DE2913843A1 - Verfahren zur herstellung von mikrolinsen und kopplungselement mit einer nach diesem verfahren hergestellten mikrolinse - Google Patents

Verfahren zur herstellung von mikrolinsen und kopplungselement mit einer nach diesem verfahren hergestellten mikrolinse

Info

Publication number
DE2913843A1
DE2913843A1 DE19792913843 DE2913843A DE2913843A1 DE 2913843 A1 DE2913843 A1 DE 2913843A1 DE 19792913843 DE19792913843 DE 19792913843 DE 2913843 A DE2913843 A DE 2913843A DE 2913843 A1 DE2913843 A1 DE 2913843A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
glass plate
lens
lenses
deposited
layers
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19792913843
Other languages
English (en)
Inventor
Adrianus Jacobus Josef Franken
Giok-Djan Khoe
@@ Kueppers Dieter Dr Rer Nat
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Philips Intellectual Property and Standards GmbH
Original Assignee
Philips Patentverwaltung GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Patentverwaltung GmbH filed Critical Philips Patentverwaltung GmbH
Priority to DE19792913843 priority Critical patent/DE2913843A1/de
Priority to US06/082,394 priority patent/US4296143A/en
Priority to CA348,765A priority patent/CA1133769A/en
Priority to DE8080200291T priority patent/DE3065008D1/de
Priority to EP80200291A priority patent/EP0017296B1/de
Priority to AU56962/80A priority patent/AU531030B2/en
Priority to AT80200291T priority patent/ATE4795T1/de
Priority to JP55042925A priority patent/JPS5943428B2/ja
Publication of DE2913843A1 publication Critical patent/DE2913843A1/de
Priority to JP59115622A priority patent/JPS6071553A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G02B6/124Geodesic lenses or integrated gratings
    • G02B6/1245Geodesic lenses
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/02Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with glass
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3417Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3429Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
    • C03C17/3441Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising carbon, a carbide or oxycarbide
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/58Optical field-shaping elements

