EP1580844A1 - Phase shifter with linear polarization and a resonating length which can be varied using mem switches. - Google Patents

Phase shifter with linear polarization and a resonating length which can be varied using mem switches. Download PDF

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EP1580844A1
EP1580844A1 EP05290642A EP05290642A EP1580844A1 EP 1580844 A1 EP1580844 A1 EP 1580844A1 EP 05290642 A EP05290642 A EP 05290642A EP 05290642 A EP05290642 A EP 05290642A EP 1580844 A1 EP1580844 A1 EP 1580844A1
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slot
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resonant
phase
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EP05290642A
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Hervé Legay
Gérard Caille
Alexandre Laisne
David Cadoret
Raphael Gillard
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Thales SA
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Alcatel SA
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01QANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q15/00Devices for reflection, refraction, diffraction or polarisation of waves radiated from an antenna, e.g. quasi-optical devices
    • H01Q15/23Combinations of reflecting surfaces with refracting or diffracting devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01PWAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
    • H01P1/00Auxiliary devices
    • H01P1/18Phase-shifters
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01QANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q21/00Antenna arrays or systems
    • H01Q21/0006Particular feeding systems
    • H01Q21/0018Space- fed arrays

Landscapes

  • Variable-Direction Aerials And Aerial Arrays (AREA)
  • Waveguide Aerials (AREA)
  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
  • Waveguide Switches, Polarizers, And Phase Shifters (AREA)

Abstract

The phase shifter has a slot radiator (FR) provided with micro electromechanical systems (DC). The systems are to be placed in two different states permitting and prohibiting respectively creation of a short circuit intended to vary a characteristic resonating length of the slot radiator, in order to shift a phase of wave reflected by the phase shifter. An independent claim is also included for a reflectarray antenna comprising a phase shifter.

Description

L'invention concerne le domaine des antennes réseau réflecteur (ou « reflectarray antennas »), et plus particulièrement les cellules déphaseuses qui équipent de telles antennes.The invention relates to the field of reflector array antennas (or "Reflectarray antennas"), and more particularly the phase-shifter cells who equip such antennas.

Les antennes réseau réflecteur constituent l'une des deux principales familles d'antennes réseau, l'autre famille étant constituée des antennes réseau à commande de phase (ou « Phased Array Antennas »). Ces antennes réseaux sont particulièrement intéressantes du fait qu'elles peuvent être reconfigurées, par exemple pour permettre le passage d'une zone de couverture (ou « spot ») à une autre.Antenna reflector network is one of the two main families of antennas network, the other family consisting of antennas phased array (or "Phased Array Antennas"). These network antennas are particularly interesting because they can be reconfigured, for example to allow the passage of a zone of cover (or "spot") to another.

Une antenne réseau réflecteur est constituée d'éléments rayonnants chargés d'intercepter avec des pertes minimales des ondes, comportant des signaux à transmettre, délivrées par une source primaire, afin de les réfléchir dans une direction choisie, appelée direction de pointage. Afin de permettre la reconfigurabilité du diagramme d'antenne, chaque élément rayonnant est équipé d'un dispositif de contrôle de phase avec lequel il constitue une cellule déphaseuse passive ou active.A reflector array antenna consists of radiating elements intercepted with minimal losses of waves, including signals to be transmitted, delivered by a primary source, in order to reflect them in a chosen direction, called the pointing direction. In order to allow reconfigurability of the antenna pattern, each radiating element is equipped with a phase control device with which it constitutes a cell passive or active phase shifter.

Par « cellule déphaseuse » on entend ici aussi bien les structures à cavité et fente rayonnantes que les structures planaires résonantes à pavé rayonnant (ou « patch »).By "phase-shifting cell" is meant here as well the structures to cavity and radiating slit as planar resonant structures to paved radiating (or "patch").

L'invention vise plus particulièrement les cellules déphaseuses actives, à polarisation linéaire. Celles-ci comportent généralement une cellule déphaseuse pourvue soit d'un interrupteur (ou commutateur) constitué de diodes (généralement de type PIN), ou de MESFETs, ou encore de varactors, soit de moyens de commande mécanique (comme par exemple un moteur chargé de déplacer un barreau de diélectrique).The invention more particularly targets phase-shifting cells active, linearly polarized. These usually include a cell phase shifter provided with either a switch (or switch) consisting of diodes (usually PIN type), or MESFETs, or varactors, either mechanical control means (for example an engine charged with moving a dielectric bar).

Les cellules déphaseuses à interrupteur consomment une importante quantité d'énergie et sont l'objet de pertes significatives et d'échauffements. Les cellules déphaseuses à commande mécanique sont complexes à mettre en oeuvre, notamment dans le cas de réseaux de grandes tailles, et consommatrices d'énergie. Dans un cas comme dans l'autre, les inconvénients induits par les techniques de commande de phase utilisées limitent les applications des cellules déphaseuses, notamment dans le domaine spatial et plus spécifiquement dans les plateformes d'observation comme par exemple les satellites.Switched phase shifters consume an important amount of energy and are subject to significant losses and overheating. Mechanically controlled phase shifters are complex to put particularly in the case of large networks, and energy consumers. In either case, the disadvantages induced by the phase control techniques used limit the applications of phase-shifting cells, particularly in the space domain and more specifically in observation platforms such as satellites.

L'invention a donc pour but d'améliorer la situation dans le cas des antennes réseau réflecteur à cellules déphaseuses actives à polarisation linéaire.The purpose of the invention is therefore to improve the situation in the case of reflective grating antennas with active polarization phase shifters linear.

Elle propose à cet effet une cellule déphaseuse présentant une longueur résonante caractéristique et comprenant en au moins un endroit choisi un dispositif électromécanique micronique, de type MEMS (pour « Micro ElectroMechanical System »), pouvant être placé dans au moins deux états différents permettant et interdisant respectivement l'établissement d'un court-circuit destiné à faire varier la longueur résonante caractéristique, afin de faire varier le déphasage des ondes à réfléchir qui présentent au moins une polarisation linéaire.For this purpose, it proposes a phase-shifting cell presenting a resonant length characteristic and comprising in at least one place chosen a micron electromechanical device, of the MEMS type (for "Micro ElectroMechanical System"), which can be placed in at least two different states allowing and prohibiting the establishment of a short circuit intended to vary the resonant characteristic length, so to vary the phase shift of the waves to reflect which present at least a linear polarization.

Chaque dispositif MEMS peut par exemple comporter un pont flexible conducteur dont les états sont commandés par deux électrodes de commande sensiblement superposées et dont l'une est constituée par le pont. En variante, chaque dispositif MEMS peut comprendre une poutre flexible conductrice suspendue (ou « cantilever ») dont les états sont commandés par une électrode de commande placée en dessous de sa partie suspendue.Each MEMS device may for example comprise a flexible bridge conductor whose states are controlled by two electrodes of control substantially superimposed and one of which is constituted by the bridge. Alternatively, each MEMS device may comprise a flexible beam suspended conductor (or "cantilever") whose states are controlled by a control electrode placed below its suspended part.

Dans une famille de réalisation, la cellule peut comporter une structure planaire résonante comprenant au moins un pavé supérieur rectangulaire placé sensiblement parallèlement à un plan de masse inférieur, à une distance choisie, le plan de masse inférieur définissant au moins une « pastille » conductrice, par exemple rectangulaire, intégralement entourée d'une zone non conductrice, placée en dessous du pavé supérieur et de dimensions inférieures aux siennes. Dans ce cas, la cellule comporte au moins une traversée métallisée reliant le pavé supérieur à la pastille, et le dispositif MEMS est placé au niveau de la zone non conductrice afin d'établir dans l'un de ses états une liaison entre la pastille et le reste du plan de masse pour contrôler la longueur résonante du pavé supérieur.In a family of embodiments, the cell may comprise a planar resonant structure comprising at least one upper block rectangular placed substantially parallel to a lower ground plane, at a selected distance, the lower ground plane defining at least one Conductive "pad", for example rectangular, fully surrounded a non-conductive zone, placed below the upper pavement and dimensions smaller than his. In this case, the cell less a metallized crossing connecting the upper block to the pellet, and the MEMS device is placed at the level of the non-conductive area in order to establish in one of its states a connection between the pellet and the rest of the ground plane to control the resonant length of the upper pad.

Le plan de masse inférieur peut éventuellement définir au moins deux pastilles (par exemple rectangulaires) intégralement entourées d'une zone non conductrice, placées en dessous du pavé supérieur et de dimensions inférieures aux siennes. Dans ce cas, la cellule comporte au moins deux traversées métallisées reliant respectivement le pavé supérieur à l'une des pastilles, et au moins deux dispositifs MEMS placés chacun au niveau de l'une des zones non conductrices afin d'établir des liaisons entre l'une au moins des pastilles et le reste du plan de masse, permettant ainsi de définir au moins trois longueurs résonantes de pavé supérieur différentes selon leurs états.The lower ground plane can possibly define at least two pellets (for example rectangular) completely surrounded by a zone non-conductive, placed below the upper pad and dimensions less than his. In this case, the cell comprises at least two metallized crossings respectively connecting the upper pavement to one of the pellets, and at least two MEMS devices each placed at the level of one of the non-conducting areas in order to establish links between the one less lozenges and the rest of the ground plane, thus allowing to define at least three resonant lengths of different upper pavement according to their states.

Dans une variante de cette famille de réalisation, la cellule peut comporter un plan de masse supérieur comprenant au moins une fente rayonnante, pourvue d'un dispositif MEMS contrôlant sa longueur résonante caractéristique, un plan de masse inférieur, et des traversées métallisées reliant le plan de masse inférieur à des parties périphériques du plan de masse supérieur afin de définir une cavité résonante. Par exemple, le plan de masse supérieur peut comprendre au moins deux fentes rayonnantes pourvues chacune d'un unique dispositif MEMS contrôlant leur longueur résonante caractéristique. Chaque dispositif MEMS peut alors être préférentiellement placé sensiblement au milieu d'une fente rayonnante. Par ailleurs, les fentes sont préférentiellement sensiblement parallèles entre elles et peuvent présenter des longueurs légèrement différentes. Mais, elles peuvent également avoir une forme courbe, de manière à réaliser ensemble une fente annulaire court circuitée en deux points sensiblement opposés.In a variant of this family of realization, the cell can have a top ground plane including at least one slot radiating, provided with a MEMS device controlling its resonant length characteristic, a lower ground plane, and metallic crossings connecting the lower ground plane to the peripheral parts of the plane of higher mass in order to define a resonant cavity. For example, the plan of upper mass may comprise at least two radiating slots each provided with a single MEMS device controlling their length resonant characteristic. Each MEMS device can then be preferentially placed substantially in the middle of a radiating slot. By elsewhere, the slots are preferably substantially parallel to each other and may have slightly different lengths. But, they can also have a curved shape, so as to achieve together a short annular slot circuited at two substantially opposite points.

En variante, le plan de masse supérieur peut comprendre une fente rayonnante, pourvue d'au moins deux dispositifs MEMS permettant de définir au moins trois longueurs résonantes différentes selon leurs états.Alternatively, the upper ground plane may comprise a slot radiator, provided with at least two MEMS devices for defining at least three different resonant lengths depending on their states.

Par ailleurs, le plan de masse supérieur peut éventuellement comprendre au moins une fente rayonnante rectangulaire présentant des grands côtés parallèles à une première direction, et au moins une autre fente rayonnante rectangulaire présentant des grands côtés parallèles à une seconde direction perpendiculaire à la première, afin de permettre une double polarisation linéaire.Moreover, the higher ground plane can possibly comprise at least one rectangular radiating slot having long sides parallel to a first direction, and at least one other slot radiating rectangular with long sides parallel to a second direction perpendicular to the first, to allow a double linear polarization.

Dans une autre famille de réalisation, la cellule peut comporter une structure planaire résonante comprenant un pavé supérieur placé sensiblement parallèlement à un plan de masse inférieur, à une distance choisie. Dans ce cas, le pavé comporte au moins une fente munie d'au moins un dispositif MEMS contrôlant sa longueur résonante caractéristique.In another family of embodiments, the cell may comprise a planar resonant structure comprising a top paver placed substantially parallel to a lower ground plane at a distance chosen. In this case, the block comprises at least one slot provided with at least a MEMS device controlling its characteristic resonant length.

La cellule peut alors comprendre une unique fente (de longueur demie onde) munie d'au moins deux dispositifs MEMS, permettant de définir au moins trois longueurs résonantes différentes selon leurs états. En variante, le pavé supérieur peut être sensiblement carré, et la cellule peut comprendre au moins une première et une deuxième fentes rectangulaires (de longueur quart d'onde) placées sensiblement en regard l'une de l'autre, débouchant sur deux côtés opposés non rayonnants du carré, et comportant chacune au moins deux dispositifs MEMS permettant de définir au moins trois longueurs résonantes différentes selon leurs états. Dans ce dernier cas, la cellule peut également comprendre au moins de troisième et quatrième fentes rectangulaires (de longueur quart d'onde) placées sensiblement en regard l'une de l'autre, débouchant sur deux autres côtés opposés non rayonnants du carré, et comportant chacune au moins deux dispositifs MEMS, permettant de définir au moins trois autres longueurs résonantes différentes selon leurs états, afin de permettre une double polarisation linéaire. On peut également prévoir plusieurs pavés supérieurs munis chacun d'au moins une demie fente quart d'onde, des paires de demies fentes en regard constituant alors des fentes demie onde.The cell can then comprise a single slot (of length half wave) provided with at least two MEMS devices, allowing to define at least three different resonant lengths depending on their states. In a variant, the upper block may be substantially square, and the cell may comprise at least first and second rectangular slots (in length quarter wave) placed substantially opposite one another, leading to two opposite non-radiating sides of the square, and each having minus two MEMS devices to define at least three lengths resonant different according to their states. In the latter case, the cell can also include at least third and fourth slots rectangular (of quarter-wave length) placed substantially opposite from each other, leading to two other opposite non-radiating sides square, and each having at least two MEMS devices, to define at least three other different resonant lengths according to their states, to allow a linear double polarization. We can also provide several upper pavers each provided with at least half a slot quarter of wave, pairs of half-slots facing each other then constituting half wave slots.

En présence d'un dispositif MEMS à pont et de fente(s) rectangulaire(s), le pont est préférentiellement placé sensiblement parallèlement aux grands côtés de la fente. En revanche, en présence d'un dispositif MEMS à poutre et de fente(s) rectangulaire(s), ladite poutre est préférentiellement placée sensiblement perpendiculairement aux grands côtés de la fente.In the presence of a bridge MEMS device and slot (s) rectangular (s), the bridge is preferably placed substantially parallel to the long sides of the slot. On the other hand, in the presence of a MEMS device with beam and slot (s) rectangular (s), said beam is preferentially placed substantially perpendicular to large sides of the slot.

