringförmige Spiegelfläche 12 trifft. Auf diese Weise läßt sich dann die gesamte optische Baugruppe 11 mit ihren optisch wirksamen Flächen entsprechend genau bezüglich ihrer Winkellage ausrichten.
Die erforderliche Justage bzw. die Messung des Abstandes der optischen Baugruppe 11 von der Spitze des Prismenkörpers 10 kann durch einen auf dem Meßtisch 3 entsprechend in Pfeilrichtung verfahrbaren Meßkopf 13 der Meßmaschine 1 und durch bekannte Messungen mit ein oder mehreren taktiven Meßgliedern 14 erfolgen.
Zur exakten Verschiebung der optischen Baugruppe 11 an der Außenfläche bzw. einer Interfacefläche der oberen Rahmen- Struktur 8a gemäß der durch einen Pfeil dargestellten Wirkrichtung, kann ein separater exakt gesteuerter Hubtisch 15 dienen, der an der Unterseite der optischen Baugruppe 11 angreift und diese entsprechend hebt oder senkt.
Anschließend wird eine Linse oder eine Linsengruppe 16 auf die obere Rahmenstruktur 8a aufgelegt. Die Linse 16 bzw. bei einer Linsengruppe, die dem Meßtisch 2 zunächstliegende Linse 16, ist im Bereich ihrer Fassung 17 ebenfalls mit einer Referenzfläche in Form einer Spiegelfläche 12 als reflektierende Fläche versehen. Mittels der Spiegelfläche 12 wird dann die Linse 16 exakt ausgerichtet. Hierzu ist es lediglich erforderlich, den Meßstrahl c entsprechend auf die Spiegelfläche 12 zu richten.
Wie ersichtlich, lassen sich auf diese Weise die einzelnen optischen Elemente bzw. die Bauteile des Objektives 8 sowohl im Ort als auch im Winkel absolut mit hoher Genauigkeit vermessen und einrichten. Hierzu dienen in bekannter Weise auch Dicht- und Referenzbünde 18 auf den Unterseiten und den Oberseiten der Fassung 17 von Linsen 16. Gleiches gilt selbstver- ständlich auch für den gekrümmten Spiegel 11a der Baugruppe 11. Die Referenzbünde 18, die eine sehr hohe Ebenheitsfläche besitzen, liegen exakt senkrecht zur optischen Achse 19. Bei der Verbindung 'der Linse 16 mit der Fassung 17 ist darauf zu achten, daß das Ein- bzw. Ankleben an Anlageflächen 20 der Fassung 17 so erfolgt, daß die optische Achse 19 senkrecht zu den Referenzflächen 18 liegt. Da die Spiegelfläche 12 auf eine der Referenzbünde 18 aufgebracht worden ist, wozu der entsprechende Referenzbund 18 so stark verbreitert wird, daß sich eine genügend große Ringfläche für eine Reflexion der Meßstrahlen b und c ergibt, liegt die Spiegelfläche 12 somit ebenfalls senkrecht zur optischen Achse 19. Im allgemeinen wird eine Breite der Spiegelfläche 12 von ca. 5 mm ausreichend sein (siehe vergrößerte Darstellung in der Figur 2). Zur lateralen Verschiebung der Linse 16 für die gewünschte Justage besitzt diese am Außenumfang einen Zentrierbund 21, an dem nicht dargestellte Aktuatoren zur Verschiebung angrei- fen können .
Auf ähnliche Weise kann der in die untere Rahmenstruktur 8b eingebaute refraktive Teil 22 vermessen und justiert werden. Die Zusammensetzung der beiden Rahmenstrukturen 8a und 8b kann anschließend auf beliebige Weise erfolgen.
Obwohl die Verwendung der Spiegelflächen 12 für einen gekrümmten Spiegel 11a und die Fassung 17 einer Linse 16 nur für ein Meßverfahren mit der Meßmaschine 1 geschrieben ist, ist es selbstverständlich klar, daß im Rahmen der Erfindung optische Elemente, die mit der erfindungsgemäßen reflektierenden Fläche, z.B. der Spiegelfläche 12, versehen sind, auch auf andere Weise für eine exakte Justage bzw. Orts- und Win- kelbestimmung des jeweiligen optischen Elementes verwendet werden können.