Description

PHILIPS PATENTVERWAL/TUNG:GM3H, Cteindamn: 94, 2°Oο U&^burQ A
3 PHD 79-033
"Verfahren zur Herstellung von MiKrolinsen und Kopplungselement mit einer nach diesem Verfahren hergestellten MiKrolinse"
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung von in einer Glasplatte eingebetteten MiKrolinsen. Unter MiKrolinsen sind Linsen mit einem Durchmesser < 1 mm zu verstehen, insbesondere Linsen mit einem Durchmesser zwischen 20 und 100 μΐη. Linsen dieser Abmessungen werden z.B. in Kopplungselementen zum Koppeln von optischen Wellenleitern mit einer Lichtquelle oder zum Koppeln von optischen Wellenleitern untereinander verwendet. Die Linsen Können aus einem Material mit Konstantem Brechungsindex bestehen oder auch ein Brechungsindexprofil aufweisen.
Verfahren zur Herstellung von Kugelförmigen Linsen, die für die genannten ZwecKe angewendet werden Können, sind an sich beKannt.
Aus der US-PS 36 66 347 ist ein Verfahren beKannt, bei dem zunächst homogene GlasKugeln mit dem gewünschten Durchmesser und mit einem hohen Brechungsindex hergestellt werden. Die Kugeln besitzen einen hohen Gehalt an Thalliumoxid. Die Kugeln werden in ein Salzbad von hoher Temperatur, das Kaliumionen enthält, gelegt.Durch Diffusion werden die Thalliumionen und die Kaliumionen gegeneinander ausgetauscht. Damit wird ein Brechungsindexprofil über den Durchmesser der Kugel erzeugt.
030043/0087
7913843
4 PHD 79-033
Mit diesem Verfahren ergibt sich ein durch Diffusion eingestelltes Profil, welches im allgemeinen nur eine Annäherung eines gewünschten Profils darstellen Kann.
Aus der DE-OS 27 23 972 ist neben weiteren Austauschverfahren auch ein Verfahren zur Herstellung von kugelförmigen Linsen beKannt, bei dem GlasKeime mit sehr Kleinem Durchmesser mit Schichten aus Oxidmischungen, deren Brechungsindex mit dem Durchmesser abnimmt, aus der Dampfphase beschichtet werden. Solche Schichten aus einer Mischung von Titandioxid und Siliziumdioxid Können aus einer Atmosphäre, die Sauerstoff, Titantetrachlorid und Siliziumtetrachlorid enthält, wobei das TiCT^-Verhältnis während der Beschichtung ständig Kleiner gemacht wird, erhalten werden.
In der Praxis stellte es sich heraus, daß es Kaum vermeidbar ist, daß die Kugeln während der Beschichtung aneinanderstoßen, wenn mehrere Kugeln zugleich beschichtet werden. Dabei entstehen getrübte Schichten, wodurch die Transparenz der Linsen beeinträchtigt wird.
Die beKannten Verfahren liefern eine Anzahl von einzelnen GlasKugeln. Für die Anwendung in Kopplungselementen der eingangs genannten Art werden Kugeln mit einem Durchmesser in der Größenordnung des LichtleiterKerndurchmessers benötigt. Kugeln dieser Art mit einem Durchmesser < 100 um sind nur in Komplizierter Weise zu handhaben und es sind spezielle WerKzeuge erforderlich, um sie für den genannten ZwecK einsetzen zu Können.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren, zu schaffen, mit dem einfach handhabbare MiKrolinsen hergestellt werden.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst, indem in einer Glasplatte rotationssymmetrische Vertiefungen angebracht werden, dann mit einem Abscheidungsprozeß aus der Dampf-
030043/0087
5 PHD 79-033
phase glasartige Schichten auf der Platte abgeschieden werden, bis die Vertiefungen völlig ausgefüllt sind, ■wonach die Dicke der beschichteten Glasplatte auf den ursprünglichen oder einen kleineren Wert reduziert wird.
