DE2830927A1 - Acylphosphinoxidverbindungen und ihre verwendung - Google Patents
Acylphosphinoxidverbindungen und ihre verwendungInfo
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Description
BASF Aktiengesellschaft -4- O. Z. 0050/033279
Rcylphosphinoxidverbindungen und ihre Verwendung ~"
Die vorliegende Erfindung betrifft neue Acylphosphinoxidverbindungen
sowie ihre Herstellung und Verwendung als Photoinitiatoren in photopolymerisierbaren Massen.
Es sind bereits eine Reihe von Photoinitiatoren verschiedenster Strukturen bekannt, z.B. Benzildimethylketal
(DE-OS 22 61 383), Benzoinäther (DE-OS 16 94 149), Thioxanthone
(DE-OS 20 03 132) u.a.m. Photopolymerisierbare Massen, die mit derartigen Initiatorsystemen gehärtet werden,
zeigen jedoch eine unerwünschte Vergilbung, die eine Verwendung dieser Systeme auf hellen (bzw. weißen) Flächen oder
als überzug für farbtreue Abbildungen unbrauchbar macht.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung sind Acylphosphinoxidverbindungen
der allgemeinen Formel
R1 0
>-C-R, (D
R2 0
wobei R1 für einen geradkettigen oder verzweigten Alkylrest
mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen, einen Cyclohexyl-, Cyelopentyl-, Aryl-, halogen-, alkyl- oder alkoxy1-substituierten
Aryl-, einen S- oder N-haltigen fünf- oder sechsgliedrigen heterocyclischen Rest steht;
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"~ R2 die Bedeutung von R1 hat, wobei R1 und R2 unter- Ί
einander gleich oder verschieden sein können, oder für einen Alkoxyrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen,
für einen Aryloxy- oder eine Arylalkoxyrest
steht, oder R1 und R2 miteinander zu einem Ring
verbunden sind;
Ry für einen geradkettigen oder verzweigten Alkylrest
mit 2 bis 18 Kohlenstoffatomen, einen 3 bis 12 Kohlenstoffatome
enthaltenden cycloaliphatxschen
Rest, einen Alkyl-, Alkoxy- oder Thioalkoxy-substituierten
Phenyl- oder Naphthylrest, einen S- oder N-haltigen fünf- oder sechsgliedrigen heterocyclischen
Rest steht, wobei die Reste R, gegebenenfalls weitere funktioneile Gruppen tragen,
oder für die Gruppierung
-X-C-P
■ O 'R2
■ O 'R2
steht, worin R1 und R2 die oben angegebene Bedeutung
haben und X für einen Phenylenrest oder einen 2 bis β Kohlenstoffatome enthaltenden aliphatisehen
oder cycloaliphatischen zweiwertigen Rest
steht;
und wobei gegebenenfalls mindestens einer der Reste
R1 bis R^ olefinisch ungesättigt ist.
30
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist außerdem ein Verfahren zur Herstellung der erfindungsgemäßen Acylphosphinoxidverbindungen,
sowie ihre Verwendung als Photoinitiatoren
in photopolymerisierbaren Massen.
35
35
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BASF Aktiengesellschaft - 6 - ο. ζ. ΟΟ5Ο/Ο33279
■Bezüglich der allgemeinen Formel (I) der erfindungsgemäßen ">
Acylphosphinoxidverbindungen ist im einzelnen folgendes auszuführen:
R1 kann sein ein geradkettiger oder verzweigter Alkylreat
mit 1 bis 6 C-Atomen, wie Methyl-, Äthyl-, i-Propyl-, n-Propyl, η-Butyl-, Amyl-, n-Hexyl-,
Cyclopentyl-, Cyclohexyl-,
Aryl-, wie Phenyl-, Naphthyl-, halogensubstiuiertes Aryl,
wie Mono- oder Dichlorphenyl-,
alkylsubstituiertes Phenyl-, wie Methylphenyl-, Äthy!phenyl-,
Isopropylphenyl-, tert.-Butylphenyl-, Dimethy!phenyl-,
alkoxysubstituiertes Aryl-, wie Methoxyphenyl-, Äthoxyphenyl-,
Dirnethoxyphenyl-, S- oder N-haltige fünf- oder sechsgliedrige
