EP0356313B1 - Procédé de commande très rapide par adressage semi-sélectif et adressage sélectif d'un panneau à plasma alternatif à entretien coplanaire - Google Patents

Procédé de commande très rapide par adressage semi-sélectif et adressage sélectif d'un panneau à plasma alternatif à entretien coplanaire Download PDF

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EP0356313B1
EP0356313B1 EP89402282A EP89402282A EP0356313B1 EP 0356313 B1 EP0356313 B1 EP 0356313B1 EP 89402282 A EP89402282 A EP 89402282A EP 89402282 A EP89402282 A EP 89402282A EP 0356313 B1 EP0356313 B1 EP 0356313B1
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EP
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electrodes
hold
maintenance
voltage
phase
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EP89402282A
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Serge Salavin
Jacques Deschamps
Michel Gay
Bruno Rimaud
Michel Specty
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Thales SA
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Thomson CSF SA
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Definitions

  • the present invention relates to a method for controlling the pixels of a plasma panel using semi-selective addressing phases and selective addressing phases.
  • the invention applies to panels of the alternative type with coplanar maintenance, and in particular of the type in which each elementary image point is defined substantially at the intersection of an addressing electrode called column electrode with two other parallel electrodes forming a pair. maintenance electrodes.
  • Plasma panels are flat screen display devices, which allow the display of alphanumeric, graphic or other images, in color or not. These panels work on the principle of an emission of light produced by an electric discharge in a gas.
  • Plasma panels include two insulating tiles limiting a volume occupied by a gas (generally a mixture based on neon). These tiles support crossed conductive electrodes so as to define a matrix of cells each forming an elementary image or pixel point. An electric discharge in the gas, causing an emission of light at the level of a cell or pixel, takes place when the electrodes of this pixel are suitably excited.
  • a gas generally a mixture based on neon.
  • plasma panels of the excited type in alternating mode as mentioned above, but which are also maintenance coplanar.
  • each pixel of the matrix is constituted by three electrodes, more precisely at the intersection between an addressing electrode called column electrode with two parallel maintenance electrodes forming a pair of electrodes d 'interview.
  • an addressing electrode called column electrode with two parallel maintenance electrodes forming a pair of electrodes d 'interview.
  • the maintenance electrodes are formed by two families: the electrodes of a first family are called “address-maintenance electrodes" and the electrodes of the second family are called “maintenance-only electrodes".
  • the addressing-maintenance electrodes have the function on the one hand, in cooperation with the maintenance-only electrodes, of ensuring the maintenance discharges, and on the other hand of ensuring an addressing function; therefore, they are individualized, that is to say they are connected to one or more pulse generating devices by means which make it possible to apply one or more specific so-called addressing pulses, to only one or more address-service electrodes which are selected from the plurality of address-service electrodes.
  • the maintenance only electrodes (second family) are generally connected to one or more pulse generators in such a way that these maintenance only electrodes are all, at the same times, brought to the same potentials, so that there n It is not necessary to individualize them and that they can possibly be linked together.
  • addressing is meant the signals applied to the electrodes of one or more pixels selected from the plurality of pixels, with a view to obtaining their registration (switching on) and / or their erasure (switching off). This is in contrast to the maintenance signals which are applied without distinction to the electrodes of all the pairs of maintenance electrodes, with a view to causing maintenance discharges (emission of light) by all the pixels which are in the state registered.
  • the addressing-maintenance electrodes and maintenance-only electrodes may each comprise, at the level of each pixel, a protrusion or protruding surface; in the same pair of maintenance electrodes, the projecting surfaces of one electrode are oriented towards those of the other electrode, the maintenance discharges taking place between these projecting surfaces.
  • Such a plasma screen is known in particular from the European patent document EP-A-0 135 382 which also describes a method for controlling this screen; it should be noted that in the device described in this European patent, the column electrode crosses the pairs of maintenance electrodes on the side of the projecting surfaces where the maintenance discharges are produced.
  • each pixel is defined at the intersection of a column electrode with a pair of maintenance electrodes, as well as a suitable control method, are described in the article by GW DICK published in PROCEEDINGS OF THE SID, vol. 27/3, 1986, pages 183-187.
  • the maintenance electrodes have a constant width, that is to say that they do not have a projecting surface facing one another in a pair of maintenance electrode, to define the maintenance discharge zone; this structure, on the other hand, includes barriers made of insulating material, which serve to confine maintenance discharges in the crossing area with the column electrode.
  • FIG. 1 Another type of plasma panel, to which the method of the invention applies in a particularly advantageous manner, is represented in FIG. 1.
  • a panel is the subject in itself of a French patent application No. 88 03953 filed March 25, 1988 on behalf of THOMSON-CSF.
  • This French patent application was published under the number 2629265, the new type of plasma panel to which it relates is described below.
  • the panel shown in FIG. 1 comprises a first glass slab 10 covered with a first family of electrodes denoted Xj, where j is an integer ranging from 1 to N (a single electrode Xj is shown; the slab assembly 10- electrode Xj is covered with a layer 12 of dielectric material, possibly covered with an oxide layer such as MgO (not shown).
  • a wafer 14 of a phosphor material that is that is to say capable of emitting colored radiation, under the effect of ultraviolet radiation.
  • the panel also comprises a second glass slab 20 covered with a second family of electrodes constituted by pairs of electrodes called respectively, of maintenance-addressing (Yae) i and of maintenance (Ye), where i is an integer between 1 and P.
  • the maintenance-addressing and maintenance electrodes include protrusions or protruding surfaces 22 and 24, arranged opposite one another.
  • the 20-electrode slab assembly is covered with a dielectric layer 26.
  • the two slabs 10 and 20 and their networks of electrodes are brought closer together and kept apart by a thickness spacer (not shown), and a gas is present in the volume comprised between the slabs and the spacer.
  • the panel once mounted thus presents two networks of orthogonal electrodes, in the sense that the electrodes Xj are orthogonal at the electrodes (Yae) i and (Ye).
  • the electrodes Xj can overlap the protrusions 22 and 24 or be slightly offset on the side thereof.
  • a pixel Pij is then defined by an electrode Xj (column electrode) and a pair of maintenance electrodes (Yae) i and (Ye).
  • the plasma panel described above is controlled where other plasma panels of the alternative type with coplanar maintenance such as, for example, the panels mentioned above, by a known control method, it is observed in particular that the operation of these panels is too limited as to the speed with which an image can be renewed, to be able to be used as a so-called "all options" display screen, that is to say to display an image with a sufficient number of halftones or degraded. Indeed, especially with the production of color screens, it becomes very important to be able to have a large number of half-tones (128 for example) to achieve a correct image (type image of cathode ray tube in television) on a plasma panel whose number of pixel lines is at least equal to 512.
  • the time required to form an image depends on the number of pixels and on the time required for erasing addressing, registration addressing and maintenance operations.
  • the known method consists in making a semi-selective addressing (either for erasing or for writing and row or column) followed by selective addressing.
  • Each of these phases corresponds to a particular combination of voltages developed between the 3 electrodes which form a pixel, as a result of the application to one or more of these electrodes of positive or negative pulses forming sets of cyclic pulses.
  • the invention relates to a method for controlling an alternative plasma panel with coplanar maintenance, each pixel of which has three electrodes.
  • This control method is of the semi-selective addressing type followed by selective addressing and its main purpose is to allow the reduction, overall, of the addressing times, so as to allow in particular a greater number of halftones or even more pixels.
  • a method for controlling an alternative plasma panel with coplamaric maintenance comprising crossed column electrodes with two families of parallel electrodes, the first family being constituted by address-maintenance electrodes and a second family consisting of maintenance only electrodes, each addressing-maintenance electrode forming with a maintenance only neighboring electrode a pair of maintenance electrodes, each pair of maintenance electrodes corresponding to a line of pixels perpendicular to the column electrodes, the pixels being formed substantially at each crossing of a column electrode with a pair of maintenance electrodes, said method comprising applying first sets of cyclic voltage pulses to all addressing-maintenance electrodes and applying second sets of cyclic voltage pulses to all electrodes for maintenance only, the two sets of voltage pulses having the same period within which said voltage pulses develop between the electrodes of each pixel voltage differences which, on the one hand, generate a phase intended to a control of pixels by semi-selective addressing, and then generate a second phase intended for a control of pixels by selective addressing, and
  • the time required for the complete command (erasure and / or registration) of a row or a column of pixels remains unchanged, but during this same time the complete command of at least two rows can be carried out or columns of pixels so that the image forming time is reduced by the same measure.
  • FIG. 2 is a block diagram of a plasma panel 1 to which the control method of the invention can be applied.
  • the plasma panel 1 is represented mainly by conductors or electrodes arranged in column X1, X2, X3, X4, called column electrodes, and by two families of conductors or maintenance electrodes arranged in line, on the one hand Y1 to Y8 for the first family, and on the other hand E1 to E8 for the second family.
  • the maintenance electrodes Y1 to Y8 and E1 to E8 are arranged in pairs, that is to say that a first electrode Y1 of the first family is associated with an adjacent electrode E1 belonging to the second family, to constitute a pair P1 of maintenance electrodes; a second electrode Y2 of the first family is associated with a second electrode E2 of the second family to constitute a second pair P2 of maintenance electrodes; and similarly for the electrodes Y3 and E3, then Y4 and E4, Y5 and E5, Y6 and E6, Y7 and E7, Y8 and E8 which constitute respectively a third fourth, fifth, sixth, seventh and eighth pair P3 to P8 of maintenance electrodes.
  • each pixel which can be formed for example according to the structure represented in FIG. 1 and the two electrodes of each pair of electrodes P1 to P4 may or may not have protuberances or projecting parts (not shown in FIG. 2) shown in FIG. 1 with the marks 22, 24.
  • the column electrodes X1 and X8 conventionally perform only an addressing role. They are each individually connected to a different output SX1 to SX4 of a column addressing device G1; the addressing device G1 delivers voltage pulses which will be explained more fully in a continuation of the description relating to FIGS. 3a to 3h.
  • the electrodes Y1 to Y8 of the first family are address-maintenance electrodes and therefore they are also individualized, that is to say that they are each connected to a different output SY1 to SY8 of a device G2 line addressing; the line addressing device G2 delivers sets of voltage pulses which will be explained more clearly with reference to FIGS. 3a to 3h.
  • the electrodes E1 to E8 of the second family E are of the maintenance-only electrode type and do not have to be addressed; they are connected to a pulse generator device G3 which delivers second sets of voltage pulses which will be explained more fully in a continuation of the description made with reference to FIGS. 3a to 3h.
  • the devices G1, G2, G3 are themselves controlled by a central control unit (not shown) which manages, in a manner known per se, the switching on or off or keeping the pixels on or off PX1 to PX32.
  • each semi-selective addressing phase makes it possible to erasing an entire line L1 to L8 of pixels PX1 to PX 32:
  • a line L1 to L8 is a line of pixels formed by the pixels PX1 to PX32 defined by each pair P1 to P8 of maintenance electrodes: thus the first line L1 contains the 4 pixels PX1 to PX4, and corresponds to the pair P1 of maintenance electrodes; the second line L2 contains 4 pixels PX5 to PX8 and corresponds to the second pair P2 of electrodes, etc ... up to the eighth line L8 corresponding to the eighth pair P8 comprising the pixels PX29 to PX32.
  • a semi-selective addressing is carried out of at least one line L1 to L8, the second line L2 for example, while the selective addressing of at least one other line is carried out, the third line L3 for example.
  • the simultaneous control of two lines of pixels, one by semi-selective addressing and the other by selective addressing is obtained by applying to the addressing-maintenance electrodes Y1 to Y4 pulse sets of the same shape and same amplitude, but which differ in terms of their phase.