Mit dem Verfahren nach der Erfindung ist es ebenfalls möglich, MiKrolinsen mit einem profilierten Brechungsindexprofil herzustellen. Hierzu werden glasartige Schichten mit zunehmendem Brechungsindex auf der Glasplatte abgeschieden, z.B. aus dotiertem Quarzglas. Auf diese Weise Kann das gewünschte Brechungsindexprofil, z.B. ein parabolisches Profil, erhalten werden. Die Glasplatte Kann z.B. aus Quarzglas oder aus Glas bestehen.
Die rotationssymmetrischen Vertiefungen Können auf verschiedene Weise in der Glasplatte hergestellt werden.
Die Vertiefungen Können z.B. in die Glasplatte gebohrt oder eingeätzt werden. Beim Ätzverfahren wird auf der Platte zuerst mittels eines PhotolacKs eine MasKe angebracht. Im nächsten Schritt wird geätzt. Dieses Ätzen Kann entweder mittels der beKannten nasschemischen Verfahren oder mit Hilfe des Plasmaätzens erfolgen. Es ist darauf zu achten, daß das Ätzen isotrop erfolgt. Im darauffolgenden Schritt wird der PhotolacK entfernt. Eine weitere MöglichKeit ist das Einbrennen der Vertiefungen durch starkes loKales Erhitzen und Verdampfen des Materials mittels eines Lasers. Weiter ist es möglich, die Vertiefungen bei erhöhter Temperatur mit Hilfe einer Matrize in das erweichte Glas einzupressen.
Zur Herstellung vom MiKrolinsen mit einem parabolischen Brechungsindexprofil wird in vorteilhafter Weise eine Glasplatte mit halbKugelförmigen Vertiefungen verwendet.
Im nächsten Schritt des erfindungsgemäßen Verfahrens werden
Ö3ÖQ43/0OS?
6 PHD 79-033
aus der Dampfphase glasartige Schichten auf der Glasplatte abgeschieden. Dieses Abscheiden Kann mittels eines CVD-Vorfahrons, d.h. durch chemische Abscheidung aus der Dampfphase, erfolgen. Dabei wird die Zusammensetzung der Dampf- ■ phase nicht geändert, wenn es sich um die Herstellung von Linsen mit Konstantem Brechungsindex handelt. Ein geeignetes Material ist z.B. Si^N^. Bei der Herstellung von Linsen mit einem Brechungsindexprofil wird mit Zunahme der SchichtdicKe immer mehr Dotiermaterial zusammen mit Quarzglas abgeschieden, bis in der letzten Schicht der gewünschte Brechungsindex erreicht ist. Die Größe des zu erreichenden Brechungsindexunterschiedes Kann die möglichen Dotierstoffe limitieren. Bei der Herstellung Kugelförmiger Linsen erweisen sich z.B. Si,N^, Sb-O-, und andere Stoffe, mit denen
iü Quarz dotiert werden Kann und die einen Brechungsindex in der Größenordnung von 2 besitzen, als geeignet.
Für eine ideale Kugelförmige Linse (Luneberglinse) ist ein exaKtes parabolisches Brechungsindexprofil der Form η = I 2-(r/a) J ?· erforderlich. Diese Linse hat einen Brechungsindex η = y 2 in der Mitte bei r =0 und einen Brechungsindex von η =1 bei r=a. Hierbei ist a der Radius der Kugel. Da es Kein Glas mit dem Brechungsindex η =1 gibt, strebt man eine Linse mit n=n I 2 - (r/a) j2 an, wobei η = 1,45
der Brechungsindex von Quarzglas ist. Die Kugel hat in diesem Fall im Zentrum η = 2,05 und am Rand η = 1,45.
Bei dem Verfahren gemäß der Erfindung wird die Schicht vorzugsweise mit Hilfe des sogenannten nichtisothermen Plasma-CVD-Verfahrens aus der Gasphase abgeschieden. Unter einem "nichtisothermen Plasma-CVD-Verfahren" ist ein Verfahren zu verstehen, bei dem mit einem sogenannten Kalten Plasma gearbeitet wird, in dem nur EleKtronen eine hohe Kinetische Energie besitzen. Mit einem solchen Plasma Kann man selbst Gasgemische zur ReaKtion bringen, die thermisch nicht reaKtiv sind. Weiter hat es sich gezeigt, daß sich