Par ailleurs, le plan de masse inférieur peut définir un pavé inférieur placé en dessous du pavé supérieur et de dimensions inférieures aux siennes Dans ce cas, la cellule comporte des traversées métallisées qui relient le plan de masse à des parties périphériques du pavé supérieur afin de définir une cavité résonante. Cette structure à pavé et à cavité définit encore une autre famille de cellules déphaseuses.By the way, the lower ground plane can define a lower pavement placed below the upper block and of dimensions smaller than his In this case, the cell comprises metallized vias which connect the plane mass to peripheral parts of the upper pavement in order to define a resonant cavity. This paved and cavity structure defines yet another family of dephasing cells.

L'invention propose également une antenne réseau réflecteur équipée d'au moins deux cellules déphaseuses du type de celles présentées ci-avant.The invention also proposes a reflective array antenna equipped with at least two dephasing cells of the type presented above.

L'invention est particulièrement bien adaptée, bien que de façon non exclusive, aux antennes de télécommunication géostationnaires en bande Ku (12 à 18 GHz), à couverture reconfigurable (changement de position orbitale, adaptation du trafic), et aux antennes radar en bande C (4 à 8 GHz) ou en bande X (8 à 12 GHz), en particulier pour les radars de type SAR (radars à ouverture synthétique).The invention is particularly well adapted, although in a non exclusive, to Ku-band geostationary telecommunication antennas (12 to 18 GHz), with reconfigurable coverage (change of orbital position, adaptation of traffic), and to C-band radar antennas (4 to 8 GHz) or X band (8 to 12 GHz), in particular for SAR-type radars (radar synthetic opening).

D'autres caractéristiques et avantages de l'invention apparaítront à l'examen de la description détaillée ci-après, et des dessins annexés, sur lesquels :

  • la figure 1 illustre de façon schématique, dans une vue du dessus, un premier exemple de réalisation d'une cellule déphaseuse selon l'invention,
  • la figure 2 est une vue en coupe transversale selon l'axe II-II de la cellule déphaseuse de la figure 1,
  • la figure 3 illustre de façon schématique, dans une vue du dessus, un deuxième exemple de réalisation d'une cellule déphaseuse selon l'invention,
  • la figure 4 est une vue en coupe transversale selon l'axe IV-IV de la cellule déphaseuse de la figure 3,
  • la figure 5 illustre de façon schématique, dans une vue du dessus, un troisième exemple de réalisation d'une cellule déphaseuse selon l'invention,
  • la figure 6 est une vue en coupe transversale selon l'axe VI-VI de la cellule déphaseuse de la figure 5,
  • la figure 7 illustre de façon schématique, dans une vue du dessus, un quatrième exemple de réalisation d'une cellule déphaseuse selon l'invention,
  • la figure 8 est une vue en coupe transversale selon l'axe VIII-VIII de la cellule déphaseuse de la figure 7,
  • la figure 9 illustre de façon schématique, dans une vue du dessus, un cinquième exemple de réalisation d'une cellule déphaseuse selon l'invention,
  • la figure 10 illustre de façon schématique, dans une vue du dessus, un sixième exemple de réalisation d'une cellule déphaseuse selon l'invention,
  • la figure 11 est une vue en coupe transversale selon l'axe XI-XI des cellules déphaseuses des figures 10 et 12,
  • la figure 12 illustre de façon schématique, dans une vue du dessus, un septième exemple de réalisation d'une cellule déphaseuse selon l'invention,
  • la figure 13 illustre de façon schématique, dans une vue du dessus, un huitième exemple de réalisation d'une cellule déphaseuse selon l'invention,
  • la figure 14 illustre de façon schématique, dans une vue du dessus, un neuvième exemple de réalisation d'une cellule déphaseuse selon l'invention,
  • la figure 15 illustre de façon schématique, dans une vue du dessus, un dixième exemple de réalisation d'une cellule déphaseuse selon l'invention,
  • la figure 16 illustre de façon schématique, dans une vue du dessus, un onzième exemple de réalisation d'une cellule déphaseuse selon l'invention,
  • la figure 17 est une vue en coupe transversale selon l'axe XVII-XVII de la cellule déphaseuse de la figure 16,
  • la figure 18 est une vue en perspective détaillant une partie de la cellule déphaseuse de la figure 16,
  • la figure 19 illustre de façon schématique, dans une vue du dessus, un douzième exemple de réalisation d'une cellule déphaseuse selon l'invention,
  • la figure 20 est une vue en coupe transversale selon l'axe XX-XX de la cellule déphaseuse de la figure 19,
  • la figure 21 illustre de façon schématique, dans une vue du dessus, un treizième exemple de réalisation d'une cellule déphaseuse selon l'invention, sans ses dispositifs MEMS,
  • la figure 22 illustre de façon schématique, dans une vue du dessus, un quatorzième exemple de réalisation d'une cellule déphaseuse selon l'invention, sans ses dispositifs MEMS,
  • la figure 23 illustre de façon schématique, dans une vue du dessus, un quinzième exemple de réalisation d'une cellule déphaseuse selon l'invention,
  • la figure 24 illustre de façon schématique, dans une vue du dessus, un seizième exemple de réalisation d'une cellule déphaseuse selon l'invention,
  • la figure 25 est une vue en coupe transversale selon l'axe XXV-XXV de la cellule déphaseuse de la figure 24, et
  • la figure 26 est un diagramme illustrant l'évolution du déphasage (Δ en degrés) en fonction de la longueur d'une fente (b en mm), pour plusieurs valeurs différentes de longueur de pavé supérieur (x = 3, 4, 5, 7,5 et 8 mm respectivement en allant du haut vers le bas) et pour une épaisseur de substrat (d').
Other characteristics and advantages of the invention will become apparent upon examination of the following detailed description, and the accompanying drawings, in which:
  • FIG. 1 schematically illustrates, in a view from above, a first embodiment of a phase-shifting cell according to the invention,
  • FIG. 2 is a cross-sectional view along axis II-II of the phase-shifting cell of FIG. 1;
  • FIG. 3 schematically illustrates, in a view from above, a second exemplary embodiment of a phase-shifting cell according to the invention,
  • FIG. 4 is a cross-sectional view along the axis IV-IV of the phase-shifting cell of FIG. 3;
  • FIG. 5 schematically illustrates, in a view from above, a third embodiment of a phase-shifting cell according to the invention,
  • FIG. 6 is a view in cross section along the axis VI-VI of the phase-shifting cell of FIG. 5,
  • FIG. 7 schematically illustrates, in a view from above, a fourth embodiment of a phase-shifting cell according to the invention,
  • FIG. 8 is a cross-sectional view along the axis VIII-VIII of the phase-shifting cell of FIG. 7,
  • FIG. 9 schematically illustrates, in a view from above, a fifth exemplary embodiment of a phase-shifting cell according to the invention,
  • FIG. 10 schematically illustrates, in a view from above, a sixth exemplary embodiment of a phase-shifting cell according to the invention,
  • FIG. 11 is a cross-sectional view along the axis XI-XI of the phase-shifting cells of FIGS. 10 and 12,
  • FIG. 12 schematically illustrates, in a view from above, a seventh embodiment of a phase-shifting cell according to the invention,
  • FIG. 13 schematically illustrates, in a view from above, an eighth embodiment of a phase-shifting cell according to the invention,
  • FIG. 14 schematically illustrates, in a view from above, a ninth embodiment of a phase-shifting cell according to the invention,
  • FIG. 15 schematically illustrates, in a view from above, a tenth exemplary embodiment of a phase-shifting cell according to the invention,
  • FIG. 16 schematically illustrates, in a view from above, an eleventh embodiment of a phase-shifting cell according to the invention,
  • FIG. 17 is a view in cross section along the axis XVII-XVII of the phase-shifting cell of FIG. 16,
  • FIG. 18 is a perspective view detailing a portion of the phase shifter cell of FIG. 16,
  • FIG. 19 schematically illustrates, in a view from above, a twelfth embodiment of a phase-shifting cell according to the invention,
  • FIG. 20 is a cross-sectional view along the axis XX-XX of the phase-shifting cell of FIG. 19,
  • FIG. 21 schematically illustrates, in a view from above, a thirteenth embodiment of a phase-shifting cell according to the invention, without its MEMS devices,
  • FIG. 22 schematically illustrates, in a view from above, a fourteenth embodiment of a phase-shifting cell according to the invention, without its MEMS devices,
  • FIG. 23 schematically illustrates, in a view from above, a fifteenth embodiment of a phase-shifting cell according to the invention,
  • FIG. 24 schematically illustrates, in a view from above, a sixteenth embodiment of a phase-shifting cell according to the invention,
  • FIG. 25 is a cross-sectional view along the axis XXV-XXV of the phase-shifting cell of FIG. 24, and
  • FIG. 26 is a diagram illustrating the evolution of the phase shift (Δ in degrees) as a function of the length of a slot (b in mm), for several different values of greater paver length (x = 3, 4, 5 , 7.5 and 8 mm respectively from top to bottom) and for a substrate thickness (d ').

Les dessins annexés pourront non seulement servir à compléter l'invention, mais aussi contribuer à sa définition, le cas échéant.The accompanying drawings may not only serve to supplement the invention, but also contribute to its definition, if necessary.

L'invention porte sur une cellule déphaseuse active à polarisation linéaire pour une antenne réseau réflecteur active.The invention relates to a polarization-active phase shifter cell linear for an active reflector array antenna.

L'antenne réseau réflecteur peut par exemple être dédiée aux télécommunications, par exemple de type géostationnaire en bande Ku (12 à 18 GHz), à couverture reconfigurable (changement de position orbitale ou adaptation du trafic), ou bien aux radars en bande C (4 à 8 GHz) ou en bande X (8 à 12 GHz), en particulier pour les radars de type SAR (radars à ouverture synthétique), ou encore aux liaisons de type ISL-RF à haut débit, notamment à l'intérieur d'une petite constellation de satellites volant en formation.The reflector array antenna can for example be dedicated to telecommunications, for example of the Ku-band geostationary type (12 to 18 GHz), with reconfigurable coverage (change of orbital position or adaptation of traffic), or to C-band (4 to 8 GHz) or band radars X (8 to 12 GHz), especially for SAR type radars synthetic), or high-speed ISL-RF type links, in particular inside a small constellation of satellites flying in formation.

Dans sa plus grande généralité, une cellule déphaseuse, selon l'invention, comprend en un ou plusieurs endroits choisis un dispositif électromécanique micronique, de type MEMS (pour « Micro ElectroMechanical System »). Chaque dispositif MEMS peut être placé, à l'aide de commandes électriques, dans au moins deux états différents permettant et interdisant respectivement l'établissement d'un court-circuit destiné à faire varier une longueur résonante caractéristique de la cellule, afin de faire varier le déphasage des ondes à réfléchir (provenant de la source de l'antenne) présentant au moins une polarisation linéaire.In its greater generality, a phase-shifting cell, according to the invention comprises in one or more selected locations a device electromechanical micrometer, MEMS type (for "Micro ElectroMechanical System "). Each MEMS device can be placed at using electrical controls, in at least two different states permitting and prohibiting respectively the establishment of a short circuit intended to vary a characteristic resonant length of the cell, in order to to vary the phase shift of the waves to be reflected (from the source of the antenna) having at least one linear polarization.

Une telle cellule déphaseuse peut se décliner selon trois grandes familles selon sa structure rayonnante. Une première famille regroupe les structures à cavité et à fente(s) rayonnantes, une deuxième famille regroupe les structures planaires résonantes à pavés (ou « patches ») et une troisième famille regroupe les structures planaires résonantes à cavité.Such a phase-shifting cell can be divided into three major families according to its radiant structure. A first family groups together cavity and slit (s) radiating structures, a second family groups together resonant planar paved structures (or "patches") and a third family groups planar resonant cavity structures.

On se réfère tout d'abord aux figures 1 à 9 pour décrire des exemples de réalisation de cellules déphaseuses appartenant à la première famille.Reference is first made to Figures 1 to 9 to describe examples of phase-shifting cells belonging to the first family.

Sur les figures 1 et 2 se trouve illustré un premier exemple de cellule déphaseuse CD comprenant un substrat SB comportant une face « arrière » (ou « inférieure »), solidarisée à un plan de masse « inférieur » PM1, et une face « avant » (ou « supérieure »), solidarisée à un plan de masse « supérieur » PM2.In FIGS. 1 and 2 is illustrated a first example of a cell CD phase shifter comprising a substrate SB having a "rear" face (or "lower"), secured to an "inferior" ground plane PM1, and a face "before" (or "superior"), solidarized to a plane of mass "Superior" PM2.

Le substrat SB est par exemple réalisé en Duroïd ou TMM et présente une épaisseur d égale, par exemple, à λ/4, où λ est la longueur d'onde dans le vide des ondes à réfléchir, provenant de la source de l'antenne.The SB substrate is for example made of Duroid or TMM and has a thickness d equal, for example, to λ / 4, where λ is the length wave in the void of the waves to be reflected, coming from the source of the antenna.

Les plans de masse inférieur PM1 et supérieur PM2 sont raccordés électriquement entre eux par l'intermédiaire de trous (ou traversées) métallisés TM formés dans le substrat SB. Ces plans sont par exemple réalisés à partir de substrats en alumine, en silicium ou en verre qui, du fait de leurs faibles épaisseurs (typiquement 500 µm) doivent être rapportés sur un substrat SB en Duroïd ou TMM de manière à permettre l'obtention d'une épaisseur égale à λ/4. Les trous métallisés TM sont préférentiellement implantés à la périphérie des plans de masse inférieur PM1 et supérieur PM2 de manière à définir une cavité résonante.The ground planes lower PM1 and higher PM2 are connected electrically between them via holes (or bushings) TM metallized formed in SB substrate. These plans are for example made from alumina, silicon or glass substrates which, because of their their small thicknesses (typically 500 μm) must be reported on a SB substrate in Duroid or TMM so as to allow obtaining a thickness equal to λ / 4. The metallized holes TM are preferentially implanted at the periphery of the lower mass planes PM1 and higher PM2 in order to define a resonant cavity.