Ringe, wie Thiophenyl-, Pyridyl-,
Außer der Bedeutung von R1 kann R2 sein ein Alkoxy!rest
mit 1 bis 6 C-Atomen, wie Methoxyl-, Äthoxyl-, i-Propoxyl-, Butoxyl-, Äthoxyäthoxyl-,
Aryloxyrest, wie Phenoxy-, Methy!phenoxy-, Benzyloxy-,
Aryloxyrest, wie Phenoxy-, Methy!phenoxy-, Benzyloxy-,
R1 kann mit Rp zu einem Ring verbunden sein, wie z.B. in
Acyl-phosphonsäure-o-phenylenestern»
R-z kann sein ein Äthyl-, i-Propyl-, n-Propyl-, n-Butyl-,
i-Butyl-, tert.-Butyl-, i-Amyl-, n-Hexyl-, Heptyl-, n-Octyl-,
2-Äthylhexyl-, i-Nonyl-, Dimethylhepty1-, Lauryl-, Stearyl-,
Cyclopropyl-, Cyclobutyl-, Cyclo-pentyl-, 1-Methylcyclopentyl-,
Cyclohexyl-, 1-Methylcyclohexyl-, Norbornadienyl-,
Adamantyl-, Dimethyloctyl-, Dimethylnony1-, Dimethyldecyl-,
Methylphenyl-, Dimethylphenyl-, Trimethylphenyl-, tert.-Butylphenyl-,
Isopropylphenyl-,
Methoxyphenyl-, Diine thoxyphenyl-, i-Propoxyphenyl-, Thiomethoxyphenyl-,
it- und ß-Naphthyl-,
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ihiophenyl-, Pyridyl-, Ί
ß-Acetoxyäthyl- oder ß-CarboxyäthyIrest.
R1 und R2 können außerdem C-C-Doppelbindungen enthalten, die
es erlauben, den Photoinitiator in das Bindemittel einzupolymerisieren.
Als Beispiele für die erfindungsgemäßen Acylphosphinoxid-
verbindungen seien genannt: 10
Isobutyryl-methylphosphinsäuremethylester
Isobutyryl-phenylphosphinsäuremethylester
Pivaloyl-phenylphosphinsäuremethylester 2-Äthylhexanoyl-phenylphosphinsäuremethylester
Pivaloyl-phenylphosphinsäureisopropylester p-Toluyl-phenylphosphinsäuremethylester
o-Toluyl-phenylphosphinsäuremethy-lester
2,4-Dimethylbenzoyl-phenylphosphinsäuremethylester
p-tert.-Butyl-phenylphosphinsäureisopropylester
Pivaloyl-(4-methylphenyl)-phosphinsäuremethylester
Pivaloyl-phenylphosphinsäurevinylester Acryloyl-phenylphosphinsäuremethylester
Isobutylryl-diphenylphosphinoxid Pivaloyl-diphenylphosphinoxid l-Methyl-l-cyclohexanoyl-diphenylphosphinoxid
2-Äthylhexanoyl-diphenylphosphinoxid p-Toluyl-diphenylphosphinoxid
o-Toluyl-diphenylphosphinoxid p-tert.-Butyldiphenylphosphinoxid
3-Pyridylcarbonyl-diphenylphosphinoxid
Acryloyldiphenylphosphinoxid Benzoyl-diphenylenphosphinoxid
2,2-Dimethy1-heptanoy1-diphenylphosphinoxid
Terephthaloyl-bis-diphenylphosphinoxid
Adipoyl-bis-diphenylphosphinoxid. J
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Bie Herstellung derartiger Verbindungen gelingt durch Um- Ί
setzung von Säurehalogeniden der Formel
0
R3-C-X X = Cl, Br,
R3-C-X X = Cl, Br,
mit Phosphinen der Formel
P-ORjj Rn = geradkettiger oder verzweig-
R2 ter C1- bis Cg-Alkyl, oder
Cycloalkyl mit 5 oder 6 C-Atomen
Die Umsetzung kann in einem Lösungsmittel wie einem Kohlen—
wasserstoff oder Kohlenwasserstoffgemisch wie Petroläther, Toluol, Cyclohexan, einem Äther, anderen üblichen inerten
organischen Lösungsmitteln, oder auch ohne Lösungsmittel bei Temperaturen zwischen -300C und +11O0C, bevorzugt
bei 10 bis 700C, ausgeführt werden. Das Produkt kann aus
dem Lösungsmittel direkt auskristallisiert werden, hinterbleibt nach dem Abdampfen oder wird im Vakuum destilliert.
ti Die Gewinnung der Säurehalogenide R-,CX und des substituierten
Phosphins R1R2PORj. erfolgt nach Verfahren, die dem Fachmann
aus der Literatur bekannt sind (z.B. Weygand-Hilgetag,
Organisch-Chemische Experimentierkunst, 4. Aufl., S. 246-256, J.A. Barth-Verlag, Leipzig 1970 sowie K. Sasse in Houben-
-Weyl, Band 12/1, S. 208-209, G. Thieme-Verlag, Stuttgart).