030043/0087
7 PHD 79-033
mit dem nichtisothermen PCVD-Verfahren bei ziemlich niedriger Temperatur direkt aus der Gasphase glasartige Schichten abscheiden lassen, so daß sich eine nachfolgende Erhitzung zur Verglasung erübrigt, wie sie bei Verfahren, bei denen eine Glasrußschicht abgeschieden wird, notwendig ist. Sin weiterer Vorteil bei der Anwendung dieses Verfahrens ist, daß sich bei Abscheidung bei niedriger Temperatur, d.h. bei Temperaturen zwischen Raumtemperatur und 3000C, ein etwaiger Unterschied in den Wärmeausdehnungskoeffizienten des Glasplattenmaterials und der abgeschiedenen Schichten nicht nachteilig bemerKbar macht.
Das Reduzieren der DicKe der beschichteten Glasplatte auf den ursprünglichen oder einen kleineren Wert erfolgt z.B. durch Abschleifen und/oder Polieren.
Zwei auf diese Weise hergestellte Linsen werden dann zu einer Linse vereinigt, indem die eingebetteten Linsen mit ihren flachen Seiten aneinandergelegt werden.
030043/Ö087 ORIGINAL INSPECTED
8 PHD 79-033
Die Erfindung wird anhand einer Zeichnung und einiger Ausführungsbeispiele näher erläutert. In der Zeichnung zeigen
Fig. 1 einen Teil einer Quarzglasplatte mit
halbkugelförmigen Vertiefungen im Schnitt
Fig. 2 eine beschichtete Platte im Schnitt Fig. 3 die Platte nach Fig. 2 nach dem Abpolieren im Schnitt Fig. 4a eine fertige Kugelförmige Linse im
Schnitt
Fig. 4b eine fertige flache Linse im Schnitt Fig. 5 eine Beschickungsvorrichtung in schematischer Darstellung
Fig. 6 ein Kopplungselement in schematischer Darstellung.
Beispiel 1
Mit Hilfe eines COp-Lasers werden in einer Quarzglasplatte 1 (30 mm · 30 mm, Dicke 1 mm) halbkugelförmige Vertiefungen 2, 3 und 4 mit einem Durchmesser von 70 um angebracht (Fig. 1).
Dann wird die Platte 1 mit den halbkugelförmigen Löchern in ein Reaktionsrohr 51 gebracht (Fig. 5). Das Reaktions-
030043/0081
ORIGINAL INSPECTED
29138Λ3
9 PHD 79-033
rohr 51 befindet sich in einem eleKtrischen Ofen 52, in dem ein MiKrowellenresonator 53 entlang des ReaKtionsrohres hin und her bewegt werden Kann. Mit Hilfe eines nichtisothermen Plasmas wurde nun aus der Gasphase eine Schicht 6 aus Si^N^ mit einer DicKe von 35 um auf der Platte abgeschieden. Die Platte 1 befand sich während der Abscheidung auf einer Temperatur von einigen Hundert Grad Celsius. Der DrucK im ReaKtionsrohr 51 betrug etwa 6 mbar. Es wurde ein Gasgemisch aus SiCl^ und NH-, verwendet. Die Mengen der reagierenden Gase wurden in KubiKzentimeter pro Minute von 00C, 1000 mbar ( = sccm: standard cubic £entimeter per minute) gemessen. Sie betrugen für SiCl^ 10 sccm und für NOp 0 bis 30 sccm. Das Plasma wurde mittels des MiKrowellenresonators 53 erzeugt, die angewendete Frequenz betrug 2,45 GHz. Die Schicht 6 bestand aus 1000 einzelnen Lagen, so daß jede Lage 0,035 um dicK war (Fig. 2), wobei in den Figuren nur einige Lagen dargestellt sind.
Die DicKe der Quarzglasplatte 1 wird dann durch Polieren auf den ursprünglichen Wert reduziert. Dadurch werden in Quarzglas integrierte halbKugeiförmige Linsen (7, 8, 9) mit Konstantem Brechungsindex erhalten (Fig. 3)· Zwei Quarzglasplatten werden miteinander verbunden, so daß eine oder mehrere Kugelförmige Linsen 10 eingebettet in Quarzglas 11-11A entstehen (Fig* 4a).