  • the signals applied to the addressing-maintenance electrodes are delivered by the addressing device G2 with four different phases ⁇ 1, ⁇ 2, ⁇ 3, ⁇ 4 but of course, two phases are sufficient to get a reduction in image time, and also a larger number can be used;
  • the method of the invention consists in carrying out the semi-selective erasure of a line L1 to L8 of pixels independently of the signal present on the column electrodes X1 to X4.
  • FIGS. 3a to 3h show diagrams which illustrate an operation of the plasma panel 1 which corresponds, for example, to the case where one wants to successively erase the sixth pixel PX6 and write the seventh pixel PX7, located on the second line L2.
  • the sixth pixel PX6 is located at the intersection between the second pair of PE2 electrodes and the second column electrode X2; and that the seventh pixel PX7 is located at the intersection between the second pair of electrodes PE2 and the third column electrode X3.
  • the signals applied to the addressing-maintenance electrodes Y1 to Y8 have the same phase.
  • FIGS. 3a and 3b respectively show a first and a second set of cyclic voltages VY, VE which are applied respectively to all the addressing-maintenance electrodes Y1 to Y8 and to all the maintenance-only electrodes E1 to E8.
  • FIG. 3c illustrates the discharges produced between the electrodes Y2 and E2 of the second pair P2 of electrodes.
  • Figures 3d, 3e, 3f, 3g respectively show voltage pulses forming masking pulses applied to the column electrodes X1 to X4.
  • Figure 3h illustrates a DI registration discharge between the third column electrode X3 and the second electrode Y2.
  • the first and second sets of voltages VY, VE vary on either side of the same reference voltage VR which is at zero volts for example; the column electrodes X1 to X4 also being, at rest, at the potential of the reference voltage VR.
  • the first and second sets of voltage VY, VE are constituted respectively by a first and a second set of voltage pulses having a cyclic character and a same period T. During this period T, the combination of these voltage pulses develops between the 2 electrodes of each pair P1 to P8 of the voltage differences (not shown) which determines an erasing phase T1 (semi-selective addressing) followed by a writing phase (selective addressing) T2.
  • the amplitude variation ⁇ VY1 of the first voltage VY is added to the variation ⁇ VE of the second voltage VE to constitute the potential difference applied between the 2 electrodes of each pair P1 to P8.
  • the amplitude of the first variation ⁇ VY1 of the first voltage VY is insufficient for the potential difference thus developed between the 2 electrodes (addressing-maintenance Y1 to Y8 and only maintenance E1 to E8) of each pair P1 to P8 causes a discharge between these two electrodes.
  • the variation ⁇ VY1 of the first voltage VY applied to all the addressing-maintenance electrodes Y1 to Y8 is formed by the front edge of a voltage slot which is established between instant to and instant t4.
  • This niche called the erasing base niche CBe, is intended to constitute a base or pedestal or voltage step at an erasing pulse IE.
  • a voltage pulse called the erasing pulse IE, IE ′ is superimposed only on the erasing base slot CBe applied to the addressing-maintenance electrode Y1 to Y8 which is addressed, that is to say ie corresponding to the pair P1 to P8 selected; taking into account the example described, all the address-maintenance electrodes Y1 to Y8 receive a basic erasing slot CBe but it is only for the second electrode Y2 that an erasing pulse is superimposed on this slot basic. Therefore, at the second electrode Y2, the first voltage VY reaches a second value VY2 greater than the first value VY1.
  • a variation ⁇ VY2 is obtained which is added to the variation ⁇ VE of the second voltage VE to cause, between the 2 electrodes Y2 and E2 of the pair P2 selected, an erasure discharge (Figure 3c) DEF.
  • the erase discharge DEF has a lower intensity than a maintenance discharge, and it makes it possible to cancel in a conventional manner the charges (not shown) which have been accumulated between the 2 electrodes of the second pair P2 at the level of the sixth pixel, and this without accumulating new charges of reverse polarity.
  • the erasure pulse may have the form of a rectangular slot having either a high amplitude and a short duration, or a low amplitude and a long duration, or even be formed of a pulse whose rising edge is established relatively slowly and constitutes a ramp, as explained in the aforementioned patent application No. 78 04893, filed in the name of THOMSON-CSF and published under the number FR-A- 2 417 848, and which must be considered to be part of the present description.
  • the erasure pulse IE (shown in dotted lines) which is superimposed on the erasure base slot CBe, is a pulse whose rising edge R is established relatively slowly as described in the aforementioned patent, until substantially reaching the second value VY2.
  • the erasure discharge DEF occurs at an instant t1 which corresponds substantially to the instant when the erasure pulse IE reaches the second value VY2. In this configuration, all the pixels PX5 to PX8 of the second pair P2 are erased.
  • an important characteristic of the process of the invention consists in generating an erasure discharge only between the two maintenance electrodes Y2, E2 of the same given pair P2, this erasure discharge DEF having the effect to erase all the pixels which correspond to this pair P2 of electrodes.
  • the erasure pulse IE ends at an instant t3 which follows instant t2 where the polarity of the voltage VE of the maintenance-only electrodes becomes positive at the value + VE.
  • the polarities of the voltages VY and VE are reversed: - the voltage VY applied to the addressing-maintenance electrodes Y1 to Y8 changes to a positive polarity with the second value VY2 directly, i.e. a variation ⁇ VY2 which is added to the variation ⁇ VE applied to the maintenance-only electrodes: As a result, at time t5, maintenance discharges (not shown) are generated at the level of all the pixels entered.
  • the desired pixels belonging to the registration are carried out to this pair p2 of electrodes, by causing a registration discharge between the second addressing-maintenance electrode Y2 and each of the column electrodes X1 to X4 whose intersection with the second addressing-maintenance electrode Y2 represents a pixel that we want to register.
  • a writing discharge is carried out only between the second addressing-maintenance electrode Y2 and the third column electrode X3.
  • the variation of the voltage VY from negative to positive constitutes the front edge of a voltage square wave CBi called the basic registration square wave and which is applied to all the addressing-maintenance electrodes Y1 to Y8.
  • the basic registration window is intended to form a tension step on which a registration window C1 is superimposed (shown in dotted lines).
  • a registration window C1 is superimposed on the basic registration window CBi only for the pair P1 to P8 which is addressed: either in the example for the second pair P2, that is to say only on the basic slot of inscription CBi which is applied to the second addressing-maintenance electrode Y2.
  • the basic registration slot CBi also constitutes a maintenance window for unaddressed address-maintenance electrodes.
  • the CI registration window superimposed on the CBI registration base window reaches a voltage value + VY3 such that the potential difference VY3 - VR which is then generated between the column electrodes X1 to X4 and the second addressing electrode- maintenance Y2 can cause a discharge of initiation or discharge of registration, at the crossing between the latter and the column electrodes X1 to X4. Also, only the desired pixel or pixels are registered by applying to the column electrodes X1 to X4 which correspond to the pixels which must not be registered, a voltage pulse called masking pulse MX1 to MX4, of the same polarity as the square wave.
  • a masking pulse MX1, MX2, MX4 is applied to the first, the second and the fourth column electrode X1, X2, X4 for at least the duration of the CI registration window and a masking pulse is not applied to the third column electrode X3 ( Figures 3d, 3e, 3f, 3g).
  • the second voltage VE applied to the maintenance only electrodes E1 to E8 has a negative polarity from the instant t5 to an instant t6 where this polarity changes to positive, at the value + VE1.
  • the instant t6 is located a little before the CI registration window begins, or in any case before an instant t7 when the CI registration window reaches the value VY3; the second voltage VE then has the same polarity as the first voltage VY applied to the addressing-maintenance electrodes and, between the second maintenance electrode E2 and the second addressing-maintenance electrode Y2 then there is an insufficient potential difference for cause a parasitic discharge when the CI registration window is superimposed.
  • an advantage provided by this arrangement resides in the fact that the masking pulses MX1 to MX4 are produced with a relatively low power, and with a relatively low voltage amplitude, so that standard and low components prices can be used for ordering column electrodes X1 to X4. It is further noted that another particularly important advantage, brought by the method according to the invention, resides in that a single discharge is created between the column electrode X1 to X4 which corresponds to the pixel which one wishes to register. and the pair P1 to P4 of electrodes considered, and in that this discharge occurs only for the points to be entered and not for all the points of the line, which tends to considerably increase the longevity of the phosphors which are possibly used for the emission of color light.
  • the end of the basic registration window CBi corresponds to the end of the registration phase T2, and corresponds to an inversion of the polarity of the first voltage VY applied to the addressing-maintenance electrodes Y1 at Y8, polarity which becomes negative.
  • the second voltage VE applied to the maintenance electrodes E1 to E4 has been positive since substantially the instant t6 and, in the nonlimiting example described, it retains this positive polarity until an instant T0 'which marks the start of a new cycle of the base T.
  • the DI registration discharge generated the accumulation of negative charges (not shown) on the dielectric of the second addressing-maintenance electrode Y2 at the level of the seventh pixel PX7: also at the transition from positive to negative of the first voltage VY, due to the end of the registration window CI and the basic registration window CBi, the effect of the presence of the negative charges accumulated on the electrodes Y2 so that, substantially when the voltage VY reaches the negative value -VY1, there is a discharge which constitutes a resumption of maintenance discharge DRE (FIG. 3c) at the level of the seventh pixel PX7, between the second electrodes adressag e-maintenance Y2 and the second maintenance electrode E2.
  • DRE resumption of maintenance discharge
  • the selective addressing phase consists in causing a discharge between the addressing-maintenance electrode Y1 to Y8 of the pair P1 to P8 addressed and that or those of the column electrodes X1 to X4 concerned, that is to say whose intersection with the addressed pair represents a pixel to be written: in the example described a maintenance discharge a was caused between the second addressing-maintenance electrode Y2 and the third column X3 to register the seventh pixel PX7.
  • the potential difference between the addressing-maintenance electrode which is addressed and only the column electrodes X1 to X4 concerned is increased by an increase in the first voltage VY applied to the addressing-maintenance electrode.
  • the voltage of the other column electrodes is modified correspond to these other pixels so as to maintain with respect to these other column electrodes a difference in potential insufficient to generate discharges; this being obtained by the masking pulses MX1 to MX4.
  • masking pulse MX1 to MX4 is only useful during the registration phase T2 and more precisely only when the registration window CI is present (the duration of the latter being able to vary).
  • the presence of a masking pulse MX1 to MX4 does not interfere with the maintenance discharges (which occur between the two electrodes of each pair P1 to P8), and does not interfere with the semi-selective addressing operation, namely erasure in the example described.
  • the maintenance discharges of registered pixels occur at times t5 and t8 which correspond respectively to the start and to the end of the registration slot CBi whose amplitude , represented by the variation ⁇ VY2, is sufficient to cause the maintenance discharges when they are added to a variation ⁇ VE of the second voltage VE (it should be noted that the number of maintenance discharges per cycle T could be increased by integrating into this cycle a specific maintenance phase as formed for example by the basic niche of registration CBi, which possibly could be interposed between the phase T1 of erasure and the phase T2 of registration).
  • the amplitude of the variations ⁇ VE of the second voltage VE is less than the amplitude ⁇ VY2 of the first voltage VY and the values of each can be adjusted of these two amplitudes to, on the one hand, cause maintenance discharges when they are added, and on the other hand, so that the potential difference between a solely maintenance electrode E1 to E8 and a column electrode X1 at X4 to which a masking pulse MX1 to MX4 is applied does not cause a parasitic discharge between these two electrodes (by also adjusting the amplitude of the masking pulse). It should be noted that this last point can also be obtained by making the polarity of the voltage VE positive before the masking pulse reaches its maximum.
  • a masking pulse MX1 to MX4 on a column electrode X1 to X4 has no effect at the times when the erasing operations and the maintenance discharges take place.
  • this is used to address two or more lines L1 to L8 or pairs P1 to P8 in parallel during a basic cycle, that is to say a period T.