Das Verfahren zur Herstellung der erfindungsgemäßen Verbindungen
läßt sich folgendermaßen beispielhaft beschreiben:
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OCH,
OCH
CH,
+ CH3Cl
bzw.
P-OCH3 +
CH,
+ CH3Cl
Geeignete Phosphine sind zum Beispiel Methyl-dimethoxyphosphin,
Butyl-dimethoxyphosphin, Phenyldimethoxyphosphin,
Tolyldimethoxyphosphin, Phenyldiäthoxyphosphin, Tolyldiäthoxyphosphin,
Phenyldiisopropoxyphosphin, Tolyldiisoprop-CKylphosphin,
Phenyldibutoxyphosphin, Tolyldibutoxyphosphin bzw. Dimethylmethoxyphosphin, Dibutylmethoxyphosphin, Dimethylbutoxyphosphin,
Diphenylmethoxyphosphin, Diphenyläthoxy phosphin, Diphenylpropoxyphosphin, Diphenylisopropoxyphosphin,
Diphenylbutoxyphosphin oder ähnliche Ausgangsmateriaiien,
die zu den erfindungsgemäßen Verbindungen führen.
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Γ" η
Als Säurehalogenide eignen sich Chloride und Bromide, besonders bevorzugt sind jedoch Säurechloride.
Beispiele für die erfindungsgemäßen Verbindungen sind insbesondere
folgende (ohne dies als Beschränkung anzusehen):
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Tabelle 1: Beispiele der erfindungsgemäßen Verbindungen (Ph = Phenyl)
Verbindung Schmp. Sdp. Ausbeute
CH, O Ph t J ti
CH,-C C-P
Jt
CH3
11 \
O OCH3
/CH,\/CH,\->
CH3 CH2 " CH
CH,
CH,
(0C) (0C)
Analyse C H
101/0,3 mm 65 % ber. 60,0 7,08 12,9
gef. 59,8 6,9 12,1
161/1,2 mm 65 % ber. 61,06 7,83 11,03
gef. 63,8 8,1 11,0
20
CH,
"OCH3
O Ph
0 Ph
CH,
101
105
107
136
70 ?
73 %
81 %
83 f
ber. | 65,69 | 5,17 | 11,31 |
gef. | 65,7 | 5,6 | 11,0 |
ber. | 75,00 | 5,31 | 9,69 |
gef. | 75,3 | 5,8 | 9,3 |
ber. | 75,00 | 5,31 | 9,69 |
gef. | 71,7 | 5,1 | 9,5 |
ber. | 76,21 | 6,35 | 6,56 |
gef. | 76,0 | 6,5 | S,7 |
25
CH,
PPh,
CH3 CH3
0 /CH, />-CH
CH, 3
y -s. ti ph
CHj CH3 0 *n
205
111
120/0,5 mm
35 f
81 t
ber. | 71,91 | 1,19 | 11,61 |
gef. | 71,8 | 1,8 | 11,0 |
ber. | 71,33 | 6,61 | 10,ei |
gef. | 71,0 | 6,5 | 11,0 |
ber. | 62,68 | 7,81 | 11,57 |
gef. | 63,0 | 8,0 | 11,1 |
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ο. ζ. 0050/033279
For"s. Tabelle Verbindung
Schmp. Sap.