Der Abstand zwischen Linse 10 und Oberfläche der Quarzglasscheibe 11 Kann durch Abpolieren auf einer Seite so gewählt werden, daß es der Brennweite der Linse 10 entspricht. Die Oberfläche der Scheibe 11 ist dann eine ausgezeichnete Referenz für die· Ausrichtung der Lichtquelle. Poliert man die Quarzplatte weiter als auf den ursprünglichen Wert, so erhält man flache Linsen, deren Brennweiten je nach Krümmungsradius der Löcher und Brechungsindex der.Füllungsmittel variierbar sind (Fig. 4b).
030043/0087
ORIGINAL INSPECTED
29138/:·3
10 PHD 79-033
Beispiel 2
In einem weiteren Versuch wurde eine Linse mit gradiertem Brechungsindexverlauf, eine sogenannte Luneberglinse, hergestellt. Die halbkugelförmigen Vertiefungen wurden dabei auf die gleiche Weise hergestellt wie in Beispiel 1. Der Versuchsaufbau zur Beschichtung, Druck, Temperatur usw. entsprachen ebenfalls denen des ersten Beispiels. Der Unterschied lag in der Art der verwendeten Gase und im zeitliehen Ablauf ihrer Zuführung. Es wurden SiH,, NH, und N„0 verwendet, wobei die Gasströmungen folgende Werte annahmen:
^: 10 seem, Konstant über die Versuchszeit, NH^: 0 bis 30 seem, ansteigend über die Versuchszeit, NpO: 50 bis 0 seem, abfallend über die Versuchszeit.
Das Verhältnis von N zu 0 in der Gasphase bei konstantem SiEL-Gasstrom bestimmt das Verhältnis von SiOp zu Si,N^ im Niederschlag und damit den Brechungsindex. Es wurde ein parabolisches Brechungsindexprofil erzeugt. Dicke der Lage und die folgenden Schleifschritte waren wie im ersten Ausführungsbeispiel.
Die Erfindung bezieht sich weiter noch auf ein Kopplungselement mit einer Lichtquelle und einer Linse, wobei die Lichtquelle auf einem Träger befestigt ist, auf dem eine Kappe angeordnet ist, welche die Linse trägt. Eine in einer Glasplatte nach der Erfindung eingebettete Mikrolinse kleinster Abmessungen läßt sich in denkbar einfacher Weise in der Kappe relativ zu der Lichtquelle anordnen. In Fig. 6 ist schematisch eine Ausführungsform eines Kopplungselementes nach der Erfindung dargestellt. Auf einem metallischen Trägerteil 61 befindet sich ein Kupferblock 62, das als Wärmesenke funktioniert. Auf dem Block 62 ist eine Laserdiode 63 montiert. Der Träger 61 umfaßt weiter zwei
030043/0087
ORIGINAL INSPECTED
29138-3
11 PHD 79-033
Durchführungen 64 und 65 aus Glas mit darin angeordneten Anschlußstiften 66 und 67, die über Anschlußdrähte 68 bzw. 69 mit der Laserdiode 63 und mit dem KupferblocK 62 verbunden sind. Das Element umfaßt weiter eine Kappe 70 und einen Halter 71. In der Kappe 70 ist die Glasplatte 72 befestigt, z.B. mit einem Klebemittel. Die Glasplatte 72 enthält die Kugelförmige Linse 73. Die Linse 73 ist so ausgerichtet, daß das Zentrum der Linse auf der Hauptachse des aus der Laserdiode 63 tretenden Lichtbündels liegt.
Das Verfahren nach der Erfindung ergibt die folgenden Vorteile:
1) Die Linse ist automatisch in einem Glasfenster
integriert, welches einfach zu handhaben ist und für die Anwendung in einem hermetisch abgeschlossenen Kopplungselement direKt einsetzbar ist.
2) Mit Hilfe eines CVD-Prozesses, insbesondere eines nichtisothermen Plasma-CVD-Abscheidungsprozesses, ist durch geeignete Prozeßführung ein sehr genaues und nahezu beliebig einstellbares Brechungsindexprofil herzustellen.
3) Auf einer einzigen Glasplatte Kann eine große Anzahl Vertiefungen und damit MiKrolinsen hergestellt werden.
4) Mit dem Verfahren nach der Erfindung Können rotationssymmetrische Linsen beliebiger Formen und Brechungsindexprofile hergestellt werden.
0-300-43/0087 ORIGINAL