  • the addressing-maintenance electrodes Y1 to Y8 or type Y electrodes are made up of at least one set of two groups (each set consisting of two groups of addressing-maintenance electrodes): a group receives the first sets of pulses (VY) with a first phase ⁇ 1, and the other group receives this same type of pulses (VY) with a second phase ⁇ 2 such that, when the registration phase is present T2 (selective addressing) at the level of pairs P1 to P8 of maintenance electrodes formed with addressing-maintenance electrodes of the first group, then the erasing phase (semi-selective addressing) is present at the level of the pairs formed with the address-maintenance electrodes of the second group, and vice versa.
  • FIG. 2 shows by way of nonlimiting example such an arrangement, and shows that the addressing electrodes Y1 to Y8 are divided into a first and second sets AB, CD formed respectively by the addressing-maintenance electrodes Y1 to Y4 and Y5 to Y8.
  • the first and third addressing-maintenance electrodes Y1 and Y3 belong to a first group A receiving the pulses with the first phase ⁇ 1, and the second and fourth electrodes Y2 and Y4 belong to the second group B receiving the pulses with the second phase ⁇ 2.
  • the fifth and seventh address-maintenance electrodes Y5, Y7 belong to the same third group C (which represents the first group of the second set C-D) receiving the pulses with a third phase ⁇ 3; the sixth and eighth electrodes Y6 and Y8 receive the pulses with a fourth phase ⁇ 4.
  • the only maintenance electrodes E1 to E8 or type E electrodes can be constituted in one or more networks to which the second sets of pulses with the appropriate phase are applied, that is to say as a function of the set AB , CD and the group to which the addressing-maintenance electrode Y1 to Y8 belongs, with which the maintenance-only electrode E1 to E8 is associated.
  • FIG. 4a shows the first sets of cyclic pulses of period T applied with the first phase ⁇ 1 to the address-maintenance electrodes of a first group A, the electrodes Y1 and Y3 for example; these pulses forming the first voltage VY ( ⁇ 1) already illustrated in FIG. 3a.
  • FIG. 4c shows the first cyclic pulse sets VY ( ⁇ 2) of period T applied with the second phase ⁇ 2 to the addressing-maintenance electrodes Y2, Y4 of the second group B.
  • FIG. 4b shows the second sets of cyclic pulses VE ( ⁇ '1) applied to the first R1E network of maintenance-only electrodes, with phase ⁇ '1.
  • phase difference ⁇ ⁇ 1 is such that the erasing phase T1 is created on the pairs which comprise the address-maintenance electrodes Y1 and Y3 whereas it is the registration phase T2 which is present at the level of the electrodes Y2 and Y4 supplied by the phase ⁇ 2.
  • durations ⁇ CBe and ⁇ CBi of the basic erasing slots CBe and basic slots d 'inscription CBi which have a duration each of the order of 9 microseconds; these two types of slots being spaced by an interval ⁇ t of the order of 3 microseconds, so that the duration ⁇ T of a basic cycle T or period is of the order of 24 microseconds.
  • this duration of a basic cycle makes it possible to carry out the complete addressing of two lines, ie 12 microseconds per line, assuming for example that the addressing-maintenance electrodes Y1 to Y8 constitute only a set of two groups A and B.
  • the erasure pulses IE and the CI registration slots can have the same duration as that of the slots CBe and CBi which support them: but while being active, these pulses and slots IE, CI can have a shorter duration; particularly the CI registration slots can have a shorter ⁇ CI duration, in particular in their active part which is situated substantially at their maximum that is to say towards the voltage VY3. It is thus possible, for example, to give the erasure pulses IE and the registration window a duration ⁇ IE, ⁇ CI equal to or less than 6 microseconds, as well as the masking pulses MX1 to MX4 whose duration ⁇ M can then also be equal to or less than 6 microseconds.
  • the type Y or addressing-maintenance electrodes Y5 and Y7 constitute a third group C belonging to a second set, the other group or fourth group of which is formed by the electrodes Y6 and Y8.
  • Each of these type Y electrodes is associated with a maintenance only electrode E5 to E8, these four type E electrodes constitute a second network R2E to which the second set of pulses, forming the second set of cyclic voltages VE, is applied with a phase ⁇ '2 different from that applied to the first network R1E, delayed for example by a phase difference ⁇ ⁇ 2 substantially equal to or greater than the duration ⁇ CI of a CI registration window.
  • the cyclic voltage set VY is applied to the type Y electrodes of the third group and of the fourth group D with respectively a phase ⁇ 3 and a phase ⁇ 4 such that, when the erasing phase T1 is present at the electrodes of the third group C, it is the T2 registration phase which is present at the electrodes of the fourth group, and vice versa, a phase shift ⁇ ⁇ 1 between these two groups equal to a half period T / 2, as between the two groups A and B of the first set AB.
  • phase difference ⁇ ⁇ 2 is substantially a quarter T / 4 period, about 6 microseconds in the example described; this phase difference ⁇ ⁇ 2 also exists between the voltages VE ⁇ '1 and VE ⁇ '2 applied respectively to the type E electrodes of the first and of the second network R1E and R2E (as well as between the second and the fourth phase ⁇ 2 , ⁇ 4).
  • control method according to the invention makes it possible to considerably increase the cycle speed, and can be applied in all cases where the semi-selective addressing part is independent of the addressing network, that is to say independent of the array of column electrodes X1 to X4.

Description

  • La présente invention concerne un procédé de commande des pixels d'un panneau à plasma à l'aide de phases d'adressage semi-sélectif et de phases d'adressage sélectif. L'invention s'applique aux panneaux du type alternatif à entretien coplanaire, et particulièrement du type dans lequel chaque point élémentaire d'image est défini sensiblement au croisement d'une électrode d'adressage dite électrode colonne avec deux autres électrodes parallèles formant une paire d'électrodes d'entretien.
  • Les panneaux à plasma sont des dispositifs de visualisation à écran plat, qui permettent l'affichage d'images alphanumériques, graphiques ou autres, en couleur ou non. Ces panneaux fonctionnent sur le principe d'une émission de lumière produite par une décharge électrique dans un gaz.
  • Généralement les panneaux à plasma comprennent deux dalles isolantes limitant un volume occupé par un gaz (généralement un mélange à base de néon). Ces dalles supportent des électrodes conductrices croisées de sorte à définir une matrice de cellules formant chacune un point élémentaire d'image ou pixel. Une décharge électrique dans le gaz, provoquant une émission de lumière au niveau d'une cellule ou pixel, a lieu lorsque les électrodes de ce pixel sont convenablement excitées.
  • Bien que certains panneaux à plasma fonctionnent en continu, on préfère le plus souvent utiliser des panneaux du type alternatif dont le fonctionnement est basé sur une excitation en régime alternatif des électrodes. Les électrodes sont recouvertes d'une couche de matériau diélectrique. Elles ne sont donc plus en contact direct avec le gaz, ni avec la décharge.
  • Le fonctionnement d'un panneau à plasma de type alternatif à deux électrodes croisées pour définir un pixel, est connu notamment par un brevet français n° 78 04893 au nom de THOMSON-CSF, publié sous le n° FR-A-2 417 848.
  • En vue notamment d'améliorer la luminance des panneaux à plasma, et aussi de permettre l'affichage de plusieurs couleurs, on préfère utiliser des panneaux à plasma du type excités en régime alternatif comme ci-dessus mentionné, mais qui en outre sont à entretien coplanaire.
  • Dans ce dernier type de panneaux dits alternatifs à entretien coplanaire, chaque pixel de la matrice est constitué par trois électrodes, plus précisément au croisement entre une électrode d'adressage dite électrode colonne avec deux électrodes d'entretien parallèles formant une paire d'électrodes d'entretien. Avec ce type d'écran, il est connu que l'entretien des décharges est assuré entre les deux électrodes d'entretien d'une même paire, et que l'adressage se fait par génération de décharge entre deux électrodes croisées.
  • Les électrodes d'entretien sont formées par deux familles : les électrodes d'une première famille sont dites "électrodes d'adressage-entretien" et les électrodes de la seconde famille sont dites "électrodes uniquement d'entretien". Les électrodes d'adressage-entretien ont pour fonction d'une part, en coopération avec les électrodes uniquement d'entretien, d'assurer les décharges d'entretien, et d'autre part d'assurer une fonction d'adressage ; de ce fait, elles sont individualisées c'est-à-dire qu'elles sont reliées à un ou des dispositifs générateurs d'impulsions par l'intermédiaire de moyens qui permettent d'appliquer une ou des impulsions particulières dites d'adressage, à seulement une ou plusieurs électrodes d'adressage-entretien qui sont sélectionnées parmi la pluralité d'électrodes d'adressage-entretien.
  • Les électrodes uniquement d'entretien (seconde famille) sont généralement reliées à un ou des générateurs d'impulsions de telle manière que ces électrodes uniquement d'entretien sont toutes, aux mêmes instants, portées à des mêmes potentiels, de sorte qu'il n'est pas nécessaire de les individualiser et qu'elles peuvent éventuellement être reliées entre elles.
  • Par adressage on entend les signaux appliqués aux électrodes d'un ou plusieurs pixels sélectionnés parmi la pluralité de pixels, en vue d'obtenir leur inscription (allumage) et/ou leur effacement (extinction). Ceci par opposition aux signaux d'entretien qui sont appliqués sans distinction aux électrodes de toutes les paires d'électrodes d'entretien, en vue de provoquer des décharges d'entretien (émission de lumière) par tous les pixels qui sont à l'état inscrit.
  • L'adressage peut être sélectif ou semi-sélectif :
    • l'adressage est sélectif quand il détermine soit l'inscription, soit l'effacement d'un ou plusieurs pixels sélectionnés, sans modifier l'état des autres pixels appartenant à une même rangée que le ou les pixels sélectionnés (une rangée de pixels pouvant être constituée soit dans la direction d'une ligne de pixels, c'est-à-dire parallèlement aux paires d'électrodes, soit dans une direction perpendiculaire aux lignes, c'est-à-dire parallèlement aux électrodes colonnes.
    • l'adressage est semi-sélectif quand il réalise soit l'inscription, soit l'effacement, simultanément, d'une file ou rangée entière de pixels (la rangée pouvant être parallèle aux paires d'électrodes ou parallèle aux électrodes colonnes). Il est à noter que dans le cas où un procédé de commande comporte une phase d'adressage semi-sélectif (soit pour une opération d'inscription, soit pour une opération d'effacement) cette première phase d'adressage semi-sélectif est généralement suivie d'une phase d'adressage sélectif (qui réalise l'opération contraire).
  • Parmi les avantages apportés par les structures où un pixel est défini au croisement d'une électrode colonne avec une paire d'électrodes d'entretien, ont peut citer une plus grande luminance, ce qui tient au fait notamment que les décharges d'entretien (qui sont celles qui fournissent l'essentiel de la lumière) entre les deux électrodes d'entretien s'effectuent sur une surface qui déborde la surface d'intersection avec l'électrode colonne ; de sorte que la lumière utile n'est pas bloquée par cette électrode colonne qui généralement est montée du côté de la dalle par laquelle on regarde le panneau à plasma.
  • Il est à noter que les électrodes d'adressage-entretien et électrodes uniquement d'entretien peuvent comporter chacune, au niveau de chaque pixel, une protubérance ou surface saillante ; dans une même paire d'électrodes d'entretien, les surfaces saillantes d'une électrode sont orientées vers celles de l'autre électrode, les décharges d'entretien s'effectuant entre ces surfaces saillantes.
  • Un tel écran à plasma est connu notamment du document de brevet européen EP-A-0 135 382 qui décrit également un procédé de commande de cet écran ; il est à noter que dans le dispositif décrit dans ce brevet européen, l'électrode colonne croise les paires d'électrodes d'entretien sur le côté des surfaces saillantes où sont produites les décharges d'entretien.