Deux techniques peuvent être envisagées pour réaliser cet assemblage. Une première technique consiste à superposer un substrat en Duroïd (ou Metclad), par exemple d'épaisseur égale à environ 3 mm, sur un substrat en alumine, par exemple d'épaisseur égale à environ 0,254 mm, puis à déposer un plan de masse inférieur PM1 sur la face inférieure du substrat en Duroïd et un plan de masse supérieur PM2, sur la face supérieure du substrat en alumine, ledit plan de masse supérieur PM2 étant localement interrompu par les fentes. Une seconde technique consiste à n'utiliser qu'un substrat en Duroïd (ou Metclad), par exemple d'épaisseur égale à environ 2 ou 3 mm, puis à former sur sa face supérieure des portions d'un plan de masse intermédiaire dans lesquelles sont formées des lignes de commande de tension, puis à rapporter sur cette face supérieure des portions de substrats en alumine, par exemple d'épaisseur égale à environ 0,254 mm, comportant sur une face supérieure un plan de masse supérieur PM2 comportant chacun une ou plusieurs fentes, puis à déposer un plan de masse inférieur PM1 sur la face inférieure du substrat en Duroïd, et enfin à relier les plans de masse inférieur, intermédiaire et supérieur par deux niveaux de trous (ou traversées) métallisés.Two techniques can be envisaged to achieve this assembly. A first technique consists in superimposing a substrate in Duroid (or Metclad), for example with a thickness of about 3 mm, on a alumina substrate, for example with a thickness of approximately 0.254 mm, and then depositing a lower ground plane PM1 on the underside of the substrate in Duroid and an upper ground plane PM2, on the upper face of the alumina substrate, said upper ground plane PM2 being locally interrupted by the slits. A second technique is to use only one substrate Duroid (or Metclad), for example of thickness equal to about 2 or 3 mm, then to form on its upper face portions of a plane of intermediate mass in which control lines are formed of tension, then to report on this upper face portions of alumina substrates, for example with a thickness of approximately 0.254 mm, having on an upper face an upper ground plane PM2 each having one or more slots and then depositing a ground plane lower PM1 on the underside of the Duroid substrate, and finally to connect the lower, middle and upper ground planes by two levels of holes (or traverses) metallized.

Par ailleurs, le plan de masse supérieur PM2 comporte une unique fente rayonnante FR, préférentiellement de forme rectangulaire définie par deux grands côtés (longitudinaux), de longueur b, et deux petits côtés (transversaux), de largeur a.Moreover, the upper ground plane PM2 comprises a single radiating slot FR, preferably of rectangular shape defined by two long sides (longitudinal), of length b, and two short sides (transverse), of width a.

Cette fente rayonnante FR est par exemple réalisée par gravure du plan de masse supérieur PM2.This radiating slot FR is for example made by etching the upper plane of mass PM2.

Par ailleurs, la fente rayonnante FR présente une résonance de type LC parallèle. Les paramètres d'un tel résonateur (fréquence de résonance et bande passante) dépendent principalement des longueur b et largeur a de la fente rayonnante FR, ainsi que de la permittivité εr du substrat SB.Moreover, the radiating slot FR has a resonance of parallel LC type. The parameters of such a resonator (resonant frequency and bandwidth) depend mainly on the length b and width a of the radiating gap FR, as well as the permittivity ε r of the substrate SB.

Plusieurs modes peuvent se propager dans la cavité délimitée par les trous métallisés TM. Chacun de ces modes présente une constante de propagation β propre et une impédance caractéristique Z0 propre. La fréquence de coupure des modes dans la cavité dépend principalement des longueur mx et largeur my des plans de masse inférieur PM1 et supérieur PM2, ainsi que de la permittivité εr du substrat SB. Il est par ailleurs rappelé qu'une résonance verticale peut survenir dans ce type de cavité lorsque son épaisseur d est égale à nλg/2, où n est un entier et λg est la longueur d'onde du (des) mode(s) guidé(s) se propageant dans la cavité. Several modes can propagate in the cavity delimited by the metallized holes TM. Each of these modes has a clean propagation constant β and a characteristic impedance Z 0 of its own. The cut-off frequency of the modes in the cavity depends mainly on the length m x and width m y of the lower mass planes PM1 and higher PM2, as well as the permittivity ε r of the substrate SB. It is also recalled that a vertical resonance can occur in this type of cavity when its thickness d is equal to nλ g / 2, where n is an integer and λ g is the wavelength of the mode (s) ) guided (s) propagating in the cavity.

Par exemple, on peut choisir un réseau de maille carrée dans lequel mx = my = 0,7λ = 8 mm. Dans ce cas, et en présence d'une longueur d'onde λ correspondant à une fréquence de travail de 26,4 GHz, la cavité présente une fréquence de coupure égale à 18,75 GHz et ne fonctionne que dans son mode fondamental, ce qui correspond à une longueur d'onde guidée λg égale à environ 16,14 mm, dans le cas d'une cavité à air.For example, one can choose a square mesh network in which m x = m y = 0.7λ = 8 mm. In this case, and in the presence of a wavelength λ corresponding to a working frequency of 26.4 GHz, the cavity has a cutoff frequency equal to 18.75 GHz and operates only in its fundamental mode, this which corresponds to a guided wavelength λ g equal to approximately 16.14 mm, in the case of an air cavity.

En présence d'une cavité d'épaisseur d égale à λ/4 (soit ici environ λg/5,7), des déphasages pouvant atteindre 360° peuvent être obtenus pour des largeurs a de fente FR comprises entre environ 0,25 mm et environ 1 mm. Par exemple, en présence d'une largeur a égale à 0,5 mm, le point d'inflexion du déphasage est obtenu à la résonance de la fente FR, qui correspond à une longueur b égale à environ 5,5 mm, compte tenu des autres valeurs précitées.In the presence of a cavity with a thickness d equal to λ / 4 (in this case approximately λ g / 5.7), phase shifts of up to 360 ° can be obtained for slot widths FR of between approximately 0.25 mm. and about 1 mm. For example, in the presence of a width equal to 0.5 mm, the point of inflection of the phase shift is obtained at the resonance of the slot FR, which corresponds to a length b equal to about 5.5 mm, taking into account other values mentioned above.

Dans cet exemple de réalisation, la fente rayonnante FR est préférentiellement centrée au milieu du plan de masse supérieur PM2. Mais, il pourrait en être autrement, notamment en présence d'une éventuelle fente parasite complémentaire. Dans ce dernier cas, les fentes sont situées préférentiellement symétriquement par rapport au centre de la cellule.In this embodiment, the radiating slot FR is preferentially centered in the middle of the upper mass plane PM2. But he could be otherwise, especially in the presence of a possible slot complementary parasite. In the latter case, the slots are located preferentially symmetrically with respect to the center of the cell.

Par ailleurs, dans cet exemple de réalisation, la fente rayonnante FR est pourvue de trois dispositifs MEMS DC constituant chacun un commutateur à deux états. Bien entendu, la fente rayonnante pourrait comporter un nombre différent de dispositifs MEMS DC dès lors que celui-ci est au moins égal à un.Moreover, in this exemplary embodiment, the radiating slot FR is provided with three MEMS DC devices each constituting a switch two-state. Of course, the radiating slot could have a number different from MEMS DC devices as long as it is at least equal to one.

Chaque dispositif MEMS DC est ici constitué d'un pont flexible conducteur PT dont les deux extrémités sont solidarisées à des plots de maintien PL eux-mêmes solidarisés à la face supérieure du substrat SB. Ces plots PL sont par exemple réalisés en Or ou en Aluminium et présentent une épaisseur légèrement supérieure à celle du plan de masse supérieur PM2. Le pont flexible PT est réalisé sous la forme d'une lame rendue conductrice, par exemple par une métallisation en Or ou en Aluminium, et installée dans la fente FR sensiblement parallèlement à ses bords longitudinaux.Each MEMS DC device here consists of a flexible bridge PT conductor whose two ends are secured to studs of holding PL themselves secured to the upper face of the substrate SB. These plots PL are for example made of gold or aluminum and have a thickness slightly greater than that of the upper ground plane PM2. The PT flexible bridge is made in the form of a blade made conductive, by example by metallization in gold or aluminum, and installed in the slot FR substantially parallel to its longitudinal edges.

Par ailleurs, chaque dispositif MEMS DC comporte deux électrodes de commande sensiblement superposées, l'une d'entre elles étant constituée par le pont flexible PT, et l'autre étant, par exemple, placée à un niveau supérieur au dessus du pont flexible PT (non représenté), ces deux électrodes étant raccordées à un circuit d'alimentation (non représenté).Moreover, each MEMS DC device comprises two electrodes substantially superimposed control, one of them being constituted by the flexible bridge PT, and the other being, for example, placed at a level above the flexible bridge PT (not shown), these two electrodes being connected to a supply circuit (not shown).

On prévoit également sur la face supérieure du substrat SB, à l'intérieur de la fente rayonnante FR et sensiblement au niveau d'une partie centrale de ses bords longitudinaux, deux petites lignes d'accès LA placées sensiblement en regard l'une de l'autre, perpendiculairement au pont flexible PT, et raccordées électriquement au plan de masse supérieur PM2.It is also provided on the upper face of the substrate SB, the inside of the radiating slot FR and substantially at the level of a part central to its longitudinal edges, two small access lines LA placed substantially facing each other, perpendicular to the flexible bridge PT, and electrically connected to the PM2 upper ground plane.

En présence d'un courant de commande choisi au niveau des électrodes de commande, la partie suspendue du pont PT est attirée vers lesdites lignes d'accès LA. La partie suspendue fléchit alors jusqu'à venir au contact des deux lignes d'accès LA, ce qui génère localement un court-circuit dans la fente rayonnante FR et réduit sa longueur résonante caractéristique (b), qui est sa longueur électrique. Cela constitue l'un des deux états du dispositif MEMS DC.In the presence of a control current selected at the level of control electrodes, the suspended part of the PT bridge is drawn towards said LA access lines. The suspended part then flexes until it comes to contact of the two access lines LA, which locally generates a short circuit in the radiating slot FR and reduces its characteristic resonant length (b), which is its electrical length. This is one of the two states of the DC MEMS device.

En l'absence de courant de commande, le pont PT est éloigné des lignes d'accès LA, si bien que la longueur de la fente rayonnante FR n'est pas perturbée. Cela constitue l'autre état du dispositif MEMS DC.In the absence of control current, the PT bridge is remote from access lines LA, so that the length of the radiating gap FR is not disrupted. This is the other state of the MEMS DC device.

En commandant de façon séparée les différents dispositifs MEMS DC, il est donc possible, dans cet exemple de réalisation, de définir en trois positions différentes trois courts-circuits correspondant à au moins quatre longueurs résonantes différentes pour la fente FR. Bien entendu, les positions des différents dispositifs MEMS DC sont choisies de manière à réaliser une quantification régulière de la loi de phase. Cette contrainte positionnelle privilégie l'implantation des dispositifs MEMS en bord de fente. Ces différentes longueurs résonantes correspondent à des déphasages différents de l'onde réfléchie par la cellule déphaseuse CD.By controlling separately the different MEMS devices DC, it is therefore possible, in this embodiment, to define in three different positions three short circuits corresponding to at least four different resonant lengths for the FR slot. Of course, the positions different MEMS DC devices are chosen so as to achieve a regular quantification of the phase law. This positional constraint favors the implementation of MEMS devices at the edge of the slot. These different resonant lengths correspond to different phase shifts of the wave reflected by the phase shifter cell CD.

Sur les figures 3 et 4 se trouve illustré un deuxième exemple de cellule déphaseuse CD de la première famille. Il s'agit d'une variante de la cellule déphaseuse CD décrite ci-avant en référence aux figures 1 et 2. Plus précisément, ce qui différencie le premier exemple de réalisation du deuxième c'est le mode de réalisation des dispositifs MEMS.In Figures 3 and 4 is illustrated a second example of CD phase shifter cell of the first family. This is a variant of the phase-shifting cell CD described above with reference to FIGS. 1 and 2. More precisely, what differentiates the first embodiment of the second this is the embodiment of the MEMS devices.

Ici, chaque dispositif MEMS DC' comprend une poutre flexible (ou « cantilever ») conductrice PE comportant une extrémité solidarisée à un plot de maintien PL' conducteur, formé dans la fente rayonnante FR le long de l'un des bords longitudinaux et raccordé électriquement au plan de masse supérieur PM2.Here, each MEMS device DC 'comprises a flexible beam (or "Cantilever") conductive PE having an end secured to a stud PL conductor, formed in the radiating slot FR along one longitudinal edges and electrically connected to the ground plane higher PM2.

Ce plot PL' est par exemple réalisé en Or ou en Aluminium et présente une épaisseur légèrement supérieure à celle du plan de masse supérieur PM2, de sorte que la poutre PE soit suspendue au dessus de la fente rayonnante FR et du niveau du plan de masse supérieur PM2. La poutre flexible PE est réalisée sous la forme d'une lame rendue conductrice, par exemple au moyen d'une métallisation en Or ou en Aluminium, installée sensiblement perpendiculairement à ses bords longitudinaux. L'extrémité libre de la poutre PE traverse la fente FR dans sa largeur et déborde légèrement sur le plan de masse supérieur PM2 en un endroit où est préférentiellement placé un plot de contact PLC conducteur électriquement.This pad PL 'is for example made of gold or aluminum and has a thickness slightly greater than that of the ground plane upper PM2, so that the beam PE is suspended above the radiating slot FR and the level of the upper ground plane PM2. Beam flexible PE is made in the form of a blade made conductive, by example using a metallization in gold or aluminum, installed substantially perpendicular to its longitudinal edges. The free end PE beam crosses the slot FR in its width and overflows slightly on the upper mass plane PM2 in a place where is preferentially placed an electrically conductive PLC contact pad.

Par ailleurs, chaque dispositif MEMS DC' comporte une électrode de commande EC' placée en dessous de la partie centrale suspendue de la poutre PE, et raccordée à un circuit d'alimentation (non représenté), une autre électrode étant constituée par la poutre flexible conductrice PE. L'électrode de commande EC' est formée sur la face supérieure du substrat SB, à l'intérieur de la fente rayonnante FR.Moreover, each MEMS device DC 'comprises a EC 'command placed below the suspended central part of the PE beam, and connected to a supply circuit (not shown), another electrode being constituted by the flexible conducting beam PE. The electrode of EC 'command is formed on the upper face of the SB substrate, inside of the radiating gap FR.

En présence d'un courant de commande choisi au niveau de l'électrode de commande EC', la partie suspendue de la poutre PE est attirée vers ladite électrode. Elle fléchit alors jusqu'à ce que son extrémité libre vienne au contact du plot de contact PLC, ce qui génère localement un court-circuit dans la fente rayonnante FR et réduit sa longueur résonante caractéristique (b), qui est sa longueur électrique. Cela constitue l'un des deux états du dispositif MEMS DC'.In the presence of a control current chosen at the level of the control electrode EC ', the suspended part of the beam PE is attracted towards said electrode. She then flexes until her free end come into contact with the PLC contact pad, which locally generates a short circuit in the radiating slot FR and reduces its resonant length characteristic (b), which is its electrical length. This is one of the two states of the MEMS device DC '.