(0C) (0C)
Q Ph
CH, CH,
3 s ϊ
CH, 2
CH- CH- C O Ph
2 2 / ~v
J* | O U |
0-CH(CH | 5 | CHj | |
j I CH3-^ |
CHj O | CH, | ^Ph | ||
O | Ph / |
3>2 | |||
CHj | *- • ~'—p> |
,OC2H | |||
O CH, O Il I J Il S CH,-C-O-CH_ -C C-P „ J L ι it CHj O |
~x | "CHj | |||
CHj | |||||
V CHj-- |
CH3 | O | 5 | ||
<2> | |||||
51/0,3 ram
Ausbeute
90 S
SO %
65 t
102/0,05 mm 60 %
26 %
Analyse C H
bei·. 73,68 7,89 gef. 73,6 3,1
9,06 8,6
ber. | 66,28 | 6,11 | 9,01 |
gef. | 55,9 | 6,1 | 8,6 |
ber. | 52, U3 | 5,22 | 15,05 |
gef. | 52,1 | 9,1 | It ,9 |
0 Ph
ber. | 77,52 | a,73 | 3,71 |
gef. | 77,7 | D,8 | 3,4 |
ber. | 58,iil | 6,61) | 13,71 |
gef. | 58,9 | 6,7 | 13,5 |
ber. | 73,62 | 7,06 | 9,51 |
gaf. | 73,3 | 7,1 | 9,6 |
CH, CH,
CH, C Ph
CHj CH2 0 Ph
CHj
90 % ber. 73,68 7,89 9,06
gef. 73,9 3,1 9,4
BASF Aktiengesellschaft - ^ ° O.Z. 0050/033279
Die Verbindungen der erfindimgsgemäßen Struktur zeigen eine τ
sehr gute Reaktivität als Photοinitiatoren für photopolymerisierbare
Monomere mit mindestens einer C-C-Mehrfachbindung und Mischungen derselben miteinander und mit bekannten Zusatzstoffen.
Die erfindungsgemäßen Aeylphosphinoxidverbindungen
eignen sich besonders gut als Photoinitiatoren in photopolymerisierbaren Massen für überzüge und Lacke. Sie sind
hinsichtlich der» Vergilbung der so erhaltenen Lacke bzw. überzüge bekannten Photoinitiatoren (z»B. Benzildimethylketal)
weit überlegen.
Besonders bevorzugt sind dabei Aeyl-phenyl-phosphinsäureester
bzw, Acyldiphenylphosphinoxides deren Acylrest sich
von einer sekundär- oder tertiär-substituierten aliphatisehen
Carbonsäure wie Pivalinsäure, 1-Methy!cyclohexanearbonsäure,
Norbornencarbonsäure, Ci5,oHDimethylalkancarbonsäuren
(Versatic -Säure mit 9 bis 13 Kohlenstoffatomen), 2-Äthylhexancarbonsäures oder von einer substituierten aromatischen
Carbonsäure wie p=Methy!-benzoesäure, o-Methylbenzoesäures
2s ii-Dimethylbenzoesäurei) p-tert.-butylbenzoesäures
ZjiijS^-Trimethylbenzoesäures p-Methoxybenzoesäure oder
p-Thiomethylbenzoesäure ableiten»
Als photopolymerisierbare Monomere eignen sich die üblichen
Verbindungen und Stoffe mit polymerisierbaren C-C-Doppelbindungen,
die durch Z0B0 Aryl=s Carbonyl, Amino™, Amid-,
Amido»«, Ester-= j, Carboxy=» oder Gyanid-Gruppen, Halogenatome
oder C-C-Doppel- oder C«=C~Drei£aehbindungen aktiviert sind.
Genannt seien beispielsweise Vinylather und Vinylester,
Styrols Viny!toluols Acrylsäure und Methacrylsäure sowie deren
Ester mit ein·= und mehrwertigen Alkoholen, deren Nitrile oder Amide, Malein- und Pumarester sowie N°Viny!pyrrolidon,
N-Vinylcaprolactam^ N~Vinylcarbazol und Allylester wie
Diallylphthalat.
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Sis polymerisierbar höhermolekulare Verbindungen sind bei-"1
spielsweise geeignet; ungesättigte Polyester, hergestellt aus *,ß-ungesättigten Dicarbonsäuren wie Maleinsäure, Fumarsäure
oder Itaeonsäure, gegebenenfalls im Gemisch mit gesättigten bzw. aromatischen Diearbonsäuren, wie Adipinsäure,
Phthalsäure oder Terephthalsäures durch Umsetzung mit
Alkandiolen wie Äthylenglykol, Propylenglykol, Butandiol, Neopentylglykol oder oxalkyliertem Bisphenol A; Epoxidacrylate,
hergestellt aus Acryl- oder Methacrylsäure und aromatischen oder aliphatischen Diglycidylätiiern und Urethanacrylate
(z.B. hergestellt aus Hydroxyalkylacrylaten und Polyisocyanaten),
sowie Polyesteracrylate (z.B. hergestellt aus hydroxylgruppenhaltigen gesättigten Polyestern und Acryl-
oder Methacrylsäure).