Die Spiegelfläche 12 kann z.B. in der Fertigung bereits bei der Herstellung der Fassung 17 und der Linse 16 bzw. des ge- krümmten Spiegels 11a entsprechend berücksichtigt werden. So kann die Spiegelfläche 12 z.B. mit einer Beschichtung auf galvanische Weise, z.B. mit Nickel oder Chrom, als eine gut reflektierende Schicht aufgebracht werden (in der Figur 2 ist aus Übersichtlichkeitsgründen die Beschichtung der Spiegel- fläche 12 stark vergrößert dargestellt) . Vor Aufbringen der Beschichtung wird man die entsprechende Fläche bzw. einen entsprechenden Bereich der Fassung 17 mechanisch fein bearbeiten, z.B. durch Läppen.
Nach Aufbringen der Beschichtung wird die Fläche für eine gute Reflexion poliert. Abschließend werden Linsensitz, untere Referenzfläche 18 und Zentrierbund 21 fertig gedreht. Bei diesem Ablauf ist die Spiegelfläche 12 somit automatisch zur Linsenauflage ausgerichtet.

Claims

Patentansprüche :
Objektiv mit optischen Elementen, wie Linsen und Spiegel, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens ein Teil der optischen Elemente (16,11a) jeweils mit einer reflektierenden Fläche außerhalb des optisch wirksamen Bereiches, als Referenzfläche (12) zur Justierung des optischen Elementes innerhalb des Objektives oder innerhalb einer Baugruppe eines Objektives versehen ist.
2. Objektiv mit optischen Elementen, wie Linsen und Spiegel, die in Fassungen gelagert sind, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens ein Teil der Fassungen (17) der optischen Elemente (16, 11a) jeweils mit einer reflektierenden Flä- ehe (12) zur Justierung des optischen Elementes innerhalb des Objektives oder innerhalb einer Baugruppe eines Objektives versehen ist.
3. Objektiv nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Referenzfläche (12) senkrecht zur optischen Achse
(la) liegt.
4. Objektiv nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Referenzfläche (12) als Spiegelfläche ausgebildet ist.
5. Objektiv nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß bei einer Linse (16) als optischem Element die Referenzfläche (12) parallel zu einem oder mehreren Referenz- bünden (18) der Fassung (17) ausgerichtet ist.
6. Objektiv nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Referenzfläche (12) durch Läppen und Polieren eines Teiles der Fassung gebildet ist.
7. Objektiv nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Referenzfläche (12) durch die Beschichtung wenigstens eines Teiles der Fassung (17) gebildet ist.
8. Objektiv nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung Nickel oder Chrom aufweist.
9. Optisches Element, insbesondere Linse oder Spiegel, gekennzeichnet durch eine reflektierende Fläche (12) außerhalb des optisch wirksamen Bereiches, wobei sich die re- flektierende Fläche (12) an dem optischen Element befindet .
10. Optisches Element, insbesondere Linse oder Spiegel mit einer Fassung, gekennzeichet durch eine reflektierende Fläche (12) an der Fassung (17) .