En l'absence de courant de commande, l'extrémité libre de la poutre PE est éloignée du plot de contact PLC, si bien que la longueur de la fente rayonnante FR n'est pas perturbée. Cela constitue l'autre état du dispositif MEMS DC.In the absence of control current, the free end of the beam PE is away from the PLC contact pad, so that the length of the slot radiating FR is not disturbed. This is the other state of the device MEMS DC.

En commandant de façon séparée les différents dispositifs MEMS DC', il est donc également possible, dans cet exemple de réalisation, de définir en trois positions différentes trois courts-circuits correspondant à au moins quatre longueurs résonantes différentes pour la fente FR. Bien entendu, les positions des différents dispositifs MEMS DC' sont choisies de manière à réaliser une quantification régulière de la loi de phase. Ces différentes longueurs résonantes correspondent à des déphasages différents de l'onde réfléchie par la cellule déphaseuse CD.By controlling separately the different MEMS devices DC ', it is therefore also possible, in this embodiment, to define in three different positions three short circuits corresponding to the minus four different resonant lengths for the FR slot. Good understood, the positions of the different MEMS devices DC 'are chosen from in order to carry out a regular quantification of the phase law. These different resonant lengths correspond to different phase shifts of the wave reflected by the phase shifter cell CD.

Dans cet exemple de réalisation, la fente rayonnante FR est pourvue de trois dispositifs MEMS DC'. Mais, la fente rayonnante FR pourrait comporter un nombre différent de dispositifs MEMS DC' dès lors que celui-ci est au moins égal à un.In this embodiment, the radiating slot FR is provided of three DC MEMS devices. But, the radiating slot FR could have a different number of MEMS devices DC 'when this one is at least equal to one.

Sur les figures 5 et 6 se trouve illustré un troisième exemple de cellule déphaseuse CD de la première famille. Dans cet exemple la cellule déphaseuse CD reprend la structure du premier exemple décrit ci-avant en référence aux figures 1 et 2, mais au lieu d'une unique fente rayonnante elle en comporte plusieurs (N = 5), et chaque fente comporte un unique dispositif MEMS DC à pont PT. Bien entendu, le nombre N de fentes rayonnantes illustré n'est pas limitatif. Il peut prendre n'importe quelle valeur supérieure ou égale à deux. Par ailleurs, on peut envisager que l'une au moins des fentes ne soit pas équipée d'un dispositif MEMS.In FIGS. 5 and 6 is illustrated a third example of a cell CD phase shifter of the first family. In this example the cell CD phase shifter takes up the structure of the first example described above in reference to Figures 1 and 2, but instead of a single radiating slot she has several (N = 5), and each slot has a single device MEMS DC with PT bridge. Of course, the number N of radiating slits illustrated is not limiting. It can take any higher value or equal to two. Moreover, it can be envisaged that at least one of the slots is not equipped with a MEMS device.

Les fentes rayonnantes présentent, pour certaines, des longueurs différentes. Plus précisément, dans l'exemple illustré, le plan de masse supérieur PM2 comporte deux fentes rayonnantes d'extrémité FR1, présentant une première longueur résonante caractéristique L1, deux fentes rayonnantes intermédiaires FR2, présentant une deuxième longueur résonante caractéristique L2 supérieure à L1, et une fente rayonnante centrale FR3, présentant une troisième longueur résonante caractéristique L3 supérieure à L2. Dans une variante, les cinq fentes pourraient présenter cinq longueurs différentes.The radiating slots have, for some, lengths different. More precisely, in the illustrated example, the ground plane upper PM2 has two radiating end slots FR1, having a first characteristic resonant length L1, two slots intermediate radiators FR2, having a second length resonant characteristic L2 greater than L1, and a radiating slit central FR3, having a third characteristic resonant length L3 greater than L2. In one variant, the five slots could have five different lengths.

Ici, les cinq fentes rayonnantes FR1 à FR3 sont sensiblement centrées par rapport au milieu du plan de masse supérieur PM2, et leur dispositif MEMS DC à pont PT est également installé en position centrée. Mais, on pourrait faire différemment. En effet, dans l'exemple décrit ci-avant on court circuite les fentes non désirables, mais on pourrait également modifier la longueur résonante de certaines d'entre elles afin d'exciter plusieurs résonances et de bien maítriser le déphasage entre fentes, avec le couplage.Here, the five radiating slots FR1 to FR3 are substantially centered with respect to the middle of the upper mass plane PM2, and their MEMS DC PT bridge device is also installed in centered position. But, we could do differently. Indeed, in the example described above we run around the undesirable slots, but we could also modify the resonant length of some of them to excite several resonances and well control the phase shift between slots, with the coupling.

La distance séparant deux fentes voisines peut être fixe ou variable. Elle varie selon les besoins. Elle est typiquement comprise entre environ 100 µm et 500 µm.The distance separating two adjacent slits may be fixed or variable. It varies according to the needs. It is typically between about 100 μm and 500 μm.

Il s'agit ici de n'utiliser qu'une ou plusieurs fentes rayonnantes en plaçant leurs dispositifs MEMS DC respectifs dans leur second état (non fléchi). La ou les fentes que l'on ne souhaite pas utiliser sont court-circuitées en plaçant leurs dispositifs MEMS DC dans leur premier état (fléchi). La variation de phase de l'onde réfléchie est donc ici obtenue par sélection de l'une des combinaisons de fentes court-circuitées et non court-circuitées. A chaque combinaison correspond en effet un déphasage particulier et discret fonction principalement du rapport entre la plus petite longueur résonante caractéristique et la plus grande longueur résonante caractéristique.This is to use one or more radiating slots in placing their respective MEMS DC devices in their second state (no decreased). The slot or slots that you do not want to use are short-circuited by placing their MEMS DC devices in their first state (flexed). The phase variation of the reflected wave is thus obtained here by selecting one of the combinations of short-circuited and non-short-circuited slots. AT each combination corresponds in fact to a particular and discrete phase shift mainly function of the ratio between the smallest resonant length characteristic and the greatest characteristic resonant length.

Chaque fente court-circuitée en son milieu agit en quelque sorte comme un élément parasite pour la fente non court-circuitée voisine. Il s'agit ici d'exciter plusieurs résonances pour disposer d'une gamme de déphasages acceptable, tout en évitant une réponse très résonante conduisant à des performances faible bande. Le couplage entre les différentes résonances, réalisé par couplage entre une fente et un pavé (ou patch), permet d'atténuer la réponse résonante.Each slot short-circuited in the middle acts as it were as a parasitic element for the neighboring non-shorted slot. It's about here to excite several resonances to have a range of phase shifts acceptable, while avoiding a very resonant response leading to low band performance. The coupling between the different resonances, achieved by coupling between a slot and a pad (or patch), can mitigate the resonant answer.

Sur les figures 7 et 8 se trouve illustré un quatrième exemple de cellule déphaseuse CD de la première famille. Il s'agit d'une variante de la cellule déphaseuse CD décrite ci-avant en référence aux figures 5 et 6.In FIGS. 7 and 8 is illustrated a fourth example of CD phase shifter cell of the first family. This is a variant of the CD phase-shifting cell described above with reference to Figures 5 and 6.

Plus précisément, ce qui différencie le quatrième exemple de réalisation du troisième c'est le mode de réalisation des dispositifs MEMS. Dans cet exemple, chaque dispositif MEMS DC à pont PT est en effet remplacé par un dispositif MEMS DC' à poutre PE, du type de ceux décrits en référence aux figures 3 et 4.More specifically, what differentiates the fourth example of realization of the third is the embodiment of MEMS devices. In this example, each MEMS DC device with a PT bridge is indeed replaced by a MEMS DC 'PE beam device, of the type of those described in reference to Figures 3 and 4.

Le fonctionnement de cette cellule déphaseuse CD est identique à celui de la cellule déphaseuse décrite ci-avant en référence aux figures 5 et 6.The operation of this phase-shifting cell CD is identical to that of the phase-shifting cell described above with reference to FIGS. 5 and 6.

Comme cela est illustré sur le cinquième exemple de la figure 9, il est possible de constituer une cellule déphaseuse CD appartenant à la première famille et adaptée à une double polarisation linéaire.As illustrated in the fifth example of Figure 9, it is possible to form a CD phase-shifting cell belonging to the first family and adapted to a linear double polarization.

Pour ce faire, on utilise au moins une fente rayonnante FRV orientée selon une première direction (« verticale »), et au moins une fente rayonnante FRH orientée selon une seconde direction (« horizontale »), perpendiculaire à la première. Bien entendu, comme illustré sur la figure 9, la cellule déphaseuse CD peut comporter une ou plusieurs fentes rayonnantes FRV et une ou plusieurs fentes rayonnantes FRH, selon les besoins. La cellule est alors préférentiellement rectangulaire et présente une largeur sensiblement égale à la moitié de sa longueur.To do this, at least one radially oriented FRV slot is used in a first direction ("vertical"), and at least one radiating slot HRF oriented in a second ("horizontal") direction, perpendicular to the first one. Of course, as illustrated in FIG. 9, the cell CD phase shifter may have one or more FRV radiating slots and one or more FRH radiating slots as required. The cell is then preferably rectangular and has a width substantially equal to half of its length.

Il est possible d'utiliser des fentes rayonnantes FRV et FRH ne comportant qu'un unique dispositif MEMS à pont PT ou à poutre PE, mais il est cependant préférable d'utiliser des fentes rayonnantes FRV et FRH comportant au moins deux dispositifs MEMS à pont PT ou à poutre PE (comme illustré).It is possible to use FRV and FRH radiating slots having only one MEMS device with PT bridge or PE beam, but however, it is preferable to use FRV and FRH radiating slots having at least two PT bridge or PE beam MEMS devices (as shown).

On se réfère maintenant aux figures 10 à 18 pour décrire des exemples de réalisation de cellules déphaseuses appartenant à la deuxième famille.Reference is now made to Figures 10 to 18 for describing embodiments of phase-shifting cells belonging to the second family.

Sur les figures 10 et 11 se trouve illustré un premier exemple de cellule déphaseuse CD comprenant un substrat SB comportant une face arrière (ou inférieure), solidarisée à un plan de masse inférieur PM1 définissant un pavé (ou « patch ») inférieur, et une face avant (ou supérieure), solidarisée à un plan de masse supérieur définissant un pavé (ou « patch ») supérieur PS. Les pavés supérieur PS et inférieur PM1 définissent une structure planaire résonante.In Figures 10 and 11 is illustrated a first example of CD phase-shifting cell comprising a substrate SB having a face back (or lower), secured to a lower ground plane PM1 defining a lower tile (or "patch"), and a front (or upper) face, solidarized to a higher ground plane defining a block (or "patch") higher PS. The upper PS and lower PM1 tiles define a planar resonant structure.

Le substrat SB est par exemple réalisé en Duroïd ou en TMM et présente une épaisseur d' faible, typiquement de l'ordre de λ/10 à λ/5, où λ est la longueur d'onde dans le vide des ondes à réfléchir, provenant de la source de l'antenne.The SB substrate is for example made of Duroid or TMM and has a thickness of weak, typically of the order of λ / 10 to λ / 5, where λ is the wavelength in the vacuum of the waves to reflect, coming from the source of the antenna.

Le pavé supérieur PS est placé sensiblement parallèlement au plan de masse inférieur PM1 et présente des dimensions inférieures aux siennes. Par exemple, et comme illustré, le pavé supérieur PS est de forme rectangulaire, et préférentiellement carrée.The upper block PS is placed substantially parallel to the plane lower mass PM1 and has dimensions smaller than hers. For example, and as illustrated, the upper PS pad is shaped rectangular, and preferentially square.

Par ailleurs, le pavé supérieur PS comporte une unique fente FP, préférentiellement de forme rectangulaire définie par deux grands côtés (longitudinaux), de longueur b, et deux petits côtés (transversaux), de largeur a.In addition, the upper block PS has a single slot FP, preferentially of rectangular shape defined by two long sides (longitudinal), of length b, and two small sides (transverse), of width at.

Cette fente FP est par exemple réalisée par gravure du plan de masse constituant le pavé supérieur PS.This slot FP is for example made by etching the plane of mass constituting the upper pavement PS.

Dans cet exemple de réalisation, la fente FP est pourvue de trois dispositifs MEMS DC à pont PT constituant chacun un commutateur à deux états, du type de ceux décrits précédemment en référence aux figures 1 et 2. Bien entendu, la fente FP pourrait comporter un nombre différent de dispositifs MEMS DC dès lors que celui-ci est au moins égal à un.In this embodiment, the slot FP is provided with three MEMS DC devices with PT bridge each constituting a two-way switch states, of the type of those described above with reference to Figures 1 and 2. Of course, the FP slot could have a different number of MEMS DC devices as long as it is at least one.

Le principe de fonctionnement de cette cellule déphaseuse CD, et plus précisément de ses dispositifs MEMS DC, est identique à celui décrit précédemment en référence aux figures 1 et 2. Seul l'effet physique impliqué diffère. La fente FP est ici destinée à venir perturber le trajet des courants qui circulent dans le pavé supérieur PS. En faisant varier la longueur de la fente perturbatrice FP, par l'établissement de court(s)-circuit(s) choisi(s) au moyen de l'un au moins des dispositifs MEMS DC placé dans son premier état (fléchi), on fait varier les perturbations de trajet des courants, ce qui fait varier la longueur résonante caractéristique (ou longueur électrique) du pavé supérieur PS et donc le déphasage de l'onde réfléchie.The operating principle of this phase-shifting cell CD, and more precisely of its MEMS DC devices, is identical to that described previously with reference to Figures 1 and 2. Only the physical effect involved differs. The slot FP is here intended to disrupt the path of currents that circulate in the upper pavement PS. By varying the length of the slot FP, by the establishment of short-circuit (s) chosen by means of at least one of the MEMS devices DC placed in its first state (bent), the currents disturbances of the currents are varied, which varies the characteristic resonant length (or electrical length) of the pavement higher PS and therefore the phase shift of the reflected wave.

Il est important de noter que l'invention ne peut ici s'appliquer qu'à condition que le pavé supérieur PS soit résonant à λ/2.It is important to note that the invention can only apply here to condition that the upper PS is resonant at λ / 2.