Den photopolymerisierbaren Verbindungen, deren Zusammensetzung für den jeweiligen Verwendungszweck dem Fachmann
geläufig ist, können in bekannter Weise gesättigte und/oder ungesättigte Polymere sowie weitere Zusatzstoffe wie Inhibitoren
gegen die thermische Polymerisation, Paraffin, Pigmente, Farbstoffe, Peroxide, Verlaufshilfsmittel, Füllstoffe
und Glasfasern sowie Stabilisatoren gegen thermischen oder photochemischen Abbau zugesetzt sein.
Solche Gemische sind dem Fachmann bekannt und Art und Menge der Zusätze hängen vom jeweiligen Verwendungszweck ab.
Die erfindungsgemäßen Verbindungen v/erden dabei im allgemeinen
in einer Konzentration von O5Ol bis 15 %, vorzugsweise
von 0,1 bis 5 %» bezogen auf die photopolymerisierbare Masse
eingesetzt. Sie können gegebenenfalls mit Beschleunigern
kombiniert werden3 die den hemmenden Einfluß des Luftsauerstoffs
auf die Photopolymerisation beseitigen.
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Solche Beschleuniger bzw. Synergisten sind beispielsweise
sekundäre und/oder tert. Amine wie Methyldiäthanolamin,
Dimethyläthanoiamin, Triäthylamin, Triäthanolamin, p-Dimethylaminobenzoesäureäthylester,
Benzyl-dimethylamin, Dimethylaminoäthylacrylat,
N-Phenylglycin, N-Methyl-N-Phenylglycin
und analoge, dem Fachmann bekannte Verbindungen. Zur Beschleunigung der Aushärtung können weiterhin aliphatische
und aromatische Halogenide dienen wie 2-Chlormethyl-naphthalin,
l"-Ghlor-2-chlormethyl-=naphthalin, sowie Radikälbildner
wie Peroxide und Az©-Verbindungen.
Als Strahlungsquellen für das die Polymerisation solcher
Mischungen auslösende Licht verwendet man solche, die Licht vorzugsweise im Absorptionsber-ei'*'?>! 4er er fin dungs geraäßen
Verbindungen aussenden, d.h. zwischen 230 und 450 nm. Beson
ders geeignet sind Quecksilber-Niederdruekstrahlerj -Mittel druck- und Hochdruckstrahler, sowie superaktMaische Leuchtstoffröhren
oder Impulsstrahler. Die genannten Lampen können gegebenenfalls dotiert sein.
Die in den nachstehenden Beispielen genannten Teile und Pro zente beziehen sichs soweit nicht anders angegeben-, auf das
Gewicht. Volumenteile verhalten sich zu Teilen wie Liter zu Kilogramm.
_.
Beispiel 1
Beispiel 1
Zu eines* Mischung aus 1350 Volumenteilen Petroläther (Siede
bereich 40-7O0C)3 180 Volumenteilen NSN-Diäthy!anilin und
67 Volumenteilen Methanol werden unter Rühren bei 00C
225 Teile Diphenylchlorphosphinj gelöst in 220 Volumenteilen
Petrolather, zugegeben. Danach rührt man die Mischung
noch 2 Stunden bei Raumtemperatur, Nach Abkühlung auf cao
4-5 C saugt man das ausgeschiedene Aminhydrochlorid ab und
destilliert das Filtrat zunächst bei 10-20 Torr, um alles
ι- '-.''■■
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BASF Aktiengesellschaft - )6 - O.Z. ΟΟ5Ο/Ο33279
Eeichtsiedende zu entfernen. Sodann wird das Diphenylmethoxyphosphin
bei 0,1-1 Torr fraktioniert destilliert. Sdp.n c 12O-124°C. Ausbeute: 175 Teile (80 % bezogen auf
Diphenylchlorphosphin).
Zu 36,2 Teilen Pivaloylchlorid tropft man unter Rühren bei
3O-6O°C 64,8 Teile Diphenylmethoxyphosphin zu. Nach vollendeter
Zugabe läßt man noch 30 min nachreagieren, kühlt auf 0-100C ab und
Cyclohexan um.
Cyclohexan um.
0-100C ab und kristallisiert das ausgefallene Produkt aus
Ausbeute: 69,5 Teile Pivaloyldiphenylphosphinoxid (81 % der Theorie).