11. Objektiv nach Anspruch 1, als Projektionsobjektiv für die Halbleiter-Lithographie, zur Herstellung von Halbleiterelementen.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109324382B (zh) * 2018-09-19 2021-03-26 北京空间机电研究所 一种基于经纬仪的高精度平面反射镜装调方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4348090A (en) * 1980-06-03 1982-09-07 Nippon Kogaku K.K. Inverted Galilean finder
WO1986005281A1 (en) * 1985-03-01 1986-09-12 Fjw Industries, Inc. Objective lens system, relay lens system, and eyepiece lens system for night-vision goggles
US4659225A (en) * 1984-04-17 1987-04-21 Canon Kabushiki Kaisha Pattern exposure apparatus with distance measuring system
WO1999066542A1 (fr) * 1998-06-17 1999-12-23 Nikon Corporation Procede et dispositif d'exposition
DE10015953A1 (de) * 1999-03-31 2000-10-26 Sony Corp Linsenhalter, Verfahren zur Herstellung eines Linsenhalters, Metallstempel für die Herstellung eines Linsenhalters und Objektivlinsenvorrichtung
US6160628A (en) * 1999-06-29 2000-12-12 Nikon Corporation Interferometer system and method for lens column alignment
US6208407B1 (en) * 1997-12-22 2001-03-27 Asm Lithography B.V. Method and apparatus for repetitively projecting a mask pattern on a substrate, using a time-saving height measurement

Family Cites Families (111)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3077958A (en) * 1961-09-05 1963-02-19 United Aircraft Corp Zero thermal expansion device
US3802781A (en) * 1972-08-15 1974-04-09 D Wright Extensometers
US3837125A (en) * 1973-09-04 1974-09-24 Celestron Pacific Method and system for making schmidt corrector lenses
US3917385A (en) * 1973-09-19 1975-11-04 Rockwell International Corp Simplified micropositioner
US3879105A (en) * 1974-04-04 1975-04-22 Jenoptik Jena Gmbh Telescope with an image reversing system
US4060315A (en) * 1975-07-07 1977-11-29 Rockwell International Corporation Precision mirror mount
US4038971A (en) * 1975-10-22 1977-08-02 Bezborodko Joseph A I B Concave, mirrored solar collector
US4092518A (en) * 1976-12-07 1978-05-30 Laser Technique S.A. Method of decorating a transparent plastics material article by means of a laser beam
US4195913A (en) * 1977-11-09 1980-04-01 Spawr Optical Research, Inc. Optical integration with screw supports
US4162120A (en) * 1977-12-02 1979-07-24 Ford Aerospace & Communications Corp. Thermal compensator linkage
US4236296A (en) 1978-10-13 1980-12-02 Exxon Research & Engineering Co. Etch method of cleaving semiconductor diode laser wafers
US4277141A (en) * 1979-03-28 1981-07-07 Tropel, Inc. Multifaceted mirror and assembly fixture and method of making such mirror
US4202605A (en) * 1979-04-05 1980-05-13 Rockwell International Corporation Active segmented mirror
US4268122A (en) * 1979-06-21 1981-05-19 Keeler Brass Company Outside rear view mirror
US4226507A (en) * 1979-07-09 1980-10-07 The Perkin-Elmer Corporation Three actuator deformable specimen
US4295710A (en) * 1979-09-04 1981-10-20 Rockwell International Corporation Deformable mirror with dither
US4380391A (en) * 1980-09-30 1983-04-19 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Short pulse CO2 laser for ranging and target identification
US4403421A (en) * 1980-11-13 1983-09-13 Shepherd Daniel R Telescopic gun sight
US4408874A (en) * 1981-05-07 1983-10-11 Computervision Corporation Projection aligner with specific means for bending mirror
US4389115A (en) * 1981-08-06 1983-06-21 Richter Thomas A Optical system
US4537473A (en) * 1982-11-05 1985-08-27 Corning Glass Works Fiducial surfaces
DE3323828C2 (de) * 1983-07-01 1986-01-16 Messerschmitt-Bölkow-Blohm GmbH, 8012 Ottobrunn Laserwarnsensor
US4871237A (en) * 1983-07-27 1989-10-03 Nikon Corporation Method and apparatus for adjusting imaging performance of projection optical apparatus
JP2516194B2 (ja) * 1984-06-11 1996-07-10 株式会社日立製作所 投影露光方法