  • Une autre structure du type dans laquelle chaque pixel est défini au croisement d'une électrode colonne avec une paire d'électrodes d'entretien, ainsi qu'un procédé de commande adapté, sont décrits dans l'article de G. W. DICK publié dans PROCEEDINGS OF THE SID, vol. 27/3, 1986, pages 183-187. Il est à noter que dans la structure décrite dans ce document, les électrodes d'entretien ont une largeur constante, c'est-à-dire qu'elles ne comportent pas de surface saillante en vis-à-vis dans une paire d'électrode d'entretien, pour définir la zone de décharge d'entretien ; cette structure comporte par contre des barrières en matériau isolant, qui servent à confiner des décharges d'entretien dans la zone de croisement avec l'électrode colonne.
  • Un autre type de panneau à plasma, auquel le procédé de l'invention s'applique de manière particulièrement intéressante, est représenté sur la figure 1. Un tel panneau fait l'objet en soi, d'une demande de brevet français n° 88 03953 déposée le 25 Mars 1988 au nom de THOMSON-CSF. Cette demande de brevet français a été publiée sous le n° 2629265, le type nouveau de panneau à plasma auquel elle se rapporte est décrit ci-après.
  • Le panneau représenté sur la figure 1 comprend une première dalle de verre 10 recouverte d'une première famille d'électrodes notée Xj, où j est un entier allant de 1 à N (une seule électrode Xj est représentée ; l'ensemble dalle 10-électrode Xj est recouvert d'une couche 12 de matériau diélectrique, éventuellement recouvert d'une couche d'oxyde tel que MgO (non représentée). Sur la couche diélectrique 12 se trouve une pastille 14 d'un matériau luminophore, c'est-à-dire apte à émettre un rayonnement coloré, sous l'effet d'un rayonnement ultra-violet.
  • Le panneau comprend encore une seconde dalle de verre 20 recouverte d'une seconde famille d'électrodes constituées de paires d'électrodes dites respectivement, d'entretien-adressage (Yae)i et d'entretien (Ye), où i est un entier compris entre 1 et P. Les électrodes d'entretien-adressage et d'entretien comprennent des protubérances ou surfaces en saillie 22 et 24, disposées en regard les unes des autres. L'ensemble dalle 20-électrodes est recouvert d'une couche diélectrique 26.
  • En fonctionnement normal, les deux dalles 10 et 20 et leurs réseaux d'électrodes sont rapprochés et tenus écartés par une cale d'épaisseur (non représentée), et un gaz est présent dans le volume compris entre les dalles et la cale. Le panneau une fois monté présente ainsi deux réseaux d'électrodes orthogonales, en ce sens que les électrodes Xj sont orthogonales aux électrodes (Yae)i et (Ye). Les électrodes Xj peuvent chevaucher les protubérances 22 et 24 ou être légèrement décalées sur le côté de celles-ci. Un pixel Pij est défini alors par une électrode Xj (électrode colonne) et une paire d'électrodes d'entretien (Yae)i et (Ye).
  • Si l'on commande le panneau à plasma ci-dessus décrit où d'autres panneaux à plasma de type alternatif à entretien coplanaire tels que par exemple les panneaux précédemment cités, par un procédé de commande connu, on observe notamment que le fonctionnement de ces panneaux est trop limité quant à la vitesse avec laquelle on peut renouveler une image, pour pouvoir être utilisé comme écran de visualisation dit "toutes options", c'est-à-dire pour afficher une image avec un nombre suffisant de demi-teintes ou dégradés. En effet, surtout avec la réalisation d'écrans couleurs, il devient très important de pouvoir posséder un grand nombre de demi-teintes (128 par exemple) pour réaliser une image correcte (type image de tube cathodique en télévision) sur un panneau à plasma dont le nombre de lignes de pixels est au moins égal à 512.
  • Le temps nécessaire à former une image dépend du nombre de pixels et du temps nécessaire aux opérations d'adressage d'effacement, d'adressage d'inscription et d'entretien.
  • Pour réduire le temps nécessaire à former une image, on cherche à réduire le temps global d'adressage, et à cet effet la méthode connue consiste à faire un adressage semi-sélectif (soit pour l'effacement, soit pour l'inscription et en ligne ou en colonne) suivi d'un adressage sélectif.
  • Ainsi par exemple, en supposant que l'adressage semi-sélectif concerne l'opération d'effacement et soit effectuée selon les lignes de pixels, un cycle de base ou temps de cycle par ligne comprend généralement :
    • une phase d'adressage semi-sélectif durant laquelle une ligne entière de pixels est effacée.
    • la phase d'adressage semi-sélectif est suivie d'une phase de stabilisation (facultative)
    • puis ensuite une phase d'adressage sélectif durant laquelle uniquement le ou les pixels sélectionnés sont inscrits.
    • puis une phase spécifique d'entretien.
  • A chacune de ces phases correspond une combinaison particulière de tensions développées entre les 3 électrodes qui forment un pixel, par suite de l'application sur l'une ou plusieurs de ces électrodes d'impulsions positives ou négatives formant des jeux d'impulsions cycliques.
  • Ceci est répété pour chaque ligne de pixels.
  • Il semble qu'actuellement la durée minimum que l'on puisse atteindre pour un cycle de base comme ci-dessus défini est de l'ordre de 20 µs.
  • Aussi, dans le cas par exemple d'un panneau à plasma de 512 X 512 pixels par exemple, si l'on renouvelle l'image à 50 HZ, seulement 4 demi-teintes sont possibles compte tenu de la méthode utilisée pour la commande des demi-teintes.
  • L'invention concerne un procédé pour la commande d'un panneau à plasma alternatif à entretien coplanaire dont chaque pixel comporte trois électrodes. Ce procédé de commande est du type à adressage semi-sélectif suivi d'un adressage sélectif et il a pour but principalement de permettre la réduction, globalement, des temps d'adressage, de sorte à autoriser notamment un plus grand nombre de demi-teintes ou encore un plus grand nombre de pixels.
  • Selon l'invention, un procédé de commande d'un panneau à plasma alternatif à entretien coplamaire, ledit panneau comportant des électrodes colonnes croisées avec deux familles d'électrodes parallèles, la première famille étant constituée par des électrodes d'adressage-entretien et a seconde famille étant constituée par des électrodes uniquement d'entretien, chaque électrode d'adressage-entretien formant avec une électrode uniquement d'entretien voisine une paire d'électrodes d'entretien, chaque paire d'électrodes d'entretien correspondant à une ligne de pixels perpendiculaire aux électrodes colonnes, les pixels étant formés sensiblement à chaque croisement d'une électrode colonne avec une paire d'électrodes d'entretien, ledit procédé consistant à appliquer des premiers jeux d'impulsions de tension cycliques à toutes les électrodes d'adressage-entretien et à appliquer des seconds jeux d'impulsions de tension cycliques à toutes les électrodes uniquement d'entretien, les deux jeux d'impulsions de tension ayant une même période à l'intérieur de laquelle lesdites impulsions de tension développent entre les électrodes de chaque pixel des différences de tension qui, d'une part, engendrent une phase destinée à une commande de pixels par adressage semi-sélectif, et engendrent ensuite une seconde phase destinée à une commande de pixels par adressage sélectif, et qui d'autre part engendrent des décharges d'entretien, ledit procédé étant caractérisé en ce qu'il consiste pratiquement à commander simultanément certains pixels par adressage semi-sélectif et d'autres pixels par adressage sélectif.
  • Par cette méthode, le temps nécessaire à la commande complète (effacement et/ou inscription) d'une ligne ou d'une colonne de pixels reste inchangé, mais pendant ce même temps on peut réaliser la commande complète d'au moins deux lignes ou colonnes de pixels de sorte que l'on réduit d'une même mesure le temps de formation d'image.
  • L'invention sera mieux comprise et d'autres avantages qu'elle procurent apparaîtront à la lecture de la description qui suit, faite à titre d'exemple non limitatif, en référence aux dessins annexés dans lesquels :
    • la figure 1 déjà décrite montre un nouveau type de panneau à plasma auquel l'invention peut s'appliquer ;
    • la figure 2 montre de manière schématique un panneau à plasma auquel le procédé de l'invention peut s'appliquer ;
    • les figures 3a à 3h montrent des signaux qui expliquent le fonctionnement du panneau à plasma montré à la figure 2 et commandé par le procédé conforme à l'invention ;
    • les figures 4a à 4g montrent des signaux qui illustrent particulièrement la simultanéité de l'adressage semi-sélectif et de l'adressage sélectif.
  • La figure 2 est un schéma de principe d'un panneau à plasma 1 auquel peut s'appliquer le procédé de commande de l'invention. Pour plus de clarté de la figure le panneau à plasma 1 est représenté principalement par des conducteurs ou électrodes disposées en colonne X1, X2, X3, X4, appelés électrodes colonnes,et par deux familles de conducteurs ou électrodes d'entretien disposées en ligne, d'une part Y1 à Y8 pour la première famille, et d'autre part E1 à E8 pour la seconde famille.
  • Les électrodes d'entretien Y1 à Y8 et E1 à E8 sont disposées par paire, c'est-à-dire qu'une première électrode Y1 de la première famille est associée avec une électrode E1 voisine appartenant à la seconde famille, pour constituer une paire P1 d'électrodes d'entretien ; une seconde électrode Y2 de la première famille est associée avec une seconde électrode E2 de la seconde famille pour constituer une seconde paire P2 d'électrodes d'entretien ; et de même pour les électrodes Y3 et E3, puis Y4 et E4, Y5 et E5, Y6 et E6, Y7 et E7, Y8 et E8 qui constituent respectivement une troisième quatrième, cinquième, sixième, septième et huitième paire P3 à P8 d'électrodes d'entretien. A chaque croisement d'une électrode colonne X1 à X4 avec une paire d'électrodes P1 à P8 et constitué un point élémentaire d'image ou pixel PX1 à PX32 qui est symbolisé sur la figure 2 par un cercle en traits pointillés ; chaque pixel pouvant être formé par exemple selon la structure représentée à la figure 1 et les deux électrodes de chaque paire d'électrodes P1 à P4 peuvent comporter ou non des protubérances ou parties saillantes (non représentées sur la figure 2) montrées à la figure 1 avec les repères 22, 24.
  • Dans l'exemple non limitatif décrit, et pour plus de clarté de la figure, seulement 4 électrodes colonnes X1 à X4 et huit électrodes d'entretien de chaque famille ont été représentées de sorte que seulement 32 pixels PX1 à PX32 sont constitués, mais bien entendu l'arrangement matriciel de pixels peut être beaucoup plus important, constitué par exemple par les croisements de 512 électrodes en colonne avec 512 paires d'électrodes d'entretien, chaque paire comportant une électrode de la première famille Y avec une électrode de la seconde famille E.
  • Les électrodes colonnes X1 et X8 assurent de manière classique uniquement un rôle d'adressage. Elles sont chacune individuellement reliées à une sortie différente SX1 à SX4 d'un dispositif d'adressage colonne G1 ; le dispositif d'adressage G1 délivre des impulsions de tension qui seront davantage explicitées dans une suite de la description relative aux figure 3a à 3h.
  • Les électrodes Y1 à Y8 de la première famille sont des électrodes d'adressage-entretien et de ce fait elles sont également individualisées, c'est-à-dire qu'elles sont chacune reliées à une sortie différente SY1 à SY8 d'un dispositif d'adressage ligne G2 ; le dispositif d'adressage ligne G2 délivre des jeux d'impulsions de tensions qui seront davantage explicitées en référence aux figures 3a à 3h.
  • Les électrodes E1 à E8 de la seconde famille E sont du type électrode uniquement d'entretien et elles n'ont pas à être adressée ; elles sont reliées à un dispositf générateur d'impulsions G3 qui délivre des seconds jeux d'impulsions de tension qui seront davantage explicités dans une suite de la description faite en référence aux figures 3a à 3h.