Schmp. 110-1120C, NMR (CDCl3, S), 1,33 (s), 7,4-8,0 (m)
Analyse C17H19O3P (286): C 71,33 H 6,64 P 10,84
gef.: C 71,0 H 6,5 P 11,0
Zu 77 Teilen Toluylsäurechlorid werden IO8 Teile Methoxydipheny!phosphin
(nach Beispiel 1 hergestellt), gelöst in 200 Volumenteilen Toluol, zugegeben. Danach wird 60 min
auf 5O0C erwärmt, dann abgekühlt, der Niederschlag von Toluyldiphenylphosphinoxid
abgesaugt und aus Cyclohexan umkristallisiert. Ausbeute 117 Teile (73 % d. Th.), Schmp.
1050C
MR (CDCl3, S): 2,35 (s) j 7,2-8 (m)
Analyse C20H17O2P (320) ber. C 75,00 H 5,31 P 9,69
gef. C 75,3 H 5,8 P 9,3
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In Analogie zu Beispiel 2 werden aus 77 Teilen 2-Methyl-
-benzoesäurechlorid und IO8 Teilen Methoxydiphenylphosphin
134 Teile 2=Methylbenzoyl=diphenylphosphinoxid hergestellt.
Ausbeute 84 % d.Th„, Schmp. 107°C
NMR
(CDCl35 f): 2.5 (s)j 7.2-8 (m); 8.8 (m)
Analyse C20H17O3P (320) ber„ C 75,0 H 5,31 P 9,69
gefo C 74,7 H 5,4 P 9,5
In Analogie zu Beispiel 1 werden 41,3 Teile p-tert.-Butylbenzoesäurechlorid
mit 45 s 4 Teilen Methoxydiphenylphosphin,
gelöst in 20 Teilen Toluol, bei 500C in 90 min umgesetzt.
Nach dem Abdampfen des Lösungsmittels am Rotations-Verdampfer wird aus Cyclohexan umkristallisiert«
Ausbeute; 63 Teile (83 % d.Th.) Schmp» 1360C
NMR (CDCl35 S); 1.3 Cs); 7.3-8.1 (m); 8.5 (d)
Analyse C33H33O2P (362) ber* C 76,24 H 6S35 P 8S56
gef0 C 76,0 H 6S5 P 8S7
In Analogie zu Beispiel 2 werden aus 52 Teilen Terephthalsäuredichlorid;,
gelöst in 200 Teilen ToIuOl9 und 108 Teilen Methoxydiphenylphosphin 46 Teile Terephthaloyl-bis-diphenylphosphinoxid
hergestellt (Ausbeute 35 % d.Th») Schmpo
9(HHJB 5/0 130
1 - O. Z. 0050/033279
HMR (CDCl3, ί): 6.8-8.2 (m)
Analyse C32H34O11P2 (534) ber. C 71,91 H 4,49 P 11,61
. .. .. gef. C 71,8 H 4,8 . P 11,0
Beispiel 6 . ...
In der Arbeitsweise wie nach Beispiel 2 werden aus 80 Teilen l-Methyl-l-cyclohexancarbonsäurechlorid und IO8 Teilen
Methoxydiphenylphosphin.ohne Lösungsmittel 100 Teile l-Methyl-cyclohexylcarbonyldiphenylphosphinoxid als öliges
Rohprodukt erhalten, das durch Chromatographieren an Kieselgel (Laufmittel Toluol) gereinigt wird.
Ausbeute: 42 Teile (26 % d.Th.) Schmp. 8O0C
- NMR (CDCl3, &): 1.4 (s)j 1.1-1.6 (m)j 2.1-2.4 (m);
7.3-8.0 (m)
Analyse C20H33O2P (326) ber. C 73,62 H 7,06 P 9,51
gef. C 73,3 H 7,1 P 9,6
In Analogie zu Beispiel 1 werden aus 88 Teilen 2-Methyl-
-2-äthylhexansäurechlorid und IO8 Teilen Methoxydiphenylphosphin
I65 Teile 2-Methyl-2-Äthyl-hexanoyl-diphenylphosphinoxid als öliges Rohprodukt erhalten. Durch Säulenchromatographie
an Kieselgel (Laufmittel: Toluol/Äther 3:1) erhält man das Produkt als leicht gelbliches öl. Ausbeute
154 Teile (90 % d.Th.)
MMR (CDCl3, ί): 1.2 (s); 0.5-2.2 (m); 7.3-8.1 (m)
Analyse C21H37O3P (3^2) ber. C 73,63 H 7,89 P 9,06
u gef. C 73,9 H 8,1 P 9,4
9 0 9Ü85/Ü130
COPY
BASF Aktiengesellschaft - ]M - O. Z. 0050/033279
Beispiel 8 τ
Analog zu Beispiel 1 tropft man bei 5O0C 43,2 Teile Methoxydiphenylphosphin
zu 35,3 Teile 2,2-Dimethyl-heptancarbonsäurechlorid (Versatic-Säurechlorid). Man rührt 3 h bei 50°C,
kühlt auf 15°C ab und rührt die Mischung in eine Aufschlämmung von 60 g Kieselgel in 350 ml Toluol ein, rührt noch
eine Stunde unter Eiskühlung. Dann wird abgesaugt und das Lösungsmittel unter vermindertem Druck abdestilliert. Versatoyl-diphenylphospinoxid
hinterbleibt als viskoses öl.