US4969726A (en) 1985-06-03 1990-11-13 Northrop Corporation Ring laser gyro path-length-control mechanism
US4672439A (en) * 1985-09-04 1987-06-09 Texas Instruments Incorporated FLIR imager with hybrid optical/electronic processor
DE3544429A1 (de) 1985-12-16 1987-06-19 Juwedor Gmbh Verfahren zur galvanoplastischen herstellung von schmuckwaren
US4953965A (en) * 1985-12-26 1990-09-04 Toshiba Machine Company, Ltd. High-accuracy traveling table apparatus
US4705369A (en) 1986-03-21 1987-11-10 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Mirror mount
US4722592A (en) * 1986-12-29 1988-02-02 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Motorized-axis-angular fine adjustment prism mount
US4740276A (en) * 1987-05-08 1988-04-26 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Fabrication of cooled faceplate segmented aperture mirrors (SAM) by electroforming
US4849668A (en) * 1987-05-19 1989-07-18 Massachusetts Institute Of Technology Embedded piezoelectric structure and control
AT393925B (de) * 1987-06-02 1992-01-10 Ims Ionen Mikrofab Syst Anordnung zur durchfuehrung eines verfahrens zum positionieren der abbildung der auf einer maske befindlichen struktur auf ein substrat, und verfahren zum ausrichten von auf einer maske angeordneten markierungen auf markierungen, die auf einem traeger angeordnet sind
US4932778A (en) * 1987-06-22 1990-06-12 Pioneer Data Processing, Inc. Autokinesis free optical instrument
US4865454A (en) * 1987-11-24 1989-09-12 Kaman Aerospace Corporation Adaptive optical system with synchronous detection of wavefront phase
US4826304A (en) * 1988-04-11 1989-05-02 Gte Government Systems Corporation Adjustable optical mounting assembly
US4932770A (en) * 1988-12-20 1990-06-12 Caravaty Raymond D Dual plane rear vision mirror
US5026977A (en) * 1989-04-05 1991-06-25 The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. Wavefront sensing and correction with deformable mirror
JP2975642B2 (ja) * 1989-06-13 1999-11-10 住友電気工業株式会社 ハーメチックコートファイバとその製造方法
US4959531A (en) * 1989-09-29 1990-09-25 Eastman Kodak Company Alignment sensing and correcting assembly for an optical element
FR2656079B1 (fr) * 1989-12-20 1994-05-06 Etat Francais Delegue Armement Lunette episcopique modulable et reconfigurable.
US5074654A (en) 1990-08-22 1991-12-24 Litton Systems, Inc. Hydraulic actuators for optical systems
US5079414A (en) * 1990-10-09 1992-01-07 Gte Government Systems Corporation Tracking telescope using an atomic resonance filter
NL9100421A (nl) * 1991-03-08 1992-10-01 Asm Lithography Bv Ondersteuningsinrichting met een kantelbare objecttafel alsmede optisch lithografische inrichting voorzien van een dergelijke ondersteuningsinrichting.
US5132979A (en) * 1991-08-16 1992-07-21 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Laser frequency modulator for modulating a laser cavity
US5428482A (en) * 1991-11-04 1995-06-27 General Signal Corporation Decoupled mount for optical element and stacked annuli assembly
US5157555A (en) 1991-12-04 1992-10-20 General Electric Company Apparatus for adjustable correction of spherical aberration
US5210650A (en) * 1992-03-31 1993-05-11 Eastman Kodak Company Compact, passively athermalized optical assembly
US5438451A (en) * 1992-09-25 1995-08-01 Schweizer; Bruno Linearly fine-adjustable stage
US5400184A (en) * 1992-10-29 1995-03-21 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Kinematic high bandwidth mirror mount
US5414557A (en) * 1992-11-30 1995-05-09 Itt Corporation Reticle apparatus for night vision devices
US6252334B1 (en) * 1993-01-21 2001-06-26 Trw Inc. Digital control of smart structures
US5485053A (en) * 1993-10-15 1996-01-16 Univ America Catholic Method and device for active constrained layer damping for vibration and sound control