Claims (7)

  1. PHILIPS PA SNTVSiY/ ALTDIiG -UlIsJiI, JCoindamm 94. ^UOO .inniDur-ζ i
    >r PHD 79-033
    PATENTANSPRÜCHE:
    ι 1J Verfahren zur Herstellung von in einer
    Glasplatte eingebetteten Mikrolinsen, dadurch gekennzeichnet, daß in einer Glasplatte rotationssymmetrische Vertiefungen angebracht werden, dann mit einem Abscheidungsprozeß aus der Dampfphase glasartige Schichten auf der Platte abgeschieden werden, bis die Vertiefungen völlig ausgefüllt sind, wonach die Dicke der beschichteten Glasplatte auf den ursprünglichen oder einen kleineren Wert reduziert wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet, daß glasartige Schichten mit zunehmendem Brechungsindex abgeschieden werden.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet, daß in der Glasplatte halbkugelförmige Vertiefungen angebracht werden.
  4. 4. Verfahren nach Anspruch 1,
    dadurch gekennzeichnet, daß die gläsartigen Schichten mittels eines nichtisothermen Plasma-CVD-Verfahrens aus der Gasphase abgeschieden werden.
  5. 5· Verfahren nach Anspruch 2,
    dadurch gekennzeichnet, daß Schichten aus Quarzglas mit einem zunehmenden Gehalt an Siliziumnitrid abgeschieden werden.
  6. 6. Verfahren zur Herstellung von Mikrolinsen,
    dadurch gekennzeichnet, daß zwei mit den Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 5 hergestellte Linsen zu einer Linse vereinigt werden, indem die eingebetteten Linsen mit ihren flachen Seiten aneinandergelegt werden.
    030043/00 8 7
    ORIGINAL INSPECTED
    2 PHD 79-033
  7. 7. Kopplungselement mit einer Lichtquelle
    und einer Linse, wobei die Lichtquelle auf einem Träger befestigt ist, auf dem eine Kappe angeordnet ist, welche die Linse trägt, dadurch geKennzeichnet, daß eine in einer Glasplatte (72) eingebettete Linse (73), die nach den Ansprüchen 1 bis 6 hergestellt worden ist, in der Kappe (70) angeordnet ist.
    0300A3/008?
DE19792913843 1979-04-06 1979-04-06 Verfahren zur herstellung von mikrolinsen und kopplungselement mit einer nach diesem verfahren hergestellten mikrolinse Withdrawn DE2913843A1 (de)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19792913843 DE2913843A1 (de) 1979-04-06 1979-04-06 Verfahren zur herstellung von mikrolinsen und kopplungselement mit einer nach diesem verfahren hergestellten mikrolinse
US06/082,394 US4296143A (en) 1979-04-06 1979-10-05 Method of producing microlenses
CA348,765A CA1133769A (en) 1979-04-06 1980-03-27 Method of producing microlenses and a coupling element having a microlens produced in accordance with this method
DE8080200291T DE3065008D1 (en) 1979-04-06 1980-03-28 Process for making microlenses and coupling element comprising a microlens prepared by this process
EP80200291A EP0017296B1 (de) 1979-04-06 1980-03-28 Verfahren zur Herstellung von Mikrolinsen und Kopplungselement mit einer nach diesem Verfahren hergestellten Mikrolinse
AU56962/80A AU531030B2 (en) 1979-04-06 1980-03-28 Microlenses
AT80200291T ATE4795T1 (de) 1979-04-06 1980-03-28 Verfahren zur herstellung von mikrolinsen und kopplungselement mit einer nach diesem verfahren hergestellten mikrolinse.
JP55042925A JPS5943428B2 (ja) 1979-04-06 1980-04-03 超小形レンズの製造方法
JP59115622A JPS6071553A (ja) 1979-04-06 1984-06-07 超小形レンズの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19792913843 DE2913843A1 (de) 1979-04-06 1979-04-06 Verfahren zur herstellung von mikrolinsen und kopplungselement mit einer nach diesem verfahren hergestellten mikrolinse