Sur la figure 12 se trouve illustré un deuxième exemple de cellule déphaseuse CD de la deuxième famille. Il s'agit d'une variante de la cellule déphaseuse CD décrite ci-avant en référence aux figures 10 et 11. Plus précisément, ce qui différencie le premier exemple de réalisation du deuxième c'est le mode de réalisation des dispositifs MEMS.In FIG. 12 is illustrated a second example of a cell CD dephaser of the second family. This is a variant of the cell CD phase shifter described above with reference to Figures 10 and 11. More precisely, what differentiates the first embodiment of the second this is the embodiment of the MEMS devices.

Ici, chaque dispositif MEMS DC' est de type à poutre PE, comme dans l'exemple de réalisation décrit ci-avant en référence aux figures 3 et 4. Par ailleurs, dans cet exemple de réalisation, la fente perturbatrice FP est pourvue de trois dispositifs MEMS DC'. Mais, la fente perturbatrice FP pourrait comporter un nombre différent de dispositifs MEMS DC' dès lors que celui-ci est au moins égal à un. Here, each MEMS device DC 'is of PE beam type, as in the embodiment described above with reference to Figures 3 and 4. Moreover, in this embodiment, the disturbing slot FP is equipped with three MEMS DC devices. But, the disruptive crack FP could have a different number of MEMS devices DC 'when this one is at least equal to one.

Comme cela est illustré sur les figures 13 et 14, on peut envisager au moins des troisième et quatrième exemples de réalisation, variantes des premier et deuxième exemples de réalisation décrits ci-avant en référence aux figures 10 à 12.As illustrated in FIGS. 13 and 14, it is possible to envisage least third and fourth exemplary embodiments, variants of first and second exemplary embodiments described above with reference Figures 10 to 12.

Plus précisément, le troisième exemple illustré sur la figure 13 comporte deux trous (ou traversées) métallisés TM permettant de coupler électriquement le pavé supérieur PS et le plan de masse inférieur PM1 de part et d'autre des deux extrémités opposées de la fente perturbatrice FP. Ces trous métallisés MT sont destinés à alimenter en courant continu le pavé supérieur PS de manière à polariser le dispositif MEMS.More specifically, the third example illustrated in FIG. 13 has two holes (or crossings) metallized TM to couple electrically the upper pavement PS and the lower ground plane PM1 of either side of the two opposite ends of the disturbing slot FP. These MT metallized holes are intended to supply DC power to the pavement higher PS so as to bias the MEMS device.

Dans le quatrième exemple illustré sur la figure 14, le pavé supérieur PS comporte deux petites fentes perturbatrices F1 et F2, dont la résonance correspond approximativement à une longueur égale au quart de la longueur d'onde, placées sensiblement en regard l'une de l'autre et débouchant sur des bords opposés, non rayonnants. Chaque petite fente F1, F2 est munie d'au moins un (ici deux) dispositif MEMS à pont PT (mais il pourrait s'agir d'une poutre PE). Par ailleurs, un trou (ou traversée) métallisé TM permet de coupler électriquement le pavé supérieur PS et le plan de masse inférieur PM1 dans une partie centrale située entre les deux petites fentes perturbatrices F1 et F2. Ce trou métallisé MT est destiné à alimenter en courant continu le pavé supérieur PS de manière à polariser le dispositif MEMS. On peut envisager de réaliser deux petites fentes perturbatrices quart d'onde, ou plus, débouchant sur l'un au moins des côtés non rayonnants.In the fourth example shown in Figure 14, the upper pavement PS has two small disturbing slots F1 and F2, whose resonance is approximately one quarter of the length wave, placed substantially opposite one another and opening onto opposite, non-radiating edges. Each small slot F1, F2 is provided of at least one (here two) MEMS device with PT bridge (but it could be a PE beam). Moreover, a hole (or crossing) metallized TM allows electrically couple the upper PS block and the lower ground plane PM1 in a central part located between the two small slots disruptive F1 and F2. This metallized hole MT is intended to supply direct current the upper pad PS so as to bias the device MEMS. We can consider making two small quarter disruptive slots wave, or more, opening on at least one of the non-radiating sides.

Bien entendu, on peut également envisager que le pavé supérieur PS (sensiblement carré) ne comprenne qu'une fente rectangulaire débouchant sur un côté non rayonnant du carré et comportant au moins deux dispositifs MEMS DC ou DC'.Of course, one can also consider that the PS upper pad (substantially square) includes only a rectangular slot opening on a non-radiating side of the square and having at least two devices MEMS DC or DC '.

Comme cela est illustré sur le cinquième exemple de la figure 15, il est possible de constituer une cellule déphaseuse CD appartenant à la deuxième famille et adaptée à une double polarisation linéaire.As illustrated in the fifth example of Figure 15, it is it is possible to form a phase-shifting cell CD belonging to the second family and adapted to a linear double polarization.

Pour ce faire, on peut par exemple utiliser au moins deux petites fentes perturbatrices F1 et F2 orientées selon une première direction, et au moins deux petites fentes perturbatrices F3 et F4 orientées selon une seconde direction, perpendiculaire à la première. On entend ici par « petite fente » une fente perturbatrice FP du type de celle présentée ci-avant en référence à la figure 14.To do this, one can for example use at least two small disruptive slots F1 and F2 oriented in a first direction, and at minus two small disturbing slots F3 and F4 oriented according to a second direction, perpendicular to the first. Here we mean "small split "a disturbing FP slot of the type shown above in reference to Figure 14.

Il est possible d'utiliser des petites fentes perturbatrices F1 à F4, de longueur quart d'onde, ne comportant qu'un unique dispositif MEMS à pont PT ou à poutre PE, mais il est cependant préférable d'utiliser des petites fentes perturbatrices F1 à F4 comportant au moins deux dispositifs MEMS à pont PT ou à poutre PE (comme illustré). Le nombre de dispositifs MEMS utilisés dans chaque fente dépend du nombre d'états de phase que l'on souhaite obtenir.It is possible to use small disturbing slots F1 to F4, quarter-wave length, with only a single MEMS bridge device PT or PE beam, but it is however preferable to use small disruptive slots F1 to F4 having at least two MEMS devices to PT bridge or PE beam (as shown). The number of MEMS devices used in each slot depends on the number of phase states that one wish to obtain.

Comme dans l'exemple précédent, un trou (ou traversée) métallisé(e) TM permet de coupler électriquement le pavé supérieur PS et le plan de masse inférieur PM1 dans une partie centrale située entre les quatre petites fentes perturbatrices F1 à F4, de longueur quart d'onde. Ce trou métallisé MT est destiné à alimenter en courant continu le pavé supérieur PS de manière à polariser le dispositif MEMS.As in the previous example, a hole (or crossing) metallized TM makes it possible to electrically couple the upper block PS and the plane of lower mass PM1 in a central part located between the four small disruptive slots F1 to F4 of quarter-wave length. This MT metallized hole is intended to supply DC power to the upper pad PS so as to polarize the MEMS device.

Dans les trois derniers exemples de réalisation (figure 13 à 15), l'alimentation du pavé supérieur PS s'effectue au moyen d'au moins un trou métallisé TM. Mais, en variante cette alimentation peut s'effectuer au moyen d'une ligne quart d'onde à forte impédance.In the last three embodiments (FIGS. 13 to 15), the upper PS block is powered by at least one hole Metallic TM. But, as a variant, this feed can be carried out by means of a quarter-wave line with high impedance.

Sur les figures 16 à 18 se trouve illustré un sixième exemple de cellule déphaseuse CD comprenant un substrat SB comportant une face arrière (ou inférieure), solidarisée à un plan de masse inférieur PM1, et une face avant (ou supérieure), solidarisée à un plan de masse supérieur définissant un pavé (ou patch) supérieur PS' de forme rectangulaire. Le pavé supérieur PS' et le plan de masse inférieur PM1 constituent une structure pavée court circuitée qui définit une structure planaire résonante. Il est important de noter que la longueur du pavé supérieur PS est choisie de sorte qu'il soit résonant à λ/4.In Figures 16 to 18 is illustrated a sixth example of CD phase-shifting cell comprising a substrate SB having a face back (or lower), secured to a lower ground plane PM1, and a front (or upper) side, secured to a ground plane upper defining a patch (or patch) upper PS 'shape rectangular. The upper pavement PS 'and the lower ground plane PM1 constitute a short-circuited cobblestone structure that defines a structure planar resonant. It is important to note that the length of the pavement higher PS is chosen so that it is resonant at λ / 4.

Le substrat SB est par exemple réalisé en Duroïd ou en TMM et présente une épaisseur d' faible, typiquement de l'ordre de λ/10 à λ/5, où λ est la longueur d'onde dans le vide des ondes à réfléchir, provenant de la source de l'antenne. The SB substrate is for example made of Duroid or TMM and has a thickness of weak, typically of the order of λ / 10 to λ / 5, where λ is the wavelength in the vacuum of the waves to reflect, coming from the source of the antenna.

Le pavé supérieur PS' est placé sensiblement parallèlement au plan de masse inférieur PM1 et présente des dimensions très inférieures aux siennes au moins selon une direction.The upper pavement PS 'is placed substantially parallel to the plane lower mass PM1 and has much smaller dimensions than at least in one direction.

Comme illustré sur la figure 18, le plan de masse inférieur PM1 comporte au moins une petite « pastille » conductrice PI, isolée de sa propre partie conductrice par une zone non conductrice Z, réalisée par exemple par gravure. Chaque petite pastille conductrice Pl est raccordée électriquement au pavé supérieur PS' par l'intermédiaire d'un trou (ou traversée) métallisé TM. Par ailleurs, chaque petite pastille conductrice Pl est de préférence de forme rectangulaire, et plus préférentiellement carrée.As illustrated in FIG. 18, the lower ground plane PM1 has at least one small conductive "pellet" PI, isolated from its own conductive part by a non-conducting zone Z, made for example by engraving. Each small conductive pad Pl is electrically connected to the upper pavement PS 'via a hole (or crossing) metallized TM. Moreover, each small conductive pad P1 is preferably rectangular shape, and more preferably square.

Chaque trou métallisé TM est raccordé au pavé supérieur PS' en un endroit choisi, les différents endroits étant préférentiellement sensiblement alignés suivant une droite parallèle aux côtés longitudinaux dudit pavé supérieur PS.Each metallized hole TM is connected to the upper pavement PS 'in one chosen place, the different places being preferentially aligned along a straight line parallel to the longitudinal sides of said pavement higher PS.

Par ailleurs, chaque petite pastille conductrice PI est munie d'un dispositif MEMS à pont PT ou à poutre PE (comme illustré sur la figure 18), du type de ceux décrits précédemment. Chaque dispositif MEMS DC' (ou DC) est destiné à établir une liaison électrique entre son petit pavé inférieur Pl et la partie conductrice du plan de masse inférieur PM1, lorsqu'il est placé dans son premier état (fléchi). Ainsi, lorsque l'un des dispositifs MEMS DC' (ou DC) est placé dans son premier état (fléchi), le trou métallisé TM, qui est raccordé à sa petite pastille conductrice Pl, court-circuite le pavé supérieur PS' sensiblement à l'endroit ou il lui est raccordé, ce qui a pour conséquence de faire varier sa longueur résonante caractéristique (ou longueur électrique) et donc le déphasage de l'onde réfléchie.Moreover, each small conductive pad PI is provided with a MEMS device with PT bridge or with PE beam (as illustrated in FIG. 18), of the type described above. Each MEMS device DC '(or DC) is intended to establish an electrical connection between its lower pavement Pl and the conductive part of the lower ground plane PM1, when placed in his first state (bent). So when one of the devices MEMS DC '(or DC) is placed in its first state (flexed), the metallized hole TM, which is connected at its small conductive pad Pl, bypasses the upper pad PS ' substantially at the point where it is connected to it, which has the effect of vary its characteristic resonant length (or electrical length) and therefore the phase shift of the reflected wave.

Cette structure est avantageuse car ses dispositifs étant placés sur la face arrière ils sont davantage protégés des rayonnements.This structure is advantageous because its devices are placed on the backside they are further protected from radiation.

Dans l'exemple illustré sur les figures 16 et 17, cinq trous métallisés TM permettent de définir cinq courts-circuits correspondant à au moins six longueurs résonantes différentes pour le pavé supérieur PS'. Par conséquent, en commandant de façon séparée les différents dispositifs MEMS DC' (ou DC), il est possible d'obtenir plusieurs déphasages différents de l'onde réfléchie par la cellule déphaseuse CD. In the example illustrated in FIGS. 16 and 17, five metallized holes TM make it possible to define five short circuits corresponding to at least six different resonant lengths for the upper pad PS '. Therefore, by separately controlling the different MEMS devices DC '(or DC), it is possible to obtain several different phase shifts of the wave reflected by the CD phase shifter cell.

Bien entendu, la cellule déphaseuse CD peut comporter un nombre de dispositifs MEMS (DC ou DC') différent de cinq, dès lors que celui-ci est au moins égal à un. Le nombre de dispositifs MEMS utilisé dépend du nombre d'états de phase que l'on souhaite obtenir.Of course, the phase-shifting cell CD may comprise a number MEMS devices (DC or DC ') different from five, provided that the latter is less equal to one. The number of MEMS devices used depends on the number of phase states that one wishes to obtain.

Il est important de noter que dans cet exemple de réalisation, à la fréquence de résonance, la somme de la longueur du dipôle « actif » (c'est-à-dire comprise entre le court-circuit et l'autre extrémité du dipôle) et de la longueur du court-circuit doit être égale au quart de la longueur d'onde du mode guidé λg.It is important to note that in this exemplary embodiment, at the resonant frequency, the sum of the length of the "active" dipole (that is to say between the short circuit and the other end of the dipole) and the length of the short-circuit must be equal to one quarter of the wavelength of the guided mode λ g .

Cet exemple de réalisation peut permettre la constitution d'une cellule déphaseuse à double polarisation linéaire, du type de celle illustrée sur la figure 9. Il faut pour ce faire combiner des dipôles « horizontaux » et des dipôles « verticaux » du type de celui décrit ci-avant en référence aux figures 16 à 18.This embodiment may allow the constitution of a cell linear polarization phase shifter, of the type illustrated in FIG. figure 9. To do this, it is necessary to combine "horizontal" dipoles with "vertical" dipoles of the type described above with reference to FIGS. 16 to 18.

On se réfère maintenant aux figures 19 et 20 pour décrire un exemple de réalisation de cellule déphaseuse appartenant à la troisième famille.Reference is now made to Figures 19 and 20 to describe an example of phase-shifting cell belonging to the third family.