US5537262A (en) * 1993-10-19 1996-07-16 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Rotational torque setting apparatus for screw mechanism
JP2891074B2 (ja) * 1993-12-10 1999-05-17 三菱電機株式会社 反射鏡固定装置
US6154000A (en) * 1994-09-07 2000-11-28 Omnitek Research & Development, Inc. Apparatus for providing a controlled deflection and/or actuator apparatus
US5529277A (en) * 1994-09-20 1996-06-25 Ball Corporation Suspension system having two degrees of rotational freedom
EP0703575B1 (de) * 1994-09-22 2003-01-22 Ricoh Company, Ltd Informationsaufzeichnungsverfahren und -vorrichtung
US6341006B1 (en) * 1995-04-07 2002-01-22 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
US5870133A (en) * 1995-04-28 1999-02-09 Minolta Co., Ltd. Laser scanning device and light source thereof having temperature correction capability
US5724017A (en) * 1995-07-31 1998-03-03 General Electric Company Electrical transformer with reduced core noise
JPH09152505A (ja) * 1995-11-30 1997-06-10 Sharp Corp 変形可能ミラー及びその製造方法及び光学装置並びに記録再生装置
US5694257A (en) 1996-05-06 1997-12-02 New Focus, Inc. Rotary beamsplitter prism mount
JPH1020197A (ja) * 1996-06-28 1998-01-23 Nikon Corp 反射屈折光学系及びその調整方法
US5894370A (en) * 1996-07-26 1999-04-13 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Inclination monitoring system
JPH1054932A (ja) * 1996-08-08 1998-02-24 Nikon Corp 投影光学装置及びそれを装着した投影露光装置
WO2004092799A1 (ja) 1996-08-26 2004-10-28 Hitoshi Umetsu 光学系要素の固定装置
JP3695494B2 (ja) * 1996-11-13 2005-09-14 セイコーエプソン株式会社 光変調デバイス、その製造方法および表示装置
US5891317A (en) * 1997-02-04 1999-04-06 Avon Products, Inc. Electroformed hollow jewelry
US6128122A (en) * 1998-09-18 2000-10-03 Seagate Technology, Inc. Micromachined mirror with stretchable restoring force member
JPH10282392A (ja) * 1997-04-08 1998-10-23 Asahi Optical Co Ltd プラスチックレンズ
WO1999005708A1 (fr) * 1997-07-22 1999-02-04 Nikon Corporation Procede d'exposition pour projection, dispositif de cadrage pour projection, et procedes de fabrication et de nettoyage optique du dispositif de cadrage
DE19735831A1 (de) 1997-08-18 1999-02-25 Zeiss Carl Fa Galvanoplastische Optik-Fassung
US6054784A (en) * 1997-12-29 2000-04-25 Asm Lithography B.V. Positioning device having three coil systems mutually enclosing angles of 120° and lithographic device comprising such a positioning device
JPH11224839A (ja) * 1998-02-04 1999-08-17 Canon Inc 露光装置とデバイス製造方法、ならびに該露光装置の光学素子クリーニング方法
DE19807120A1 (de) * 1998-02-20 1999-08-26 Zeiss Carl Fa Optisches System mit Polarisationskompensator
US6108121A (en) * 1998-03-24 2000-08-22 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Micromachined high reflectance deformable mirror
DE19825716A1 (de) * 1998-06-09 1999-12-16 Zeiss Carl Fa Baugruppe aus optischem Element und Fassung
US5986795A (en) 1998-06-15 1999-11-16 Chapman; Henry N. Deformable mirror for short wavelength applications
US5986827A (en) 1998-06-17 1999-11-16 The Regents Of The University Of California Precision tip-tilt-piston actuator that provides exact constraint
TWI242113B (en) * 1998-07-17 2005-10-21 Asml Netherlands Bv Positioning device and lithographic projection apparatus comprising such a device
FR2783055B1 (fr) * 1998-09-04 2000-11-24 Essilor Int Support pour lentille optique, et son procede de mise en oeuvre
US6521892B2 (en) * 1998-10-09 2003-02-18 Thomson-Csf Optronics Canada Inc. Uncooled driver viewer enhancement system
US6856392B1 (en) * 1998-11-09 2005-02-15 Canon Kabushiki Kaisha Optical element with alignment mark, and optical system having such optical element
US6296811B1 (en) * 1998-12-10 2001-10-02 Aurora Biosciences Corporation Fluid dispenser and dispensing methods
DE19859634A1 (de) * 1998-12-23 2000-06-29 Zeiss Carl Fa Optisches System, insbesondere Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie
JP2001044116A (ja) * 1999-01-20 2001-02-16 Asm Lithography Bv 光学補正板、およびリソグラフィ投影装置でのその応用