  • Les dispositifs G1, G2, G3 sont eux-mêmes commandés par une unité centrale de commande (non représentée) qui gère, d'une manière en elle-même connue, l'allumage ou l'extinction ou le maintien allumé ou éteint des pixels PX1 à PX32.
  • Le procédé de commande conforme à l'invention est du type comportant des phase d'adressage semi-sélectif et des phases d'adressage sélectif. Dans l'exemple non limitatif décrit, chaque phase d'adressage semi-sélectif permet de réaliser l'effacement d'un ligne L1 à L8 entière de pixels PX1 à PX 32 : une ligne L1 à L8 est une ligne de pixels constituée par les pixels PX1 à PX32 définis par chaque paire P1 à P8 d'électrodes d'entretien : ainsi la première ligne L1 contient les 4 pixels PX1 à PX4, et correspond à la paire P1 d'électrodes d'entretien ; la seconde ligne L2 contient 4 pixels PX5 à PX8 et correspond à la seconde paire P2 d'électrodes, etc... jusqu'à la huitième ligne L8 correspondant à la huitième paire P8 comprenant les pixels PX29 à PX32.
  • Selon une caractéristique de l'invention on effectue un adressage semi-sélectif d'au moins une ligne L1 à L8, la seconde ligne L2 par exemple, pendant que l'on effectue l'adressage sélectif d'au moins un autre ligne, la troisième ligne L3 par exemple. Ceci signifie que dans l'exemple ayant par exemple effacé dans un cycle de base précédent tous les pixels PX5 à PX8 de la seconde ligne L2, on inscrit un ou plusieurs pixels PX5 à PX8 de cette ligne pendant que l'on efface tous les pixels PX9 à PX12 de la troisième ligne L3 ; un temps de cycle de base qui suit permettant par exemple d'inscrire un ou plusieurs des pixels PX9 à PX12 de la troisième ligne L3 pendant que l'on efface les pixels PX13 à PX16 de la quatrième ligne L4.
  • Il résulte d'une telle méthode que le temps nécessaire à la commande complète (effacement et inscription) de deux lignes de pixels est divisée par deux.
  • Dans l'exemple non limitatif de la description, la commande simultanée de deux lignes de pixels l'une par un adressage semi-sélectif et l'autre par un adressage sélectif est obtenue en appliquant aux électrodes d'adressage-entretien Y1 à Y4 des jeux d'impulsions de mêmes formes et mêmes amplitudes, mais qui diffèrent quant à leur phase. Dans l'exemple non limitatif décrit, les signaux appliqués aux électrodes d'adressage-entretien sont délivrés par le dispositif d'adressage G2 avec quatre phases différentes ∅1, ∅2, ∅3, ∅4 mais bien entendu, deux phases sont suffisantes pour obtenir une réduction du temps d'image, et également un nombre plus grand peut être utilisé;
  • Ainsi, le procédé de l'invention consiste à réaliser l'effacement semi-sélectif d'un ligne L1 à L8 de pixels indépendamment du signal présent sur les électrodes colonnes X1 à X4.
  • Les figures 3a à 3h montrent des diagrammes qui illustrent un fonctionnement du panneau à plasma 1 qui correspond par exemple au cas où l'on veut successivement effacer le sixième pixel PX6 et inscrire le septième pixel PX7, situés sur la seconde ligne L2. On remarque que le sixième pixel PX6 est situé à l'intersection entre la seconde paire d'électrodes PE2 et la seconde électrode colonne X2 ; et que le septième pixel PX7 est situé à l'intersection entre la seconde paire d'électrodes PE2 et la troisième électrode colonne X3. Pour simplifier cette partie des explications donnée en références aux figures 3 à 3h, on admet que les signaux appliqués aux électrodes d'adressage-entretien Y1 à Y8 ont une même phase.
  • Les figures 3a et 3b montrent respectivement un premier et un second jeu de tensions cycliques VY, VE qui sont appliquées respectivement à toutes les électrodes d'adressage-entretien Y1 à Y8 et à toutes les électrodes uniquement d'entretien E1 à E8. La figure 3c illustre des décharges produites entre les électrodes Y2 et E2 de la seconde paire P2 d'électrodes. Les figures 3d, 3e, 3f, 3g, montrent respectivement des impulsions de tension formant des impulsions de masquage appliquées aux électrodes colonnes X1 à X4.
  • La figure 3h illustre une décharge d'inscription DI entre la troisième électrode colonne X3 et la seconde électrode Y2.
  • Le premier et le second jeux de tensions VY, VE, varient de part et d'autre d'une même tension de référence VR qui est à zéro volt par exemple ; les électrodes colonnes X1 à X4 étant également, au repos, au potentiel de la tension de référence VR.
  • Les premier et second jeux de tension VY, VE, sont constitués respectivement par un premier et un second jeux d'impulsions de tension ayant un caractère cyclique et une même période T. Durant cette période T, la combinaison de ces impulsions de tension développe entre les 2 électrodes de chaque paire P1 à P8 des différences de tension (non représentées) qui détermine une phase d'effacement T1 (adressage semi-sélectif) suivie d'une phase d'inscription (adressage sélectif) T2.
  • Avant un instant t0 où débute la phase d'effacement T1, les premier et second jeux de tension VY et VE ont des polarités opposées, par exemple respectivement négative et positive. A l'instant t0, ces polarités s'inversent :
    • la première tension VY passe d'une valeur -VY1 à la valeur positive +VY1, cette transition a une amplitude Δ VY1 ; la valeur positive +VY1 est conservée jusqu'à un instant t4 où la polarité de la première tension VY devient négative.
    • la seconde tension VE passe d'une valeur positive +VE1 à une valeur négative -VE1 soit une variation ayant une amplitude Δ VE qui est par exemple inférieure à Δ VY1 ; dans l'exemple non limitatif décrit, la valeur négative -VE1 est conservée jusqu'à un instant t2 qui précède l'instant t4 ; à l'instant t2, la polarité de la seconde tension VE s'inverse et devient positive, marquant la fin d'un créneau négatif CVEe destiné à permettre l'effacement.
  • A l'instant to, la variation d'amplitude Δ VY1 de la première tension VY s'ajoute à la variation Δ VE de la seconde tension VE pour constituer la différence de potentiel appliquée entre les 2 électrodes de chaque paire P1 à P8. Mais, selon une caractéristique du procédé de l'invention, l'amplitude de la première variation Δ VY1 de la première tension VY est insuffisante pour que la différence de potentiel ainsi développée entre les 2 électrodes (d'adressage-entretien Y1 à Y8 et uniquement entretien E1 à E8) de chaque paire P1 à P8 provoque une décharge entre ces deux électrodes.
  • La variation Δ VY1 de la première tension VY appliquée à toutes les électrodes d'adressage-entretien Y1 à Y8 est formée par le front avant d'un créneau de tension qui est établi entre l'instant to et l'instant t4. Ce créneau, appelé créneau de base d'effacement CBe est destiné à constituer une base ou piédestal ou marche de tension à une impulsion d'effacement IE.
  • Selon l'invention, on superpose une impulsion de tension appelée impulsion d'effacement IE, IE' uniquement au créneau de base d'effacement CBe appliquée à l'électrode d'adressage-entretien Y1 à Y8 qui est adressée, c'est-à-dire correspondant à la paire P1 à P8 sélectionnée ; compte tenu de l'exemple décrit, toutes les électrodes d'adressage-entretien Y1 à Y8 reçoivent un créneau de base d'effacement CBe mais c'est uniquement pour la seconde électrode Y2 qu'une impulsion d'effacement est superposée à ce créneau de base. De ce fait, au niveau de la seconde électrode Y2, la première tension VY atteint une seconde valeur VY2 supérieure à la première valeur VY1.
  • En superposant au créneau de base d'effacement CBe une impulsion d'effacement IE, on obtient une variation Δ VY2 qui s'ajoute à la variation Δ VE de le seconde tension VE pour provoquer, entre les 2 électrodes Y2 et E2 de la paire P2 sélectionnée, une décharge d'effacement (figure 3c) DEF. La décharge d'effacement DEF a une intensité plus faible qu'une décharge d'entretien, et elle permet d'annuler de façon classique les charges (non représentées) qui ont été accumulées entre les 2 électrodes de la seconde paire P2 au niveau du sixième pixel, et ceci sans accumuler de nouvelles charges de polarité inverse.
  • L'impulsion d'effacement peut avoir la forme d'un créneau rectangulaire ayant soit une forte amplitude et une durée brève, soit une faible amplitude et une longue durée, ou encore être formée d'une impulsion dont le front de montée s'établit de manière relativement lente et constitue une rampe, comme il est expliqué dans le demande de brevet n° 78 04893 précédemment citée, déposée au nom de THOMSON-CSF et publiée sous le n° FR-A- 2 417 848, et qui doit être considérée comme faisant partie de la présente description.
  • Dans l'exemple non limitatif décrit, l'impulsion d'effacement IE (représentée en traits pointillés) qui est superposée au créneau de base d'effacement CBe, est une impulsion dont le front de montée R s'établit de façon relativement lente comme décrit dans le brevet ci-dessus cité, jusqu'à atteindre sensiblement la seconde valeur VY2.
  • La décharge d'effacement DEF se produit à un instant t1 qui correspond sensiblement à l'instant où l'impulsion d'effacement IE atteint la seconde valeur VY2. Dans cette configuration, tous les pixels PX5 à PX8 de la seconde paire P2 sont effacés.
  • Ainsi on note qu'une caractéristique importante du procédé de l'invention consiste à engendrer une décharge d'effacement uniquement entre les deux électrodes d'entretien Y2, E2 d'une même paire P2 donnée, cette décharge d'effacement DEF ayant pour effet d'effacer tous les pixels qui correspondent à cette paire P2 d'électrodes.
  • Il est à noter que pour les paires d'électrodes P1 et P3 à P8 dont l'électrode d'adressage-entretien ne reçoit pas d'impulsion d'effacement IE, la présence du créneau de base d'effacement CBe n'a aucune incidence : tous les pixels qui sont effacés, restent effacés, et tous les pixels qui sont inscrits restent inscrits, c'est-à-dire que les charges (non représentées) qui existaient sur les deux électrodes d'une paire d'électrodes d'entretien, à l'instant to par exemple, subsistent.
  • Dans l'exemple non limitatif décrit, l'impulsion d'effacement IE s'achève à un instant t3 qui suit l'instant t2 où la polarité de la tension VE des électrodes uniquement d'entretien devient positive à la valeur +VE.
  • A partir de l'instant t4, la tension VY a une polarité négative jusqu'à un instant t5 qui marque le début de la phase d'inscription T2.
  • A l'instant t5, les polarités des tensions VY et VE s'inversent :
       - la tension VY appliquée aux électrodes d'adressage-entretien Y1 à Y8 passe à une polarité positive avec directement la seconde valeur VY2 soit une variation Δ VY2 qui s'ajoute à la variation Δ VE appliquée aux électrodes uniquement d'entretien : il en résulte qu'à l'instant t5 des décharges d'entretien (non représentées) sont engendrés au niveau de tous les pixels inscrits.
  • Selon une autre caractéristique de l'invention, après l'effacement de tous les pixels d'une paire P1 à P4 d'électrodes d'entretien donnée, la seconde paire P2 dans l'exemple, on réalise l'inscription des pixels désirés appartenant à cette paire p2 d'électrodes, en provoquant une décharge d'inscription entre la seconde électrode d'adressage-entretien Y2 et chacune des électrodes colonnes X1 à X4 dont l'intersection avec la seconde électrode d'adressage-entretien Y2 représente un pixel que l'on veut inscrire. Ainsi dans le cas qui a été prévu, à savoir l'inscription du septième pixel PX7, on réalise une décharge d'inscription uniquement entre la seconde électrode d'adressage-entretien Y2 et la troisième électrode colonne X3.