Cet exemple de réalisation constitue en quelque sorte une structure intermédiaire entre les exemples de réalisation illustrés sur les figures 5 à 8 et les exemples de réalisation illustrés sur les figures 10 à 12.This exemplary embodiment constitutes, in a way, a structure intermediate between the exemplary embodiments illustrated in FIGS. 5 to 8 and the exemplary embodiments illustrated in FIGS. 10 to 12.

Ici, la cellule déphaseuse CD comprend un substrat SB comportant une face arrière (ou inférieure), solidarisée à un plan de masse inférieur PM1, et une face avant (ou supérieure), solidarisée à un pavé supérieur PS.Here, the phase shifter cell CD comprises a substrate SB comprising a rear face (or lower), secured to a lower ground plane PM1, and a front face (or upper), secured to an upper pad PS.

Le substrat SB est par exemple réalisé en Duroïd ou en TMM et présente une épaisseur d égale à λ/4, où λ est la longueur d'onde dans le vide des ondes à réfléchir, provenant de la source de l'antenne.The SB substrate is for example made of Duroid or TMM and has a thickness d equal to λ / 4, where λ is the wavelength in the vacuum waves to reflect, from the source of the antenna.

Le substrat SB est traversé, sur sa périphérie, par des trous (ou traversées) métallisé(e)s TM raccordés au plan de masse inférieur PM1 et entourant le pavé supérieur PS de manière à définir une cavité résonante. Par exemple, pour un fonctionnement dans la bande Ku, le pavé supérieur PS est un carré de longueur comprise entre environ 15 mm et environ 17 mm.The substrate SB is crossed, on its periphery, by holes (or crossings) TM connected to the lower ground plane PM1 and surrounding the upper pad PS to define a resonant cavity. By example, for operation in the Ku band, the upper pad PS is a square of length between about 15 mm and about 17 mm.

Par ailleurs, le pavé supérieur PS comporte au moins deux (ici cinq) fentes rayonnantes comportant chacune un unique dispositif MEMS (DC ou DC') à pont PT ou à poutre PE. Bien entendu, le nombre N de fentes rayonnantes illustré n'est pas limitatif. Il peut prendre n'importe quelle valeur supérieure ou égale à deux. Par exemple, les fentes présentent un grand côté de longueur comprise entre environ 5 mm et environ 7 mm, et un petit côté de largeur comprise entre environ 0,3 mm et environ 0,7 mm.In addition, the upper block PS has at least two (here five) radiating slots each having a single MEMS device (DC or DC ') with PT bridge or PE beam. Of course, the number N of slots radiating illustrated is not limiting. It can take any value greater than or equal to two. For example, the slots have a large side of length between about 5 mm and about 7 mm, and a small side of width between about 0.3 mm and about 0.7 mm.

Les fentes rayonnantes présentent, pour certaines, des longueurs différentes. Plus précisément, dans l'exemple illustré, le pavé supérieur PS comporte deux fentes rayonnantes d'extrémité FR1, présentant une première longueur résonante caractéristique L1, deux fentes rayonnantes intermédiaires FR2, présentant une deuxième longueur résonante caractéristique L2 supérieure à L1, et une fente rayonnante centrale FR3, présentant une troisième longueur résonante caractéristique L3 supérieure à L2. Dans une variante, les cinq fentes pourraient présenter cinq longueurs différentes.The radiating slots have, for some, lengths different. Specifically, in the example shown, the upper PS block has two radiating end slots FR1, presenting a first resonant length characteristic L1, two radiating slots intermediate FR2, having a second resonant length characteristic L2 greater than L1, and a central radiating slot FR3, having a third characteristic resonant length L3 greater than L2. In one variant, the five slots could have five lengths different.

Ici, les cinq fentes rayonnantes FR1 à FR3 sont sensiblement centrées par rapport au milieu du pavé supérieur PS, et leurs dispositifs MEMS DC à pont PT (ou DC' à poutre PE) sont également installés en position centrée (par exemple).Here, the five radiating slots FR1 to FR3 are substantially centered relative to the middle of the upper PS block, and their devices MEMS DC to PT bridge (or DC 'to PE beam) are also installed in centered position (for example).

Il s'agit ici de n'utiliser qu'une ou plusieurs fentes rayonnantes en plaçant leurs dispositifs MEMS DC respectifs dans leur second état (non fléchi). La ou les fentes que l'on ne souhaite pas utiliser sont court-circuitées en plaçant leurs dispositifs MEMS DC dans leur premier état (fléchi). La variation de phase de l'onde réfléchie est donc ici obtenue par sélection de l'une des combinaisons de fentes court-circuitées et non court-circuitées. A chaque combinaison correspond en effet un déphasage particulier et discret fonction principalement du rapport entre la plus petite longueur résonante caractéristique et la plus grande longueur résonante caractéristique.This is to use one or more radiating slots in placing their respective MEMS DC devices in their second state (no decreased). The slot or slots that you do not want to use are short-circuited by placing their MEMS DC devices in their first state (flexed). The phase variation of the reflected wave is thus obtained here by selecting one of the combinations of short-circuited and non-short-circuited slots. AT each combination corresponds in fact to a particular and discrete phase shift mainly function of the ratio between the smallest resonant length characteristic and the greatest characteristic resonant length.

Chaque fente court-circuitée en son milieu agit en quelque sorte comme un élément parasite pour la fente non court-circuitée voisine. Par conséquent, elle est susceptible d'améliorer la bande passante de la fente non court-circuitée.Each slot short-circuited in the middle acts as it were as a parasitic element for the neighboring non-shorted slot. By therefore, it is likely to improve the bandwidth of the slot not short-circuited.

Dans l'exemple décrit ci-avant on court circuite les fentes non désirables, mais on pourrait procéder différemment. Par exemple, on peut modifier la longueur résonante de certaines fentes afin d'exciter plusieurs résonances et de bien maítriser le déphasage entre fentes, avec le couplage. Cela peut par exemple se faire en plaçant un ou plusieurs (par exemple deux ou trois) dispositifs MEMS, de préférence de type cantilever DC', dans les parties d'extrémités opposées des fentes, et non dans leur partie centrale.In the example described above, the slots which are not desirable, but we could proceed differently. For example, we can modify the resonant length of some slots to excite several resonances and well control the phase shift between slots, with the coupling. This can for example be done by placing one or more (for example two or three) MEMS devices, preferably of the DC 'cantilever type, in the parts of opposite ends of the slots, and not in their central part.

Bien entendu, on peut utiliser des fentes de formes et dimensions sensiblement identiques.Of course, it is possible to use slots of shapes and dimensions substantially identical.

Certains trous (ou traversées) métallisé(e)s TM, par exemple un sur deux, peuvent être avantageusement utilisés pour acheminer les commandes de tension au niveau des différents dispositifs MEMS DC ou DC'.Some holes (or crossings) metallized TM, for example one on two, can be advantageously used to route orders voltage at the different MEMS devices DC or DC '.

Dans ce qui précède, on a décrit des cellules comportant des fentes simples de longueur quart d'onde ou demie onde. Mais, il est possible de réaliser des cellules comportant des fentes composées, comme illustré sur les figures 21 et 22.In the foregoing, cells with slots have been described. simple of quarter-wave or half-wave length. But, it is possible to make cells with compound slots, as shown in the Figures 21 and 22.

Plus précisément, les cellules des exemples de réalisation illustrés sur les figures 21 et 22 reprennent sensiblement la structure des cellules illustrées sur les figures 10 à 12. Ici, chaque fente de longueur demie onde est constituée par deux demies fentes de longueur quart d'onde. Les dispositifs MEMS DC ou DC' ont été volontairement omis afin de ne pas surcharger les dessins.More specifically, the cells of the exemplary embodiments illustrated in FIGS. 21 and 22 substantially show the structure of the cells illustrated in FIGS. 10 to 12. Here, each slot of half-wave length is consisting of two half-slits of quarter-wave length. The devices MEMS DC or DC 'have been voluntarily omitted so as not to overburden the drawings.

Dans l'exemple illustré sur la figure 21, deux pavés supérieurs PS1 et PS2 sont placés sensiblement parallèlement au plan de masse inférieur PM1 et à distance de celui-ci. Ces deux pavés supérieurs PS1 et PS2 sont espacés l'un de l'autre d'une distance choisie de manière à définir entre eux une zone capacitive. Ils présentent des formes différentes et comportent chacun une demie fente quart d'onde FR1, FR2. Ces deux demies fentes FR1 et FR2 constituent ensemble une fente demie onde et une zone inductive dont l'effet est avantageusement compensé (au moins partiellement) par la zone capacitive inter pavés.In the example illustrated in FIG. 21, two upper pavers PS1 and PS2 are placed substantially parallel to the lower ground plane PM1 and away from it. These two upper pavers PS1 and PS2 are spaced from each other by a selected distance so as to define between them a capacitive area. They have different shapes and each a half quarter wave slot FR1, FR2. These two half slits FR1 and FR2 together constitute a half-wave slot and an inductive zone whose effect is advantageously compensated (at least partially) by the inter-paved capacitive area.

Par exemple les pavés présentent une largeur égale à environ 3,7 mm et sont séparés d'une distance, formant une fente, égale à environ 0,1 mm.For example, the pavers have a width equal to about 3.7 mm and are separated by a distance, forming a slot, equal to about 0.1 mm.

Une telle structure dissymétrique offre une réponse en fréquence de bonne stabilité en raison d'un couplage efficace entre les deux résonances. Such an asymmetrical structure offers a frequency response of good stability due to an effective coupling between the two resonances.

Dans l'exemple illustré sur la figure 22, trois pavés supérieurs PS1, PS2 et PS3 sont placés sensiblement parallèlement au plan de masse inférieur PM1 et à distance de celui-ci. Les deux pavés supérieurs PS1 et PS3 sont sensiblement identiques et encadrent le pavé PS2. Par ailleurs, les deux pavés supérieurs PS1 et PS3 comportent chacun une demie fente quart d'onde FR1, FR4, tandis que le pavé supérieur PS2 comporte deux demies fentes quart d'onde FR2 et FR3 débouchant sur deux côtés opposés, l'une placée en regard de la demie fente FR1 du pavé supérieur PS1 et définissant avec elle une première fente demie onde, et l'autre placée en regard de la demie fente FR4 du pavé supérieur PS3 et définissant avec elle une seconde fente demie onde.In the example illustrated in FIG. 22, three upper blocks PS1, PS2 and PS3 are placed substantially parallel to the ground plane lower PM1 and away from it. The two upper pavers PS1 and PS3 are substantially identical and frame the PS2 pad. Moreover, both upper pavers PS1 and PS3 each have half a quarter slit wave FR1, FR4, while the upper pad PS2 has two halves quarter-wave slots FR2 and FR3 opening on two opposite sides, one placed next to the half slot FR1 of the upper block PS1 and defining with it a first half wave slit, and the other placed next to the half slot FR4 of the upper block PS3 and defining with it a second split half wave.

Une telle structure symétrique offre également une réponse en fréquence de bonne stabilité en raison d'un couplage efficace entre les résonances.Such a symmetrical structure also offers an answer in frequency of good stability due to effective coupling between resonances.

De nombreuses autres combinaisons de pavés supérieurs peuvent être envisagées. Ainsi, on peut envisager une combinaison de plusieurs pavés supérieurs séparés les uns des autres par des espaces constituant des fentes de largeurs choisies avec lesquelles ils constituent ce que l'homme de l'art appelle une « croix de Jérusalem ». En réduisant, avec un dispositif MEMS, la largeur des fentes en regard, on peut agir sur la fréquence de résonance d'une telle structure, et ainsi modifier la phase de l'onde réfléchie. Une structure duale, comprenant des lignes métalliques de la forme d'une croix de Jérusalem est notamment décrite dans le document de C. Simovski et al, « High-impedance surfaces with angular and polarization stability », 27th ESA Antenna Technology Workshop on Innovative Periodic Antennas, pp 176-184. La résonance d'une telle structure est principalement assurée par les parties inductives et capacitives propres à la croix de Jérusalem, et non plus par la résonance des pavés. Cette structure, de type dit « métamatériau », fonctionne alors selon des bandes de fréquences beaucoup plus basses.Many other combinations of upper pavers can be envisaged. Thus, it is possible to envisage a combination of several upper pavers separated from one another by spaces constituting slits of selected widths with which they constitute what the person skilled in the art calls a "Jerusalem cross". By reducing, with a MEMS device, the width of the slots opposite, one can act on the resonance frequency of such a structure, and thus modify the phase of the reflected wave. A dual structure comprising metallic lines of the form of a Jerusalem cross is described in particular in C. Simovski et al., High-impedance surfaces with angular and polarization stability, 27 th ESA Antenna Technology Workshop on Innovative Periodic Antennas, pp 176-184. The resonance of such a structure is mainly ensured by the inductive and capacitive parts of the Jerusalem cross, and not by the resonance of the pavement. This structure, called "metamaterial" type, then operates in much lower frequency bands.

Il est également possible d'adjoindre aux cellules déphaseuses, qui comportent au moins un pavé muni d'au moins une fente FP, décrites ci-avant, un ou plusieurs pavés auxiliaires et au moins un dispositif MEMS de couplage, de manière à faire varier la dimension du pavé selon l'une au moins de ses deux directions (X et Y), et de préférence suivant sa longueur X qui est parallèle à la direction définissant la longueur b (ou grand côté) des fentes FP. Une cellule déphaseuse CD de ce type est illustrée sur la figure 23.It is also possible to add to the phase-shifting cells, which comprise at least one block provided with at least one slot FP, described above, one or more auxiliary blocks and at least one MEMS device of coupling, so as to vary the size of the pavement according to at least one of its two directions (X and Y), and preferably along its length X which is parallel to the direction defining the length b (or long side) of the slots FP. A CD phase shifter cell of this type is illustrated in FIG.

Plus précisément, la cellule déphaseuse CD illustrée sur la figure 23 part d'une structure du type de celle illustrée sur les figures 10 à 12. Elle comprend donc un substrat SB comportant une face arrière (ou inférieure), solidarisée à un plan de masse inférieur PM1, et une face avant (ou supérieure), solidarisée à au moins un pavé (ou patch) supérieur PS et à au moins un pavé auxiliaire PA1, PA2. Ici, on a représenté deux pavés auxiliaires PA1 et PA2, placés de part et d'autre de deux côtés parallèles du pavé PS (eux-mêmes parallèles aux grands côtés (Y) de la fente FP). Mais, on pourrait envisager de ne prévoir qu'un seul pavé auxiliaire PA. Par ailleurs, on peut également envisager, en variante ou en complément, de placer un pavé auxiliaire le long de l'un au moins des deux côtés non rayonnants du pavé PS (parallèles au petit côté (X) de la fente FP).More precisely, the phase-shifting cell CD illustrated in FIG. 23 from a structure of the type illustrated in Figures 10 to 12. It therefore comprises a substrate SB having a rear face (or lower), secured to a lower mass plane PM1, and a front face (or upper), secured to at least one block (or patch) upper PS and to minus one auxiliary pad PA1, PA2. Here, there are two auxiliary blocks PA1 and PA2, placed on both sides of two parallel sides of the PS pad (themselves parallel to the long sides (Y) of the FP slot). But, we could consider providing only one auxiliary pad PA. Moreover, we can also consider, alternatively or in addition, to place a paving stone auxiliary along at least one of the two non-radiating sides of the PS block (parallel to the small side (X) of the slot FP).