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2913843A1 true DE2913843A1 (de) 1980-10-23

Family

ID=6067592

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19792913843 Withdrawn DE2913843A1 (de) 1979-04-06 1979-04-06 Verfahren zur herstellung von mikrolinsen und kopplungselement mit einer nach diesem verfahren hergestellten mikrolinse
DE8080200291T Expired DE3065008D1 (en) 1979-04-06 1980-03-28 Process for making microlenses and coupling element comprising a microlens prepared by this process

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE8080200291T Expired DE3065008D1 (en) 1979-04-06 1980-03-28 Process for making microlenses and coupling element comprising a microlens prepared by this process

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4296143A (de)
EP (1) EP0017296B1 (de)
JP (2) JPS5943428B2 (de)
AT (1) ATE4795T1 (de)
AU (1) AU531030B2 (de)
CA (1) CA1133769A (de)
DE (2) DE2913843A1 (de)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL8006410A (nl) * 1980-11-25 1982-06-16 Philips Nv Werkwijze voor de vervaardiging van geintegreerde optische golfgeleider circuits en circuits verkregen met deze werkwijze.
US4509824A (en) * 1982-02-01 1985-04-09 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Plate lens and a method for manufacturing the same
JPS58134613A (ja) * 1982-02-04 1983-08-10 Nippon Sheet Glass Co Ltd マルチフアイバ−コネクタ−
JPS58171014A (ja) * 1982-03-31 1983-10-07 Nippon Sheet Glass Co Ltd 光結合器
DE3329510A1 (de) * 1983-08-16 1985-02-28 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg Verfahren zur herstellung eines lichtbeugenden bauelementes
DE3329511A1 (de) * 1983-08-16 1985-02-28 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg Verfahren zur herstellung von mikrolinsen
DE3329512A1 (de) * 1983-08-16 1985-02-28 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg Stablinse aus mehreren glasschichten
DE3402258A1 (de) * 1984-01-24 1985-08-01 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg Farbenzerlegendes bauelement
DE3568517D1 (en) * 1984-04-06 1989-04-06 Plessey Overseas Improvements relating to the fabrication of optical devices
US4697866A (en) * 1984-10-15 1987-10-06 Honeywell Inc. Apparatus and method for fabricating a sandwich lens
JPS61106425A (ja) * 1984-10-27 1986-05-24 Canon Inc 光学素子の製造方法
NL8403535A (nl) * 1984-11-21 1986-06-16 Philips Nv Inrichting voor het optisch koppelen van een stralingsbron aan een optische transmissievezel.
FR2578658B1 (fr) * 1985-03-05 1990-06-01 Nippon Sheet Glass Co Ltd Plaque a microlentilles et son procede de fabrication
GB2181861B (en) * 1985-10-16 1989-09-13 Zeiss Stiftung Method of making a planar lightwave guide
JPH02208601A (ja) * 1989-02-08 1990-08-20 Seiko Instr Inc 光学用窓材及びその製造方法
DE4008405C1 (de) * 1990-03-16 1991-07-11 Schott Glaswerke, 6500 Mainz, De
US5236511A (en) * 1990-03-16 1993-08-17 Schott Glaswerke Plasma CVD process for coating a dome-shaped substrate
US7068870B2 (en) * 2000-10-26 2006-06-27 Shipley Company, L.L.C. Variable width waveguide for mode-matching and method for making
AU2001297983A1 (en) * 2000-12-14 2002-12-03 Mindaugas F. Duatartas Optical waveguide termination with vertical and horizontal mode shaping
US7251406B2 (en) * 2000-12-14 2007-07-31 Shipley Company, L.L.C. Optical waveguide termination with vertical and horizontal mode shaping
US7158701B2 (en) * 2001-02-21 2007-01-02 Shipley Company, L.L.C. Method for making optical devices with a moving mask and optical devices made thereby
US6912345B2 (en) * 2001-03-30 2005-06-28 Shipley Company, L.L.C. Tapered optical fiber for coupling to diffused optical waveguides
US8759228B2 (en) * 2007-10-09 2014-06-24 Micron Technology, Inc. Chemistry and compositions for manufacturing integrated circuits
US20110020623A1 (en) * 2009-07-22 2011-01-27 Raytheon Company Method and Apparatus for Repairing an Optical Component Substrate Through Coating
BR112012017325B1 (pt) 2009-12-23 2020-05-05 Basell Poliolefine Italia Srl composição de polipropileno, processo de polimerização, uso da composição e unidades de infiltração usadas em sistemas de controle de águas subterrâneas