  • A l'instant t5 la variation de la tension VY de négatif à positif constitue le front avant d'un créneau de tension CBi appelé créneau de base d'inscription et qui est appliqué à toutes les électrodes d'adressage-entretien Y1 à Y8. Le créneau de base d'inscription est destiné à former une marche de tension à laquelle on superpose un créneau d'inscription C1 (représenté en trait pointillé). Bien entendu un créneau d'inscription C1 n'est superposé au créneau de base d'inscription CBi que pour la paire P1 à P8 qui est adressée : soit dans l'exemple pour la seconde paire P2, c'est-à-dire uniquement sur le créneau de base d'inscription CBi qui est appliqué à la seconde électrode d'adressage-entretien Y2.
  • Ainsi le créneau de base d'inscription CBi constitue également un créneau d'entretien pour les électrodes d'adressage-entretien non adressées.
  • Le créneau d'inscription CI superposé au créneau de base d'inscription CBI atteint une valeur de tension + VY3 telle que la différence de potentiel VY3 - VR qui est alors engendrée entre les électrodes colonnes X1 à X4 et la seconde électrode d'adressage-entretien Y2 peut provoquer une décharge d'amorçage ou décharge d'inscription, au croisement entre cette dernière et les électrodes colonnes X1 à X4. Aussi, on inscrit uniquement le ou les pixels désirés en appliquant sur les électrodes colonnes X1 à X4 qui correspondent aux pixels qui ne doivent pas être inscrits, une impulsion de tension dite impulsion de masquage MX1 à MX4, de même polarité que le créneau d'inscription CI ; de sorte que le potentiel nécessaire à produire une décharge entre une électrode colonne X1 à X4 et l'électrode Y2, est atteint uniquement avec l'électrode colonne qui conserve le potentiel VR c'est-à-dire celle à laquelle on n'applique pas d'impulsion dite de masquage. Bien entendu si une impulsion de masquage est appliquée sur toutes les électrodes colonnes X1 à X4 aucun des pixels n'est inscrit. Dans l'exemple non limitatif décrit les électrodes colonnes X1 à X4 sont portées au potentiel de la tension de référence VR, sauf pendant la phase d'inscription T2 où une impulsion de masquage peut leur être appliquée, qui porte leur tension à une valeur VX.
  • Dans l'exemple décrit, où c'est le septième pixel PX7 que l'on cherche à inscrire, on applique une impulsion de masquage MX1, MX2, MX4, sur la première, la seconde et la quatrième électrode colonne X1, X2, X4 pendant au moins la durée du créneau d'inscription CI et on n'applique pas d'impulsion de masquage sur la troisième électrode colonne X3 (figures 3d, 3e, 3f, 3g). Il en résulte sensiblement à un instant t7 une décharge d'inscription DI (illustrée à la figure 3h) entre la seconde électrode adressage-entretien Y2 et la troisième électrode colonne X3, au croisement de ces derniers, c'est-à-dire au niveau du septième pixel PX7.
  • Il est à remarquer que la seconde tension VE appliquée aux électrodes uniquement d'entretien E1 à E8 a une polarité négative depuis l'instant t5 jusqu'à un instant t6 où cette polarité passe à positif, à la valeur +VE1. L'instant t6 se situe un peu avant que ne débute le créneau d'inscription CI, ou en tout cas avant un instant t7 où le créneau d'inscription CI atteint la valeur VY3 ; la seconde tension VE comporte alors une même polarité que la première tension VY appliquée aux électrodes d'adressage-entretien et, entre la seconde électrode d'entretien E2 et la seconde électrode d'adressage-entretien Y2 existe alors une différence de potentiel insuffisante pour provoquer une décharge parasite lors de la superposition du créneau d'inscription CI.
  • Il est à noter qu'un avantage apporté par cet agencement réside dans le fait que les impulsions de masquage MX1 à MX4 sont produites avec une puissance relativement faible, et avec une amplitude en tension relativement faible, de sorte que des composants standards et à faible prix peuvent être utilisés pour la commande des électrodes colonnes X1 à X4. On note en outre qu'un autre avantage particulièrement important, apporté par le procédé conforme à l'invention, réside en ce qu'il est créé une unique décharge entre l'électrode colonne X1 à X4 qui correspond au pixel qu'on veut inscrire et la paire P1 à P4 d'électrodes considérée, et en ce que cette décharge se produit uniquement pour les points à inscrire et non pas pour tous les points de la ligne, ce qui tend à augmenter de manière considérable la longévité des luminophores qui sont éventuellement utilisés pour l'émission de lumière en couleur.
  • On indique ci-après à titre uniquement d'exemple non limitatif, des valeurs de tension qui peuvent être appliquées pour la mise en oeuvre du procédé de l'invention, avec un panneau à plasma de type classique :
    • les variations Δ VE de la seconde tension VE peuvent être de l'ordre de 100 volts ;
    • pour la première tension VY, les variations Δ VY1 peuvent être de l'ordre de 150 volts, les variations Δ VY2 peuvent être de l'ordre de 80 volts ;
    • les impulsions de masquage appliquées aux électrodes colonnes X peuvent avoir une amplitude de l'ordre de 40 volts ;
    • les créneaux d'inscription CI peuvent avoir une amplitude de l'ordre de 80 volts. Bien entendu ces valeurs sont données uniquement à titre d'exemple et peuvent être aisément modifiées en fonction des caractéristiques du panneau à plasma utilisé.
  • A l'instant t8, la fin du créneau de base d'inscription CBi correspond à la fin de la phase d'inscription T2, et correspond à une inversion de la polarité de la première tension VY appliquée aux électrodes d'adressage-entretien Y1 à Y8, polarité qui devient négative. La seconde tension VE appliquée aux électrodes d'entretien E1 à E4 est positive depuis sensiblement l'instant t6 et, dans l'exemple non limitatif décrit, elle conserve cette polarité positive jusqu'à un instant T0' qui marque le début d'un nouveau cycle de la base T. Il est à noter que la décharge d'inscription DI a engendré l'accumulation de charges négatives (non représentées) sur le diélectrique de la seconde électrode d'adressage-entretien Y2 au niveau du septième pixel PX7 : aussi à la transition de positif vers négatif de la première tension VY, due à la fin du créneau d'inscription CI et du créneau de base d'inscription CBi, s'ajoute l'effet de la présence des charges négatives accumulées sur l'électrodes Y2 de sorte que, sensiblement quant la tension VY atteint la valeur négative -VY1, il se produit une décharge qui constitue une reprise de décharge d'entretien DRE (figure 3c) au niveau du septième pixel PX7, entre la seconde électrodes d'adressage-entretien Y2 et la seconde électrode d'entretien E2. Par suite de cette reprise en décharge d'entretien, des charges peuvent être à nouveau accumulées à la fois sur les deux électrodes de la seconde paire P2.
  • Il est à remarquer que les variations Δ VY2 et Δ VE par exemple, des tensions VY et VE appliquées respectivement aux électrodes d'adressage-entretien Y1 à Y4 et aux électrodes dites uniquement d'entretien E1 à E4, sont d'amplitudes différentes, contrairement à ce qui se pratique généralement dans l'art antérieur. Mais bien entendu ces variations de tensions peuvent être adaptées pour avoir des amplitudes semblables. Cependant il est intéressant avec le procédé de commande selon l'invention, d'avoir une amplitude plus grande des variations de la tension VY appliquée aux électrodes d'adressage-entretien Y1 à Y4, afin de plus facilement engendrer une décharge d'inscription qui génère suffisamment de charges pour faciliter la reprise en décharge d'entretien entre l'électrode d'adressage-entretien Y1 à Y8 intéressée et l'électrode dite uniquement d'entretien E1 à E8 correspondante, sans devoir apporter de charges sur cette électrode E1 à E8.
  • Avec le procédé de commande selon l'invention la phase d'adressage sélectif c'est-à-dire dans l'exemple la phase d'inscription, consiste à provoquer une décharge entre l'électrode d'adressage-entretien Y1 à Y8 de la paire P1 à P8 adressée et celle ou celles des électrodes colonnes X1 à X4 intéressée, c'est-à-dire dont l'intersection avec la paire adressée représente un pixel à inscrire : dans l'exemple décrit une décharge d'entretien a été provoquée entre la seconde électrode d'adressage-entretien Y2 et la troisième colonne X3 pour inscrire le septième pixel PX7.
  • A cet effet, on augmente la différence de potentiel entre l'électrode d'adressage-entretien qui est adressée et uniquement les électrodes colonnes X1 à X4 intéressées, par une augmentation de la première tension VY appliquée à l'électrode d'adressage-entretien sélectionnée, et simultanément, pour éviter l'inscription de pixels autres que ceux sélectionnés, on modifie la tension des autres électrodes colonnes qui correspondent à ces autres pixels de sorte à maintenir vis-à-vis de ces autres électrodes colonnes une différence de potentiel insuffisante à engendrer des décharges ; ceci étant obtenu par les impulsions de masquage MX1 à MX4.
  • On observe d'une part, que la présence d'impulsion de masquage MX1 à MX4 n'est utile que durant la phase d'inscription T2 et plus précisément seulement quand le créneau d'inscription CI est présent (la durée de ce dernier pouvant varier). On observe d'autre part que la présence d'une impulsion de masquage MX1 à MX4 n'interfère pas avec les décharges d'entretien (qui se produisent entre les deux électrodes de chaque paire P1 à P8), et n'interfère pas avec l'opération d'adressage semi-sélectif à savoir l'effacement dans l'exemple décrit.
  • Dans l'exemple non limitatif de la description durant un cycle de base T, les décharges d'entretien de pixels inscrits se produisent aux instants t5 et t8 qui correspondent respectivement au début et à la fin du créneau d'inscription CBi dont l'amplitude, représentée par la variation Δ VY2, est suffisante pour provoquer les décharges d'entretien quand elles s'ajoutent à une variation Δ VE de la seconde tension VE (il est à noter que le nombre de décharges d'entretien par cycle T pourrait être augmenté en intégrant dans ce cycle une phase spécifique d'entretien tel que formée par exemple par le créneau de base d'inscription CBi, qui éventuellement pourrait être intercalé entre la phase T1 d'effacement et la phase T2 d'inscription).
  • On remarque que l'amplitude des variations Δ VE de la seconde tension VE (appliquée aux électrodes uniquement d'entretien E1 à E8) est inférieure à l'amplitude Δ VY2 de la première tension VY et l'on peut ajuster les valeurs de chacune de ces deux amplitudes pour, d'une part, provoquer des décharges d'entretien quand elles s'ajoutent, et d'autre part, pour que la différence de potentiel entre une électrode uniquement d'entretien E1 à E8 et une électrode colonne X1 à X4 à laquelle est appliquée une impulsion de masquage MX1 à MX4 ne provoque pas de décharge parasite entre ces deux électrodes (en ajustant également l'amplitude de l'impulsion de masquage). Il est à noter que ce dernier point peut être obtenu également en rendant positive la polarité de la tension VE avant que l'impulsion de masquage n'arrive à son maximum.
  • Dans ces conditions l'application d'une impulsion de masquage MX1 à MX4 sur une électrode colonne X1 à X4 est sans effet aux instants où s'effectuent les opérations d'effacement et les décharges d'entretien. Avec le procédé de l'invention, ceci est mis à profit pour adresser deux ou plusieurs lignes L1 à L8 ou paires P1 à P8 en parallèle pendant un cycle de base c'est-à-dire une période T.