Les pavés supérieurs PS, PA1 et PA2 et le plan de masse inférieur PM1 définissent une structure planaire résonante.The upper pavers PS, PA1 and PA2 and the lower ground plane PM1 define a resonant planar structure.

La cellule déphaseuse CD comporte également au moins un dispositif MEMS de couplage DC ou DC' installé entre le pavé PS et un pavé auxiliaire PA1, PA2 et chargé d'établir, ou non, un contact entre ces pavés selon l'état dans lequel il est placé.The phase-shifting cell CD also comprises at least one device DC or DC Coupling MEMS 'Installed Between PS Keypad and Auxiliary Keypad PA1, PA2 and responsible for establishing, or not, a contact between these blocks according to the state in which he is placed.

Dans l'exemple illustré le pavé PS est susceptible d'être relié à chaque pavé auxiliaire PA1, PA2 par l'intermédiaire de trois dispositifs MEMS DC', un central et deux d'extrémité. Les deux dispositifs MEMS DC' d'extrémité sont préférentiellement placés de façon symétrique par rapport au centre du pavé auxiliaire PA1, PA2.In the example shown, the PS block is likely to be connected to each auxiliary pad PA1, PA2 via three MEMS devices DC ', a central and two end. The two devices MEMS DC ' end are preferably placed symmetrically with respect to the center of the auxiliary pad PA1, PA2.

Les différents dispositifs MEMS DC' ou DC qui relient le pavé PS à l'un des pavés auxiliaires PA1, PA2 sont préférentiellement commandés par un même courant de commande. En d'autres termes, ils sont préférentiellement placés simultanément dans un même état de manière à assurer soit une liaison électrique, soit une absence de liaison électrique, entre le pavé PS et le pavé auxiliaire PA1, PA2 concerné. The different DC or DC MEMS devices that connect the PS pad to one of the auxiliary blocks PA1, PA2 are preferably controlled by the same control current. In other words, they are preferentially placed simultaneously in the same state so as to ensure either an electrical connection or an absence of an electrical connection, between the PS block and the auxiliary block PA1, PA2 concerned.

Lorsqu'une liaison est établie entre le pavé PS et un pavé auxiliaire PA1, PA2, la longueur physique (suivant X) du pavé PS peut donc être augmentée. En agissant simultanément sur le couple longueur du pavé PS et longueur de la fente FP, on peut alors modifier simultanément le couple déphasage de l'onde incidente, sur une gamme supérieure à 360°, et dispersion de ce déphasage en fréquence. La possibilité de maítriser la dispersion de ce déphasage en fréquence est notamment intéressante pour compenser l'illumination dispersive en fréquence d'un réseau réflecteur plan par une source primaire.When a link is established between the PS block and an auxiliary keypad PA1, PA2, the physical length (according to X) of the PS pad can therefore be increased. By acting simultaneously on the pair length of the PS pad and length of the slot FP, we can then simultaneously change the torque phase shift of the incident wave over a range greater than 360 °, and dispersion of this phase shift in frequency. The possibility of controlling the dispersion of this phase shift in frequency is particularly interesting for to compensate for the frequency-dispersive illumination of a plane reflector by a primary source.

Il est important de noter que plusieurs (au moins deux) pavés auxiliaires, de préférence de mêmes dimensions, peuvent être placés parallèlement les uns aux autres, sur l'un au moins des deux côtés du pavé PS, les pavés étant reliés deux à deux par un ou plusieurs dispositifs MEMS de couplage DC' ou DC, et de préférence trois. Cela permet de faire varier encore plus la longueur physique du pavé PS, en fonction des besoins, en jouant sur les états respectifs des dispositifs MEMS DC' ou DC couplant les pavés auxiliaires.It is important to note that several (at least two) pavers auxiliaries, preferably of the same size, may be placed parallel to each other, on at least one of the two sides of the pavement PS, the tiles being connected in pairs by one or more MEMS devices coupling DC 'or DC, and preferably three. This makes it possible to vary even more the physical length of the PS block, as needed, in playing on the respective states of the MEMS devices DC 'or DC coupling the auxiliary pavers.

Par ailleurs, les pavés auxiliaires qui sont situés de part et d'autre des deux côtés parallèles du pavé PS ne présentent pas obligatoirement les mêmes dimensions. C'est notamment le cas dans l'exemple illustré sur la figure 23, où le pavé auxiliaire PA1 présente une longueur (suivant la direction X) plus grande que celle du pavé auxiliaire PA2, mais une largeur (suivant la direction Y) sensiblement identique à celle du pavé auxiliaire PA2. Par exemple, si la longueur du pavé PS est égale à L, les longueurs des pavés auxiliaires PA1 et PA2 peuvent être respectivement égales à L/2 et L/3.In addition, the auxiliary pavers which are located on both sides of two parallel sides of the PS block do not necessarily have the same dimensions. This is particularly the case in the example illustrated on the Figure 23, where the auxiliary pad PA1 has a length (in the direction X) greater than that of the auxiliary pad PA2, but a width (according to the direction Y) substantially identical to that of the auxiliary pad PA2. By for example, if the length of the PS pad is equal to L, the lengths of the tiles auxiliary PA1 and PA2 can be respectively equal to L / 2 and L / 3.

Comme dans les exemples précédemment décrits, le pavé PS peut comporter un ou plusieurs dispositifs MEMS DC ou DC'. Le nombre de dispositifs MEMS utilisés dépend du nombre d'états de déphasage que l'on souhaite obtenir.As in the examples previously described, the PS block can have one or more MEMS devices DC or DC '. Number of MEMS devices used depends on the number of phase shift states that one wish to obtain.

Ce type de cellule déphaseuse CD permet donc de faire varier dynamiquement, en fonction des besoins, le déphasage et la dispersion de phase en fréquence, ce qui est particulièrement avantageux pour une antenne active (ou reconfigurable). Le choix du déphasage et de la dispersion du déphasage est en effet fixé par la longueur physique du pavé PS et par la longueur électrique de chaque fente FP de chaque pavé PS, selon les états respectifs des différents dispositifs MEMS utilisés.This type of phase-shifting cell CD therefore makes it possible to vary dynamically, as needed, the phase shift and dispersion of frequency phase, which is particularly advantageous for a active antenna (or reconfigurable). The choice of phase shift and dispersion of the phase shift is indeed fixed by the physical length of the PS pad and by the electrical length of each FP slot of each PS pad, according to the states respective MEMS devices used.

Afin de constituer une cellule déphaseuse CD de type passif, pour une antenne non reconfigurable, on peut s'affranchir des dispositifs MEMS au niveau des fentes. Plus précisément, comme illustré sur les figures 24 et 25, on peut utiliser une structure du type de celle illustrée sur les figures 10 à 12, mais sans dispositif MEMS.In order to constitute a passive-type CD phase-shifting cell, for a non-reconfigurable antenna, one can dispense with MEMS devices at level of the slots. More specifically, as illustrated in Figures 24 and 25, a structure of the type illustrated in FIGS. 10 to 12 can be used, but without MEMS device.

Une telle structure CD comprend donc un substrat SB comportant une face arrière (ou inférieure), solidarisée à un plan de masse inférieur PM1, et une face avant (ou supérieure), solidarisée à au moins un pavé (ou patch) supérieur PS comportant au moins une fente FP. Le pavé supérieur PS et le plan de masse inférieur PM1 définissent une structure planaire résonante.Such a structure CD therefore comprises a substrate SB comprising a rear face (or lower), secured to a lower ground plane PM1, and a front face (or upper), secured to at least one block (or patch) PS upper having at least one FP slot. The upper pad PS and the lower mass plane PM1 define a resonant planar structure.

En choisissant judicieusement les dimensions du pavé supérieur PS, et notamment sa longueur x (suivant la direction X), et de la fente FP, et notamment sa longueur b (suivant la direction Y), ainsi que l'épaisseur d du substrat SB, on peut imposer à la fois un déphasage choisi et une dispersion de phase en fréquence choisie.By judiciously choosing the dimensions of the upper PS block, and in particular its length x (in the X direction), and the slot FP, and in particular its length b (in the Y direction), as well as the thickness d of substrate SB, it is possible to impose both a chosen phase shift and a dispersion selected frequency phase.

Les dimensions et épaisseurs peuvent être déduites de courbes du type de celles illustrées sur la figure 26, donnant l'évolution du déphasage ΔΦ en fonction de la longueur b de la fente FP, pour plusieurs valeurs différentes x de longueur de pavé supérieur PS et pour une épaisseur d' de substrat SB (par exemple égale à environ 2 mm).The dimensions and thicknesses can be deduced from the curves of type of those illustrated in Figure 26, giving the evolution of the phase shift ΔΦ depending on the length b of the slot FP, for several different values x of upper paver length PS and for a thickness of SB substrate (for example equal to about 2 mm).

Lorsque le pavé supérieur PS ne comporte qu'une seule fente FP, celle-ci est de préférence placée sensiblement en son centre. Mais, le pavé supérieur PS pourrait comporter plusieurs fentes FP, éventuellement de différentes dimensions.When the upper PS block has only one FP slot, it is preferably placed substantially at its center. But, the pavement PS could have multiple FP slots, possibly different dimensions.

Une telle cellule déphaseuse CD permet d'obtenir n'importe quel déphasage, et notamment des déphasages (très) supérieurs à 360°. Elle permet de maítriser également la dispersion de ce déphasage en fréquence. Les cellules déphaseuses de l'art antérieur, qui permettent d'obtenir de telles caractéristiques, comprennent trois pavés placés parallèlement les uns au dessus des autres et au dessus d'un plan de masse inférieur (elles sont notamment décrites dans l'article de J.A. Encinar et al, "Design of a three-layer printed reflectarray for dual polarization and dual coverage", 27th ESA Antenna workshop, Santiago de Compostel, Spain, March 2004). Les cellules déphaseuses CD selon l'invention ne comprennent qu'un seul niveau de métallisation (pavé supérieur), en plus du plan de masse inférieur PM1, et sont donc beaucoup plus simples à réaliser que les cellules déphaseuses de l'art antérieur.Such a phase-shifting cell CD makes it possible to obtain any phase shift, and in particular phase shifts (very) greater than 360 °. It also controls the dispersion of this phase shift in frequency. The phase-shifting cells of the prior art, which make it possible to obtain such characteristics, comprise three blocks placed parallel to one another above and above a lower ground plane (they are described in particular in the article by JA Encinar et al, "Design of a three-layer printed reflectarray for dual polarization and dual coverage", 27 th ESA Antenna workshop, Santiago Compostel, Spain, March 2004). The phase-shifter cells CD according to the invention comprise only one level of metallization (upper block), in addition to the lower ground plane PM1, and are therefore much simpler to achieve than the phase-shifting cells of the prior art.

L'invention ne se limite pas aux modes de réalisation de cellule déphaseuse et d'antenne réseau réflecteur décrits ci-avant, seulement à titre d'exemple, mais elle englobe toutes les variantes que pourra envisager l'homme de l'art dans le cadre des revendications ci-après.The invention is not limited to cell embodiments phased array and reflector array antenna described above, only as example, but it encompasses all the variants that may be considered those skilled in the art within the scope of the claims below.

Claims (25)