Ausbeute 62 Teile (90 % d.Th.)
NMR (CDC!,, ί): 0.4-2.3 (m); 7.2-8.1 (m)
Analyse C21H27O3P (342) ber. C 73,68 H 7,89 P 9,06
gef. C-73,6 H 8,1 P 8,6
Zu einer Mischung aus 600 Volumen-Teilen Petroläther, 263 Teilen N,.N-Diäthylanilin und 120 Teilen Isopropanol
tropft man innerhalb einer Stunde bei O0C 143 Teile Phenyldichlorphosphin.
Danach wird noch 1 h bei Raumtemperatur gerührt, und dann nach Aufarbeitung wie in Beispiel 1 beschrieben
destilliert. Das Diisopropoxy-phenylphosphin destilliert bei 68-72°C/O,3 mm; Ausbeute 126 Teile (69 % d.Th.)
158 Teile Diisopropoxyphenylphosphin werden unter gutem Rühren
bei 50-6O0C langsam zu 84 Teilen Pivalinsäurechlorid zugegeben.
Man rührt weitere zwei Stunden und fraktioniert im . Vakuum. Pivaloyl-phenylphosphinsäureisopropylester de-
stilliert bei Ug-121°C/O,5 mm.
909885/0130
copy
BASF Aktiengesellschaft - y§ - O. Z. 0050/033279
"Ausbeute 112 Teile (60 % d. Th.) Ί
NMR (CDCl3, S) 1,25 (s); 1,33 (t)j 4,5 (m); 7,3-8 (m)
Analyse: C14H21O3P (268): ber. C 62,68 H 7,84 P 11,57
gef. C 63,0 H 8,0 P 11,4
Zu einer Mischung aus 1000 Volumenteilen Toluol, 421 VoIumenteilen
N,N~Diäthylanilin und 100 Volumenteilen Methanol werden bei O0C 214 Teile Phenyldichlorphosphin zugegeben.
Danach rührt man noch 1 Stunde bei Raumtemperatur, saugt
den Niederschlag von Aminhydrochlorid ab und fraktioniert.
Das Dimethoxypheny!phosphin destilliert bei 46-5O°C/O,2-0,3
nun.
Ausbeute: I90 Teile (93 % d. Th.)
Zu 78,7 Teilen Pivaloylchlorid werden bei 15°C 110,5 Teile
Dimethoxyphenylphosphin zugetropft. Man erwärmt danach noch
30 min auf 500C und destilliert dann das Reaktionsgemisch.
Pivaloylphenylphosphinsäuremethylester geht bei 1O4-1O7°C/
0,3 mm über.
Ausbeute: 101,3 Teile (65 % d. Th.) NMR (CDCl3, S): 1,3 (s);
3,75 (d)s 7,4-8 (m).
Analyse:. C13H17O3P (240) ber. C 60,0 H 7,08 P 12,9
gef. C 59,8 H 6,9 P 12,4
909885/0130
BASF Aktiengesellschaft - 30 - O.Z. 0050/033279
Zu 163 Teilen 2-Äthylhexansäurechlorid werden bei 300C
170 Teile Dimethoxyphenylphosphin (Beispiel 4) zugetropft. Anschließend wird 50 min bei 500C gerührt, dann im ölvakuum
fraktioniert.
2-Äthyl-hexanoyl-phenylphosphinsäuremethylester geht bei
10
16O-168°C/1,2 nun über.
Ausbeute: 230 Teile (8l % d. Th.) NMR (CDCl3, £ ): 0,6-2 (m);
3,2 (q); 3,8 (d), 7,3-8 (m)
Analyse: C15H22O3P (281) ber. C 64,06 H 7,83 .P 11,03
gef. C 63,8 H 8,1 P 11,0
Zu 155 Teilen 4-Methylbenzoylchlorid, gelöst in 250 Volumenteilen
Toluol, werden bei 300C I70 Teile Dimethoxyphenylphosphin
zugegeben. Man läßt 60 min nachreagieren, kühlt dann auf 00C ab und saugt den Niederschlag ab. Nach dem Umkristallisieren
aus Cyclohexan schmilzt 4-Methylbenzoyl-phenylphosphin-
säuremethylester bei 99-1010C.