  • En effet, si l'on constitue les électrodes d'adressage-entretien Y1 à Y8 ou électrodes de type Y en au moins un ensemble de deux groupes (chaque ensemble étant constitué par deux groupes d'électrodes d'adressage-entretien) : un groupe reçoit les premiers jeux d'impulsions (VY) avec une première phase ∅1, et l'autre groupe reçoit ce même type d'impulsions (VY) avec une seconde phase ∅2 telle que, quand est présente la phase d'inscription T2 (adressage sélectif) au niveau des paires P1 à P8 d'électrodes d'entretien formée avec des électrodes d'adressage-entretien du premier groupe, est alors présente la phase d'effacement (adressage semi-sélectif) au niveau des paires formées avec les électrodes d'adressage-entretien du second groupe, et réciproquement.
  • La figure 2 représente à titre d'exemple non limitatif un tel agencement, et montre que les électrodes d'adressage Y1 à Y8 sont partagées en un premier et second ensembles A-B, C-D formés respectivement par les électrodes d'adressage-entretien Y1 à Y4 et Y5 à Y8. Les première et troisième électrodes d'adressage-entretien Y1 et Y3 appartiennent à un premier groupe A recevant les impulsions avec la première phase ∅1, et les seconde et quatrième électrodes Y2 et Y4 appartiennent au second groupe B recevant les impulsions avec la seconde phase ∅2.
  • Pour le second ensemble C-D, les cinquième et septième électrodes d'adressage-entretien Y5, Y7 appartiennent à un même troisième groupe C (qui représente le premier groupe du second ensemble C-D) recevant les impulsion avec une troisième phase ∅3 ; les sixième et huitième électrodes Y6 et Y8 reçoivent les impulsions avec une quatrième phase ∅4.
  • Les électrodes uniquement d'entretien E1 à E8 ou électrodes de type E peuvent être constituées en un ou plusieurs réseaux auxquels sont appliqués les seconds jeux d'impulsions avec la phase appropriée, c'est-à-dire en fonction de l'ensemble A-B, C-D et du groupe auquel appartient l'électrode d'adressage-entretien Y1 à Y8 avec laquelle est associée l'électrode uniquement d'entretien E1 à E8.
  • Ainsi par exemple, les électrodes uniquement d'entretien E1 à E8 peuvent être séparées en autant de réseaux qu'il y a de groupes d'électrodes d'adressage-entretien Y1 à Y8, de sorte que pour chaque paire d'entretien P1 à P8, la phase relative des jeux d'impulsions appliqués aux deux électrodes d'une même paire P1 à P8 soit celle qui est représentée dans l'exemple des figures 3a et 3b. La figure 2 illustre un tel cas par des liaisons en traits mixtes qui relient au générateur d'impulsions G3 :
    • la première et la troisième électrodes uniquement d'entretien E1, E3 par une première sortie 21 du générateur d'impulsions G3, délivrant le second jeu d'impulsions avec une phase ∅'1.
    • la seconde et la quatrième électrodes E2, E4 par une seconde sortie 22, délivrant les impulsions avec une seconde phase ∅'2.
    • la cinquième et la septième électrodes E5, E7 par une troisième sortie 23 délivrant les impulsions avec une troisième phase ∅'3.
    • la sixième et la huitième électrodes E6, E8 par une quatrième sortie 24 délivrant les impulsions avec une quatrième phase ∅'4.
  • Cependant, un réseau d'électrodes uniquement d'entretien c'est-à-dire du type E, peut être commun aux deux groupes d'électrodes d'adressage-entretien c'est-à-dire du type Y appartenant à un même ensemble A-B ou C-D. Ainsi par exemple, comme il est illustré en traits pleins sur la figure 2 :
    • les 4 premières électrodes uniquement d'entretien E1 à E4 sont réunies entre elles et reliées à la première sortie 21 du dispositif générateur G3, et forment un premier réseau R1E recevant les impulsions avec la phase ∅'1.
    • les 4 électrodes suivantes E5 à E8 sont reliées à la troisième sortie 23, formant un second réseau R2E recevant les impulsions avec la phase ∅'3.
  • Les figures 4a à 4g illustrent le fonctionnement qui peut être obtenu par une telle disposition. La figure 4a montre les premiers jeux d'impulsions cycliques de période T appliquées avec la première phase ∅1 aux électrodes d'adressage-entretien d'un premier groupe A, les électrodes Y1 et Y3 par exemple ; ces impulsions formant la première tension VY (∅1) déjà illustrée à la figure 3a. La figure 4c montre les premiers jeux impulsions cycliques VY (∅2) de période T appliquées avec la seconde phase ∅2 aux électrodes d'adressage-entretien Y2, Y4 du second groupe B. La figure 4b montre les second jeux d'impulsions cycliques VE (∅'1) appliquées au premier réseau R1E d'électrodes uniquement d'entretien, avec la phase ∅'1.
  • Avant un instant t1 : la tension VY∅1 est négative (figure 4a) ; la tension VE∅'1 est positive (figure 4b) ; la tension VY ∅2 est négative (figure 4c).
  • A l'instant t1, qui marque le début de la période ou cycle de base T, ces polarités s'inversent :
    • la tension VY∅1 passe à la valeur positive +VY1 qui correspond au créneau de base d'effacement CBE (comme déjà expliqué en référence à la figure 3b) ;
    • la tension VE∅'1 passe à une valeur négative -VE1 (comme déjà expliqué en référence à la figure 3b) ; la tension VY∅2 passe à la valeur positive +VY2 qui correspond à un créneau de base d'inscription CBi (comme déjà expliqué en référence à la figure 3a).
  • On remarque qu'entre les tensions cycliques VY∅1 et VY∅2 la différence de phase Δ ∅1 est telle que la phase d'effacement T1 est créée sur les paires qui comportent les électrodes d'adressage-entretien Y1 et Y3 alors que c'est la phase d'inscription T2 qui est présente au niveau des électrodes Y2 et Y4 alimentée par la phase ∅2.
  • Dans ces conditions, le fonctionnement est tel que par exemple :
    • on efface la ligne L1 (si l'on superpose une impulsion d'effacement IE (représentée en traits pointillés) au créneau de base CBe appliqué à la première électrode adressage-entretien Y1), pendant que l'on réalise l'inscription sur la seconde ligne L2 (si l'on superpose un créneau d'inscription CI (monté en traits pointillés) au créneau de base d'inscription CBi applique à la seconde électrode d'adressage-entretien Y2, et en appliquant des impulsions de masquage MX1 à MX4 sur les électrodes colonnes X1 à X4 non concernées) ;
    • on inscrit ensuite la première ligne L1 pendant que l'on efface une autre ligne L3 etc...
  • Actuellement, compte tenu de composants utilisés (c'est-à-dire non liés au principe de l'invention) certaines durées sont incompressibles, notamment les durées Δ CBe et Δ CBi des créneaux de base d'effacement CBe et créneaux de base d'inscription CBi, qui ont une durée chacun de l'ordre de 9 microsecondes ; ces deux types de créneaux étant espacés d'un intervalle Δ t de l'ordre de 3 microsecondes, de sorte que la durée Δ T d'un cycle de base T ou période est de l'ordre de 24 microsecondes.
  • Mais, avec le procédé de l'invention, cette durée d'un cycle de base permet d'effectuer l'adressage complet de deux lignes, soit 12 microsecondes par ligne, en supposant par exemple que les électrodes d'adressage-entretien Y1 à Y8 constituent seulement un ensemble de deux groupes A et B.
  • Le fonctionnement s'effectue d'une même manière que dans l'exemple illustré par la figure 3a à 3b, à savoir :
    • A l'instant t1 :
    • il n'y a pas décharge d'entretien entre les électrodes de type E reliées à la tension VE∅'1 et les électrodes de type Y reliées à la tension VY∅1.
  • Il peut y avoir des décharges d'entretien (non représentées) des pixels inscrits entre les électrodes d'entretien des pixels inscrits entre les électrodes de type Y (adressage-entretien) reliées à la tension VY∅2 et les électrodes de type E (uniquement entretien) reliées à la tension VE∅'1.
    • A l'instant t2 :
         il y a des décharges d'effacement (non représentées) au niveau de tous les pixels d'une ligne formée avec des électrodes de type Y reliées à la tension VY∅1 et qui reçoivent une impulsion d'effacement IE superposée à un créneau de base d'effacement CBe.
    • A l'instant t3 :
         il y a inscription de tous les pixels qui sont formés à l'aide d'une électrode de type Y reliée à la tension VY∅2, et qui reçoit un créneau d'inscription CI superposé au créneau de base d'inscription CBi (c'est-à-dire qui est adressée), à l'exception des pixels situés sur des électrodes colonnes X1 à X4 auxquelles sont appliquées des impulsions de masquage MX1 à MX4 (montrées à la figure 4d).
    • A l'instant t4 :
         il y décharge a décharge d'entretien au niveau de tous les pixels inscrits constitués à l'aide d'une électrode de type Y reliée à la tension VY ∅2 ; l'instant t4 correspond à la fin du créneau d'effacement CBe et au début du créneau d'inscription CBi appliqués respectivement aux électrodes de type Y reliées à la tension VY∅1 et à la tension VY∅2 ;
    • A l'instant t5 (l'instant t5 correspond au début de la phase d'adressage semi-sélectif pour les électrodes du type Y reliées à la tension VY∅2, c'est-à-dire au début du créneau d'effacement CBe, et correspondant au début du créneau CBi pour les électrodes Y reliées à la tension VY∅1 :
         il y a décharge d'entretien au niveau de tous les pixels inscrits constitués avec une électrode de type Y reliée à la tension VY∅1 ;
    • A l'instant t6 :
         il y a décharge d'effacement au niveau de tous les pixels d'une ligne formée avec une électrode de type Y reliée à la tension VY∅2, et qui reçoit une impulsion d'effacement IE.
    • A l'instant t7 :
         il y a décharge d'inscription, et inscription des pixels d'une ligne formée avec une électrode de type Y reliée à la tension VY∅1, et qui reçoit un créneau d'inscription CI.
    • A l'instant t8 :
         il y a décharges d'entretien au niveau des pixels inscrits formés à l'aide des électrodes de type Y reliées à la tension VY∅1 ; l'instant t8 correspond à la fin d'un créneau de base d'inscription CBi pour les électrodes de type Y reliées à la tension VY∅1, et à la fin du créneau de base d'effacement CBe pour les électrodes Y reliées à la tension VY∅2 ; la fin du cycle de base T étant à un instant t1' qui marque le début d'un nouveau cycle de base T.
  • Les impulsions d'effacement IE et les créneaux d'inscription CI peuvent avoir une même durée que celle des créneaux CBe et CBi qui les supportent : mais tout en étant actives, ces impulsions et créneaux IE, CI peuvent avoir une durée plus faible ; particulièrement les créneaux d'inscription CI peuvent avoir une durée Δ CI inférieure, notamment dans leur partie active qui se situe sensiblement à leur maximum c'est-à-dire vers la tension VY3. Il est ainsi possible par exemple de conférer aux impulsions d'effacement IE et au créneau d'inscription une durée Δ IE, Δ CI égale ou inférieure à 6 microsecondes, ainsi qu'aux impulsions de masquage MX1 à MX4 dont la durée Δ M peut alors être également égale ou inférieure à 6 microsecondes.
  • Ceci permet plus aisément d'utiliser une même tension VE∅'1 pour les deux groupes A, B d'électrodes de type Y (électrodes d'adressage-entretien) d'un même ensemble. Mais ceci permet en outre, en combinaison avec d'autres décalages de phase de la première tension VY appliquée à un second ensemble C-D d'électrodes de type Y (électrodes d'adressage-entretien), de libérer une partie de temps dans laquelle la présence de créneau d'inscription CI et d'impulsions de masquage MX1 à MX4 n'interfère pas avec les opérations effectuées au niveau des lignes de pixels formées par les électrodes de type Y du premier ensemble A-B, c'est-à-dire reliées aux tensions VY∅1 et VY∅2.