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR836412A (fr) * 1937-09-27 1939-01-18 Holophane Sa Procédé de décoration des pièces en verre
US3176574A (en) * 1960-12-19 1965-04-06 Bell & Howell Co Low reflectance coatings for optical elements including graduated high index layer
JPS4922898B1 (de) * 1969-03-17 1974-06-12
US3917384A (en) * 1973-09-11 1975-11-04 Ibm High resolution lenses for optical waveguides
US3841733A (en) * 1973-12-05 1974-10-15 Itek Corp Optical waveguide system for producing a line of modulated radiation data
US4141621A (en) * 1977-08-05 1979-02-27 Honeywell Inc. Three layer waveguide for thin film lens fabrication

Also Published As

Publication number Publication date
ATE4795T1 (de) 1983-10-15
JPS55135806A (en) 1980-10-23
AU531030B2 (en) 1983-08-04
JPS6240311B2 (de) 1987-08-27
CA1133769A (en) 1982-10-19
US4296143A (en) 1981-10-20
EP0017296A3 (en) 1981-01-28
JPS5943428B2 (ja) 1984-10-22
DE3065008D1 (en) 1983-11-03
EP0017296B1 (de) 1983-09-28
AU5696280A (en) 1980-10-09
JPS6071553A (ja) 1985-04-23
EP0017296A2 (de) 1980-10-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0017296B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Mikrolinsen und Kopplungselement mit einer nach diesem Verfahren hergestellten Mikrolinse
DE19756868B4 (de) Hohlwellenleiter und Verfahren zu seiner Herstellung
DE2835326C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Glas-Rohlings zum Ausziehen zu einer optischen Faser und Herstellung einer optischen Übertragungsfaser
DE3520813C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines integrierten optischen Lichtwellenleiters und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE2824478C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Kopplungselementes
DE2723972C2 (de) Optisches Kopplungselement sowie Positioniervorrichtungen für derartige Elemente
DE2463097C2 (de) Verfahren zur Herstellung von Glasfaser-Lichtleitern
EP1791796B1 (de) Verfahren zum verbinden von bauteilen aus hochkieselsäurehaltigem werkstoff unter einsatz eines fügemittels, sowie nach dem verfahren erhaltener bauteil-verbund
DE102004051846B4 (de) Bauteil mit einer Reflektorschicht sowie Verfahren für seine Herstellung
EP0023066B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Lichtleitfasern
EP1721874B1 (de) Verfahren zur herstellung eines optischen elements vom brechungsindexverteilungstyp
DE3607259A1 (de) Mikrolinsenplatte und verfahren zu ihrer herstellung
DE2313203A1 (de) Lichtfokussierende optische faser
WO2006122524A1 (de) Lumineszenzkonversions-led
CH641427A5 (de) Verfahren zur herstellung einer monomode-lichtleitfaser mit elliptischem kernquerschnitt.
DE1955119A1 (de) Verfahren zum Erhalt von Oberflaechen-Brechungsindexaenderungen bei einem Glaslichtleit-Bauelement
DE4413575B4 (de) Verfahren zur Herstellung eines optischen Elements
DE3617363A1 (de) Verfahren zur herstellung von zylindersymmetrischen koerpern mit vorgegebenem radialem gefaelle physikalischer materialeigenschaften und anwendungen
EP0964832B1 (de) Vorform aus synthetischem kieselglas und vorrichtung zu ihrer herstellung
DE102020101982B4 (de) Verfahren zur Herstellung eines strukturierten Glaswafers für die Verpackung von elektronischen Bauteilen, Verfahren zur Herstellung von verkapselten elektronischen Komponenten und verkapselte elektronische Komponente
EP0193248B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Lichtwellenleiter-Strukturen
DE1949275C3 (de) Verfahren zur Herstellung einer optischen Gradientenfaser aus Glas
DE4209004C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Lichtwellenleiter-Vorform
DE2409254A1 (de) Lichtpolarisator und verfahren zu seiner herstellung
DE3232888A1 (de) Verfahren zur herstellung eines lichtwellenleiters

Legal Events

Date Code Title Description
8139 Disposal/non-payment of the annual fee