DE19904152A1 (de) * 1999-02-03 2000-08-10 Zeiss Carl Fa Baugruppe aus einem optischen Element und einer Fassung
JP2000234906A (ja) * 1999-02-15 2000-08-29 Koji Masutani 反射部材移動装置および前記反射部材移動装置を使用する光路長周期的増減装置
DE19908554A1 (de) * 1999-02-27 2000-08-31 Zeiss Carl Fa Verstellbare Baugruppe
DE19910947A1 (de) * 1999-03-12 2000-09-14 Zeiss Carl Fa Vorrichtung zum Verschieben eines optischen Elementes entlang der optischen Achse
DE69901596T2 (de) * 1999-03-29 2003-01-16 Abb T & D Tech Ltd Geräuscharmer Transformator
US6428173B1 (en) * 1999-05-03 2002-08-06 Jds Uniphase, Inc. Moveable microelectromechanical mirror structures and associated methods
US6246822B1 (en) * 1999-05-18 2001-06-12 The Boeing Company Fiber-coupled receiver and associated method
DE19930643C2 (de) * 1999-07-02 2002-01-24 Zeiss Carl Baugruppe aus einem optischen Element und einer Fassung
TW442783B (en) 1999-07-09 2001-06-23 Ind Tech Res Inst Folding mirror
JP2001110710A (ja) * 1999-10-08 2001-04-20 Nikon Corp 露光装置、露光方法、および半導体デバイスの製造方法
US6478434B1 (en) 1999-11-09 2002-11-12 Ball Aerospace & Technologies Corp. Cryo micropositioner
JP4482990B2 (ja) 1999-12-10 2010-06-16 株式会社ニコン レンズ保持枠及びレンズ鏡筒
US6614504B2 (en) * 2000-03-30 2003-09-02 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US6411426B1 (en) * 2000-04-25 2002-06-25 Asml, Us, Inc. Apparatus, system, and method for active compensation of aberrations in an optical system
DE10026541A1 (de) * 2000-05-27 2001-11-29 Zeiss Carl Vorrichtung zur präzisen Positionierung eines Bauteils, insbesondere eines optischen Bauteiles
DE10030005A1 (de) * 2000-06-17 2001-12-20 Zeiss Carl Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv in der Halbleiter-Lithographie
KR100493151B1 (ko) * 2000-07-19 2005-06-02 삼성전자주식회사 멀티폴디스 스프링을 이용한 다축 구동을 위한싱글스테이지 마이크로 구동기
US6566627B2 (en) * 2000-08-11 2003-05-20 Westar Photonics, Inc. Laser method for shaping of optical lenses
JP4019160B2 (ja) * 2000-08-21 2007-12-12 富士フイルム株式会社 遠隔操作システム
US6537479B1 (en) * 2000-08-24 2003-03-25 Colbar Art, Inc. Subsurface engraving of three-dimensional sculpture
DE10051706A1 (de) * 2000-10-18 2002-05-02 Zeiss Carl Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes
DE10053899A1 (de) * 2000-10-31 2002-05-08 Zeiss Carl Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes
DE10200366A1 (de) * 2002-01-08 2003-07-17 Zeiss Optronik Gmbh Mehrkanalempfängersystem für winkelaufgelöste Laserentfernungsmessung
US6729062B2 (en) * 2002-01-31 2004-05-04 Richard L. Thomas Mil.dot reticle and method for producing the same

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4348090A (en) * 1980-06-03 1982-09-07 Nippon Kogaku K.K. Inverted Galilean finder
US4659225A (en) * 1984-04-17 1987-04-21 Canon Kabushiki Kaisha Pattern exposure apparatus with distance measuring system
WO1986005281A1 (en) * 1985-03-01 1986-09-12 Fjw Industries, Inc. Objective lens system, relay lens system, and eyepiece lens system for night-vision goggles
US6208407B1 (en) * 1997-12-22 2001-03-27 Asm Lithography B.V. Method and apparatus for repetitively projecting a mask pattern on a substrate, using a time-saving height measurement
WO1999066542A1 (fr) * 1998-06-17 1999-12-23 Nikon Corporation Procede et dispositif d'exposition
DE10015953A1 (de) * 1999-03-31 2000-10-26 Sony Corp Linsenhalter, Verfahren zur Herstellung eines Linsenhalters, Metallstempel für die Herstellung eines Linsenhalters und Objektivlinsenvorrichtung
US6160628A (en) * 1999-06-29 2000-12-12 Nikon Corporation Interferometer system and method for lens column alignment

Also Published As

Publication number Publication date
US7123427B2 (en) 2006-10-17
JP2004537074A (ja) 2004-12-09
DE10136387A1 (de) 2003-02-13
US20040201909A1 (en) 2004-10-14
WO2003012529A3 (de) 2004-01-08

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