  • Ceci permet pratiquement d'effectuer en parallèle l'adressage complet (l'adressage semi-sélectif plus l'adressage sélectif) de quatre lignes de pixels, ce qui permet de ramener le temps d'adressage complet par ligne à 6 microsecondes dans l'exemple non limitatif décrit.
  • A cette fin, les électrodes de type Y ou d'adressage-entretien Y5 et Y7 constituent un troisième groupe C appartenant à un second ensemble dont l'autre groupe ou quatrième groupe est formé par les électrodes Y6 et Y8. Chacun de ces électrodes de type Y est associée à une électrode uniquement d'entretien E5 à E8, ces quatre électrodes de type E constituent un second réseau R2E auquel le second jeu d'impulsions, formant le second jeu de tensions cycliques VE, est appliqué avec une phase ∅'2 différente de celle appliquée au premier réseau R1E, retardée par exemple d'une différence de phase Δ ∅2 sensiblement égale ou supérieure à la durée Δ CI d'un créneau d'inscription CI.
  • Le jeu de tension cyclique VY est appliqué aux électrodes de type Y du troisième groupe et du quatrième groupe D avec respectivement une phase ∅3 et une phase ∅4 telle que, quand la phase d'effacement T1 est présente au niveau des électrodes du troisième groupe C, c'est la phase d'inscription T2 qui est présente au niveau des électrodes du quatrième groupe, et réciproquement, soit un décalage de phase Δ ∅1 entre ces deux groupes égale à une demi période T/2, comme entre les deux groupes A et B du premier ensemble A-B. On note qu'entre la tension VY∅1 appliquée aux électrodes de type Y du premier groupe A et la tension VY∅3 appliquée aux électrodes de type Y du troisième groupe C, la différence de phase Δ ∅2 est sensiblement d'un quart de période T/4, soit environ 6 microsecondes dans l'exemple décrit ; cette différence de phase Δ ∅2 existe également entre les tensions VE∅'1 et VE∅'2 appliquées respectivement aux électrodes de type E du premier et du second réseau R1E et R2E (ainsi qu'entre la seconde et la quatrième phase ∅2, ∅4).
  • Cette description montre que le procédé de commande selon l'invention permet d'augmenter de manière considérable la vitesse de cycle, et peut s'appliquer dans tous les cas où la partie d'adressage semi-sélective est indépendante du réseau d'adressage, c'est-à-dire indépendante du réseau d'électrodes colonnes X1 à X4.
  • On observe que ceci est obtenu sans modification d'ordre technologique, de sorte que la méthode décrite est additionnelle à d'autres solutions (non représentées) telles que :
    • division du panneau à plasma, en 2 moitiés par exemple dans le sens des colonnes, ce qui permettrait de réduire dans un même rapport le temps de cycle de base, soit 3µs dans l'exemple décrit.
    • division par 2 du nombre de connexions des électrodes de type Y en doublant par exemple le nombre d'électrodes colonnes, auquel cas le temps de cycle par ligne passe, dans l'exemple à 1,5 µs.

Claims (12)

  1. Procédé de commande d'un panneau à plasma alternatif à entretien coplanaire, ledit panneau (1) comportant des électrodes colonnes (Y1 à Y4) croisées avec deux familles d'électrodes parallèles, la première famille étant constituée par des électrodes d'adressage-entretien (Y1 à Y8) et la seconde famille étant constituée par des électrodes uniquement d'entretien (E1 à E8), chaque électrode d'adressage-entretien (Y1 à Y8) formant avec une électrode uniquement d'entretien (E1 à E8) voisine une paire (P1 à P8) d'électrodes d'entretien, chaque paire (P1 à P8) d'électrodes d'entretien correspondant à une ligne (L1 à L8) de pixels perpendiculaire aux électrodes colonnes (X1 à X4), les pixels (PX1 à PX32) étant formés sensiblement à chaque croisement d'une électrode colonne (X1 à X4) avec une paire (P1 à P8) d'électrodes d'entretien, ledit procédé consistant à appliquer des premiers jeux d'impulsions de tension (VY) cycliques à toutes les électrodes d'adressage-entretien (Y1 à Y8) et à appliquer des seconds jeux d'impulsions de tension (VE) cycliques à toutes les électrodes uniquement d'entretien (E1 à E8), les deux jeux d'impulsions de tension ayant une même période (T) à l'intérieur de laquelle lesdites impulsions de tension développent entre les électrodes de chaque pixel des différences de tension (VY -VE1, VY -VX) qui, d'une part engendrent une phase destinée (T1) à une commande de pixels par adressage semi-sélectif, et engendrent ensuite une seconde phase (T2) destinée à une commande de pixels par adressage sélectif, et qui d'autre part engendrent des décharges d'entretien, ledit procédé étant caractérisé en ce qu'il consiste pratiquement à commander simultanément certains pixels par adressage semi-sélectif et d'autres pixels par adressage sélectif.
  2. Procédé de commande selon la revendication 1, caractérisé en ce que les commandes de pixels par adressage semi-sélectif s'effectuent selon les lignes (L1 à L8) de pixels.
  3. Procédé de commande selon l'urne des revendications précédentes, caractérisé en ce que l'adressage semi-sélectif réalise une opération d'effacement des pixels.
  4. Procédé de commande selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que pour former une phase d'adressage semi-sélectif (T1) permettant d'effacer les pixels d'au moins une ligne (L1 à L8) donnée, il consiste d'une part, à appliquer aux électrodes d'adressage-entretien (Y1 à Y8) un créneau de tension (CBe) appelé créneau de base d'effacement ayant une première polarité et une première valeur (+VY1), et d'autre part à appliquer aux électrodes uniquement d'entretien (E1 à E8) un créneau de tension (CVEe) ayant une seconde polarité (-VE1) opposée à la première de sorte à engendrer entre ces deux types d'électrodes (Y1 à Y8 et E1 à E8) une première différence de potentiel (VY1 -VE1) inférieure à une seconde différence de potentiel (VY2 -VE1) qui permet d'obtenir des décharges d'entretien entre les deux électrodes (Y1 à Y8 et E1 à E8) d'une même paire (P1 à P8) d'électrodes d'entretien puis à superposer une impulsion d'effacement (IE) sur le créneau base d'effacement (CBe) qui est appliquée à chaque électrode d'adressage-entretien (Y1 à Y8) d'une ligne (L1 à L8) sélectionnée ou des lignes sélectionnées, de sorte à provoquer des décharges d'effacement uniquement entre les deux électrodes (Y1 à Y8 et E1 à E8) de chaque paire (P1 à P8) correspondant à une ligne sélectionnée ou aux lignes sélectionnées.
  5. Procédé de commande selon la revendication 4, caractérisé en ce que pour former la phase d'adressage sélectif (T2) permettant d'inscrire des pixels (PX1 à PX32) d'au moins une ligne (L1 à L8), il consiste d'une part, à appliquer aux électrodes d'adressage-entretien (Y1 à Y8) un créneau de base d'inscription (CBi) ayant la première polarité et une seconde valeur (VY2), et à appliquer d'autre part aux électrodes uniquement d'entretien (E1 à E8) le créneau de tension (CVEe) ayant la seconde polarité opposée à la première de sorte à constituer la seconde différence de potentiel (VY2 -VE1) capable d'engendrer des décharges d'entretien, puis à superposer un créneau d'inscription (CI) ayant la même première polarité uniquement sur un créneau de base d'inscription (CBi) qui est appliqué à une électrode ou aux électrodes d'adressage-entretien (Y1 à Y8) correspondant à une ligne (L1 à L8) sélectionnée ou aux lignes sélectionnées de sorte à engendrer une troisième différence de potentiel (VY3 -VR) entre les électrodes colonnes (X1 à X4) et l'électrode d'adressage-entretien (Y1 à Y8) d'une ligne (L1 à L8) sélectionnée, et sensiblement dans le même temps que celui où s'effectue la superposition du créneau d'inscription (CI), à appliquer des impulsions de tension (MX1 à MX4) ayant la première polarité à toutes les électrodes colonnes (X1 à X4) à l'exception de celles qui servent à définir un pixel (PX1 à PX32) à inscrire, et en ce qu'il consiste en outre sensiblement à partir de l'instant où est superposé le créneau d'inscription (CI), à appliquer aux électrodes uniquement d'entretien (E1 à E8) un créneau de tension ayant ladite première polarité.
  6. Procédé de commande d'un panneau à plasma suivant l'une des revendications précédentes, panneau à plasma dans lequel lesdites électrodes d'adressage-entretien (Y1 à Y8) forment deux groupes (A, B), ledit procédé étant caractérisé en ce qu'il consiste à appliquer les premiers jeux d'impulsions avec des phases (∅1, ∅2) différentes, telles que quand la phase d'adressage semi-sélectif (T1) est présente au niveau des électrodes d'adressage-entretien du premier groupe (A) c'est la phase d'adressage sélectif (T2) qui existe au niveau des électrodes (Y1 à Y8) de l'autre groupe, et réciproquement.
  7. Procédé de commande suivant la revendication 6, caractérisé en ce qu'il consiste à appliquer les seconds jeux d'impulsion avec une même phase à toutes les électrodes uniquement d'entretien (E1 à E8).
  8. Procédé de commande d'un panneau à plasma suivant la revendication 6, panneau à plasma dans lequel lesdites électrodes d'adressage-entretien (Y1 à Y8) forment au moins deux ensembles (A-B et C-D) comportant chacun un premier et un second groupe (A,B et C,D), ledit procédé étant caractérisé en ce qu'il consiste à appliquer les premiers jeux d'impulsions avec des phases (∅1, ∅2, ∅3, ∅4) différentes telles que quand un premier groupe (A, C) est dans une phase d'adressage semi-sélectif (T1) le second groupe correspondant (B, D) et dans une phase d'adressage sélectif (T2) et réciproquement, et en ce que les premiers jeux d'impulsions sont appliqués aux premiers groupes (A, C) de chaque ensemble avec une différence de phase (Δ ∅2) sensiblement égale ou supérieure à la durée (Δ CI) d'un créneau d'inscription (CI).
  9. Procédé de commande d'un panneau à plasma selon l'une des revendications 6 ou 8, panneau à plasma dans lequel les électrodes uniquement d'entretien (E1 à E8) sont séparées en autant de réseaux qu'il y a de groupes (A, B, C, D) d'électrodes d'adressage-entretien (Y1 à Y8), caractérisé en ce que les seconds jeux d'impulsions sont appliqués aux différents réseau d'électrodes avec des phases (∅'1, ∅'2) différentes.
  10. Procédé de commande d'un panneau à plasma suivant l'une des revendications 6 ou 8, panneau à plasma dans lequel les électrodes uniquement d'entretien (E1 à E8) sont séparées en autant de réseaux (R1E, R2E) qui'il y a d'ensembles (A-B, C-D) formés avec des électrodes d'adressage-entretien (Y1 à Y8), chaque réseau étant commun aux deux groupes (A, B et C, D) d'un ensemble (A-B, C-D), ledit procédé étant caractérisé en ce qu'il consiste à appliquer les seconds jeux d'impulsions aux différents réseaux (R1E, R2E) d'électrodes avec des phases (∅'1, ∅'2) différentes.
  11. Procédé de commande selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que la phase d'adressage sélectif (T2) constitue en outre une phase d'entretien.
  12. Procédé de commande selon la revendication 5, caractérisé en ce que les créneaux de tension (CVEe) appliqués aux électrodes uniquement d'entretien (E1 à E8) ont une amplitude (Δ VE) inférieure à l'amplitude (Δ VY2) du créneau de base d'inscription (CBi) applique aux électrodes d'adressage-entretien (Y1 à Y8).
EP89402282A 1988-08-26 1989-08-11 Procédé de commande très rapide par adressage semi-sélectif et adressage sélectif d'un panneau à plasma alternatif à entretien coplanaire Expired - Lifetime EP0356313B1 (fr)

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