Cellule déphaseuse (CD), pour une antenne réseau réflecteur, définie par une longueur résonante caractéristique, caractérisée en ce qu'elle comprend en au moins un endroit choisi un dispositif électromécanique micronique (DC, DC'), de type MEMS, propre à être placé dans au moins deux états différents permettant et interdisant respectivement l'établissement d'un court-circuit destiné à faire varier ladite longueur résonante, de manière à faire varier le déphasage d'une onde à réfléchir présentant au moins une polarisation linéaire.Phase-shifting cell (CD), for a reflector array antenna, defined by a characteristic resonant length, characterized in that it comprises, in at least one selected location, a micron electromechanical device (DC, DC '), of the MEMS type, suitable for being placed in at least two different states allowing and respectively prohibiting the establishment of a short circuit intended to vary said resonant length, so as to vary the phase shift of a reflection wave having at least one linear polarization. Cellule selon la revendication 1, caractérisée en ce que ledit dispositif MEMS (DC) comporte un pont flexible conducteur (PT) dont les états sont commandés par deux électrodes de commande sensiblement superposées et dont l'une est constituée par ledit pont (PT).Cell according to claim 1, characterized in that said MEMS device (DC) comprises a conductive flexible bridge (PT) whose states are controlled by two substantially superimposed control electrodes and one of which is constituted by said bridge (PT). Cellule selon la revendication 1, caractérisée en ce que ledit dispositif MEMS (DC') comprend une poutre flexible conductrice (PE) suspendue dont les états sont commandés par une électrode de commande (EC') placée en dessous d'une partie suspendue de ladite poutre (PE), laquelle constitue une autre électrode.Cell according to claim 1, characterized in that said MEMS device (DC ') comprises a suspended conductive flexible beam (PE) whose states are controlled by a control electrode (EC') placed below a suspended part of said beam (PE), which constitutes another electrode. Cellule selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisée en ce qu'elle comporte une structure planaire résonante comprenant un pavé supérieur (PS) placé sensiblement parallèlement à un plan de masse inférieur (PM1), à une distance choisie, ledit pavé supérieur (PS) comportant au moins une fente (FP) munie d'au moins un dispositif MEMS (DC, DC') contrôlant la longueur résonante caractéristique dudit pavé supérieur (PS).Cell according to one of claims 1 to 3, characterized in that it comprises a resonant planar structure comprising an upper block (PS) placed substantially parallel to a lower ground plane (PM1), at a selected distance, said upper block (PS) having at least one slot (FP) provided with at least one MEMS device (DC, DC ') controlling the characteristic resonant length of said upper pad (PS). Cellule selon la revendication 4, caractérisée en ce qu'elle comprend une unique fente (FP) munie d'au moins deux dispositifs MEMS (DC, DC'), permettant de définir au moins trois longueurs résonantes (FP) différentes selon les états dans lesquels ils sont respectivement placés.Cell according to Claim 4, characterized in that it comprises a single slot (FP) provided with at least two MEMS devices (DC, DC '), making it possible to define at least three different resonant lengths (FP) according to the states in which they are respectively placed. Cellule selon l'une des revendications 4 et 5, caractérisée en ce qu'elle comprend au moins un pavé auxiliaire (PA1, PA2) placé le long de l'un au moins des côtés dudit pavé supérieur (PS), à une distance choisie de celui-ci, et au moins un dispositif MEMS de couplage (DC', DC), placé entre ledit pavé auxiliaire (PA1, PA2) et ledit pavé supérieur (PS) et permettant d'établir, ou non, une liaison électrique entre lesdits pavés auxiliaire et supérieur selon l'état dans lequel il est placé.Cell according to one of claims 4 and 5, characterized in that it comprises at least one auxiliary block (PA1, PA2) placed along at least one of the sides of said upper pad (PS), at a selected distance thereof, and at least one coupling MEMS device (DC ', DC), placed between said auxiliary pad (PA1, PA2) and said upper pad (PS) and making it possible to establish or not an electrical connection between said auxiliary and upper blocks according to the state in which it is placed. Cellule selon la revendication 6, caractérisée en ce qu'elle comprend au moins deux pavés auxiliaires voisins parallèles entre eux, de dimensions sensiblement identiques et placés le long de l'un au moins des côtés dudit pavé supérieur (PS), et au moins un dispositif MEMS de couplage (DC', DC) placé entre lesdits pavés auxiliaires voisins et permettant d'établir, ou non, une liaison électrique entre eux selon l'état dans lequel il est placé.Cell according to Claim 6, characterized in that it comprises at least two parallel auxiliary blocks parallel to one another, of substantially identical dimensions and placed along at least one of the sides of said upper block (PS), and at least one MEMS coupling device (DC ', DC) placed between said neighboring auxiliary blocks and making it possible to establish or not an electrical connection between them according to the state in which it is placed. Cellule selon la revendication 4, caractérisée en ce que ledit pavé supérieur (PS) est sensiblement carré, et en ce qu'elle comprend au moins une fente rectangulaire débouchant sur un côté non rayonnant dudit carré et comportant au moins deux dispositifs MEMS (DC, DC'), permettant de définir au moins trois longueurs résonantes différentes selon les états dans lesquels ils sont respectivement placés.Cell according to claim 4, characterized in that said upper block (PS) is substantially square, and in that it comprises at least one rectangular slot opening on a non-radiating side of said square and comprising at least two MEMS devices (DC, DC '), making it possible to define at least three different resonant lengths according to the states in which they are respectively placed. Cellule selon la revendication 4, caractérisée en ce que ledit pavé supérieur (PS) est sensiblement carré, et en ce qu'elle comprend au moins de première (F1) et deuxième (F2) fentes rectangulaires placées sensiblement en regard l'une de l'autre et débouchant sur deux côtés opposés dudit carré, non rayonnants, chaque fente (F1, F2) comportant au moins deux dispositifs MEMS (DC, DC'), permettant de définir au moins trois longueurs résonantes différentes selon les états dans lesquels ils sont respectivement placés.Cell according to claim 4, characterized in that said upper block (PS) is substantially square, and in that it comprises at least first (F1) and second (F2) rectangular slots placed substantially facing one of the other and opening on two opposite sides of said square, non-radiating, each slot (F1, F2) comprising at least two MEMS devices (DC, DC '), making it possible to define at least three different resonant lengths according to the states in which they are respectively placed. Cellule selon la revendication 9, caractérisée en ce qu'elle comprend au moins de troisième (F3) et quatrième (F4) fentes rectangulaires placées sensiblement en regard l'une de l'autre et débouchant sur deux autres côtés opposés dudit carré, chaque fente (F3, F4) comportant au moins deux dispositifs MEMS (DC, DC'), permettant de définir au moins trois autres longueurs résonantes différentes selon les états dans lesquels ils sont respectivement placés, de manière à permettre une double polarisation linéaire.Cell according to claim 9, characterized in that it comprises at least third (F3) and fourth (F4) rectangular slots placed substantially opposite one another and opening on two other opposite sides of said square, each slot (F3, F4) comprising at least two MEMS devices (DC, DC '), making it possible to define at least three other different resonant lengths according to the states in which they are respectively placed, so as to allow a linear double polarization. Cellule selon l'une des revendications 4 à 10 en combinaison avec la revendication 2, caractérisée en ce que chaque fente (FP, F1-F4) est rectangulaire, et en ce que chaque pont (PT) de dispositif MEMS (DC) est placé sensiblement parallèlement à des grands côtés de ladite fente.Cell according to one of claims 4 to 10 in combination with claim 2, characterized in that each slot (FP, F1-F4) is rectangular, and in that each bridge (PT) of MEMS device (DC) is placed substantially parallel to large sides of said slot. Cellule selon l'une des revendications 4 à 10 en combinaison avec la revendication 3, caractérisée en ce que chaque fente (FP, F1-F4) est rectangulaire, et en ce que chaque poutre (PE) de dispositif MEMS (DC') est placée sensiblement perpendiculairement à des grands côtés de ladite fente.Cell according to one of Claims 4 to 10 in combination with Claim 3, characterized in that each slot (FP, F1-F4) is rectangular, and in that each MEMS device beam (PE) (DC ') is positioned substantially perpendicular to the long sides of said slot. Cellule selon l'une des revendications 4, 5, 11 et 12, caractérisée en ce que ledit pavé supérieur (PS) présente des dimensions inférieures aux dimensions du plan de masse inférieur (PM1), et en ce qu'elle comporte des traversées métallisées (TM) raccordées audit plan de masse inférieur (PM1) et entourant ledit pavé supérieur (PS) de manière à définir une cavité résonante.Cell according to one of claims 4, 5, 11 and 12, characterized in that said upper block (PS) has dimensions smaller than the dimensions of the lower ground plane (PM1), and in that it comprises metallized bushings (TM) connected to said lower ground plane (PM1) and surrounding said upper pad (PS) so as to define a resonant cavity. Cellule selon l'une des revendications 4 à 13, caractérisée en ce que ladite structure planaire résonante comprend au moins deux pavés supérieurs (PS1, PS2) distants l'un de l'autre d'une distance choisie, chaque pavé comportant au moins une demie fente (FR1, FR2, FR3, FR4) débouchant sur l'un de ses côtés et deux demies fentes en regard constituant une fente.Cell according to one of claims 4 to 13, characterized in that said resonant planar structure comprises at least two upper blocks (PS1, PS2) distant from each other by a selected distance, each block comprising at least one half slot (FR1, FR2, FR3, FR4) opening on one of its sides and two half slots facing constituting a slot. Cellule selon l'une des revendications 4 à 13, caractérisée en ce que ladite structure planaire résonante comprend plusieurs pavés supérieurs distants les uns des autres par des espaces constituant des fentes de largeurs choisies, lesdits pavés et lesdites fentes constituant une « croix de Jérusalem ».Cell according to one of claims 4 to 13, characterized in that said resonant planar structure comprises several upper blocks spaced from each other by spaces constituting slots of selected widths, said blocks and said slots constituting a "Jerusalem cross" . Cellule selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisée en ce qu'elle comporte, d'une part, une structure planaire résonante comprenant un pavé supérieur (PS) rectangulaire placé sensiblement parallèlement à un plan de masse inférieur (PM1), à une distance choisie, ledit plan de masse inférieur (PM1) définissant au moins une pastille (Pl) intégralement entourée d'une zone non conductrice (Z), placée en dessous dudit pavé supérieur (PS) et de dimensions inférieures aux dimensions de ce dernier, et d'autre part, au moins une traversée métallisée (TM) reliant ledit pavé supérieur (PS) à ladite pastille (Pl), et en ce que ledit dispositif MEMS (DC, DC') est placé au niveau de ladite zone (Z) de manière à établir dans l'un de ses états une liaison entre ladite pastille (PI) et le reste dudit plan de masse (PM1) pour contrôler la longueur résonante dudit pavé supérieur (PS).Cell according to one of claims 1 to 3, characterized in that it comprises, on the one hand, a resonant planar structure comprising a rectangular upper block (PS) placed substantially parallel to a lower ground plane (PM1), to a selected distance, said lower ground plane (PM1) defining at least one pellet (P1) completely surrounded by a non-conductive zone (Z), placed below said upper pad (PS) and of dimensions smaller than the dimensions of the latter; and on the other hand, at least one metallized bushing (TM) connecting said upper pad (PS) to said pad (Pl), and in that said MEMS device (DC, DC ') is placed at said area ( Z) so as to establish in one of its states a connection between said pad (PI) and the remainder of said ground plane (PM1) to control the resonant length of said upper pad (PS). Cellule selon la revendication 16, caractérisée en ce que ledit plan de masse inférieur (PM1) définit au moins deux pastilles (Pl) intégralement entourées d'une zone non conductrice (Z), placées en dessous dudit pavé supérieur (PS) et de dimensions inférieures aux dimensions de ce dernier, et en ce qu'elle comporte, d'une part, au moins deux traversées métallisées (TM) reliant respectivement le pavé supérieur (PS) à l'une desdites pastilles (PI), et d'autre part, au moins deux dispositifs MEMS (DC, DC') placés chacun au niveau de l'une des zones (ZI) de manière à établir des liaisons entre l'une au moins desdites pastilles (Pl) et le reste dudit plan de masse (PM1), permettant ainsi de définir au moins trois longueurs résonantes différentes du pavé supérieur (PS) selon les états dans lesquels ils sont respectivement placés.Cell according to claim 16, characterized in that said lower ground plane (PM1) defines at least two pellets (P1) integrally surrounded by a non-conductive zone (Z), placed below said upper pad (PS) and of dimensions less than the dimensions of the latter, and in that it comprises, on the one hand, at least two metallized crossings (TM) respectively connecting the upper block (PS) to one of said pads (PI), and on the other on the one hand, at least two MEMS devices (DC, DC ') each placed at one of the zones (ZI) so as to establish connections between at least one of said pads (P1) and the remainder of said ground plane (PM1), thus making it possible to define at least three different resonant lengths of the upper block (PS) according to the states in which they are respectively placed. Cellule selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisée en ce qu'elle comporte un plan de masse supérieur (PM2) comprenant au moins une fente rayonnante (FR), pourvue d'un dispositif MEMS (DC, DC') contrôlant sa longueur résonante caractéristique, un plan de masse inférieur (PM1), et des traversées métallisées (TM) reliant ledit plan de masse inférieur (PM1) à des parties périphériques dudit plan de masse supérieur (PM2) de manière à définir une cavité résonante.Cell according to one of claims 1 to 3, characterized in that it comprises an upper ground plane (PM2) comprising at least one radiating slot (FR) provided with a MEMS device (DC, DC ') controlling its characteristic resonant length, a lower ground plane (PM1), and metallized vias (TM) connecting said lower ground plane (PM1) to peripheral portions of said upper ground plane (PM2) so as to define a resonant cavity. Cellule selon la revendication 18, caractérisée en ce que ledit plan de masse supérieur (PM2) comprend au moins deux fentes rayonnantes (FR1, FR2, FR3) pourvues chacune d'un unique dispositif MEMS (DC, DC') contrôlant leur longueur résonante caractéristique.Cell according to claim 18, characterized in that said upper ground plane (PM2) comprises at least two radiating slots (FR1, FR2, FR3) each provided with a single MEMS device (DC, DC ') controlling their characteristic resonant length . Cellule selon la revendication 19, caractérisée en ce que chaque dispositif MEMS (DC, DC') est placé sensiblement au milieu d'une fente rayonnante (FR1, FR2, FR3).Cell according to claim 19, characterized in that each MEMS device (DC, DC ') is placed substantially in the middle of a radiating slot (FR1, FR2, FR3). Cellule selon l'une des revendications 19 et 20, caractérisée en ce que lesdites fentes (FR1, FR2, FR3) sont sensiblement parallèles entre elles et présentent des longueurs différentes.Cell according to one of claims 19 and 20, characterized in that said slots (FR1, FR2, FR3) are substantially parallel to each other and have different lengths. Cellule selon la revendication 18, caractérisée en ce que ledit plan de masse supérieur (PM2) comprend une fente rayonnante (FR), pourvue d'au moins deux dispositifs MEMS (DC, DC') permettant de définir au moins trois longueurs résonantes différentes de fente selon les états dans lesquels ils sont respectivement placés.Cell according to claim 18, characterized in that said upper ground plane (PM2) comprises a radiating slot (FR), provided with at least two MEMS devices (DC, DC ') making it possible to define at least three different resonant lengths of slot according to the states in which they are respectively placed. Cellule selon l'une des revendications 18 à 22, caractérisée en ce que ledit plan de masse supérieur (PM2) comprend au moins une fente rayonnante (FRV) rectangulaire présentant des grands côtés parallèles à une première direction, et au moins une autre fente rayonnante (FRV) rectangulaire présentant des grands côtés parallèles à une seconde direction perpendiculaire à la première, de manière à permettre une double polarisation linéaire.Cell according to one of claims 18 to 22, characterized in that said upper ground plane (PM2) comprises at least one rectangular radiating slot (FRV) having long sides parallel to a first direction, and at least one other radiating slot Rectangular (RVE) having long sides parallel to a second direction perpendicular to the first, so as to allow a linear double polarization. Cellule déphaseuse (CD), pour une antenne réseau réflecteur, caractérisée en ce qu'elle comprend une structure planaire résonante comprenant un pavé supérieur (PS) placé sensiblement parallèlement à un plan de masse inférieur (PM1), à une distance choisie, et comportant au moins une fente (FP), les dimensions du pavé (PS) et de la fente (FP) et ladite distance étant choisies de manière à imposer un déphasage choisi et une dispersion de phase en fréquence choisie à une onde à réfléchir présentant au moins une polarisation linéaire.A phase shifter (CD) cell, for a reflector array antenna, characterized in that it comprises a resonant planar structure comprising an upper pad (PS) placed substantially parallel to a lower ground plane (PM1), at a selected distance, and comprising at least one slot (FP), the dimensions of the keypad (PS) and the slot (FP) and said distance being chosen so as to impose a selected phase shift and a selected phase phase dispersion at a reflection wave having at least one a linear polarization. Antenne réseau réflecteur, caractérisée en ce qu'elle comprend au moins deux cellules déphaseuses (CD) selon l'une des revendications précédentes.Reflecting array antenna, characterized in that it comprises at least two phase-shifting cells (CD) according to one of the preceding claims.
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