Ausbeute: I80 Teile (65 % d, Th.) NMR: 2,25 (s); 3,7 (d);
7-8,1 (m)
Analyse: C15H15O3P (274) ber. C 65,69 H 5,47 P 11,31
gef. C 65,7 H 5,6 P 11,0
Ein deckend pigmentierter Lack wird hergestellt aus einer Mischung
von 100 Teilen des Umsetzungsprodukts aus Bisphenol-A-
909885/013 0
BASF Aktiengesellschaft - >ί - O.Z. 0050/033279
5iglycidyläther und 2 Mol Acrylsäure, 122 Teilen Butandiol-Ί
1,4-diacrylat, 6 Teilen n-Butanol, 122 Teilen TiO„-Pigment.
Lacke dieser Art sind dem Fachmann bekannt. Zu dieser Mischung gibt man 6,5 Teile 2-Methylbenzoyl-diphenylphosphin-5
oxid als Photoinitiator. Der fertig formulierte Lack wird in einer Dicke von 75/U auf Glasplatten aufgerakelt und mit
einer Hg-Hochdrucklampe (Leistung 80 W/cm Bogenlänge) bestrahlt.
Der Abstand Lampe - Lackfilm betrug 10 cm. Die Proben wurden in einer Inertgasatmosphäre auf einem
in seiner Laufgeschwindigkeit kontinuierlich verstellbaren
Transportband unter der Lampe hindurchgezogen.
Bei Transportbandgeschwindigkeiten bis zu 6 m/min erhält man kratzfeste, durchgehärtete und völlig weiße Lackfilme.
15
Zu einem Bindemittel aus 65 Teilen eines Umsetζungsproduktes
aus Bisphenol-A-diglycidylather mit zwei Äquivalenten Acrylsäure
und 35 Teilen Butandiol-l,4-diacrylat werden jeweils
drei Teile Photoinitiator gegeben. Diese Mischungen werden in einer Schichtdicke von 80 .u mit einer Rakel auf Glasplatten
aufgezogen und bestrahlt (Hg-Hochdrucklampe, 80 W/cm Bogenlänge, Abstand 10 cm). Die zur Erzielung einer nagelharten,
kratzfesten Oberfläche notwendige Bestrahlungsdauer wird durch die maximal mögliche Transportbandgeschwindigkeit
widergegeben, mit der die Proben unter der Lampe durchgezogen werden können. Es wurden beispielsweise folgende Werte
gemessen:
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BASF Aktiengesellschaft
O. Z. 0050/033279
tabelle 2: Hartungsaktivität der Photoinitiatoren
Initiator
Maximale Transportbandgeschwindigkeit in m/min
unter Luft |
unter Inertgas |
unter Luft, Zu satz von 3 % N-Phenylglyein |
|
Pivaloylphosphonsäure- diäthylester |
- | 10 | |
Pivaloylphenylphosphin- säuremethylester |
10 | 150 | 10 |
Toluyl-phenylphosphin- sauremethyIester |
10 | 70 | 25 |
2-Äthylhexanoyl-phenyl- phosphinsäuremethylester |
40 | ||
Toluyl-diphenylphosphin- oxid |
- | 70 | 25 |
2-Methylbenzoyl-diphenyl- phosphinoxid |
- | 70 | |
Pivaloyl-diphenylphosphin- oxid |
11 | 150 | 25 |
Beispiel 15 |
Zu einem nach Beispiel 14 hergestellten Lack werden 3 % N-'Phenylglycin zugegeben. Anschließend wird wie in Bei-
spielVi auf Glasplatten aufgezogen und belichtet. Die
Ergebnisse folgen aus Tabelle 2.
Durch Veresterung von 431 Teilen Maleinsäureanhydrid und
325 Teilen Phthalsäureanhydrid mit 525 Teilen Propylenglykol-1,2
wird ein ungesättigter Polyester hergestellt. Nach Zugabe von 0,01 % Hydrochinon wird von dem Polyester eine
66 prozentige Lösung in Styrol hergestellt. 97 Teile dieser UP-Harzes werden mit 1,5 Teilen Pivaloyl-diphenylphosphin-■exid
versetzt. j
909885/0130
9 c, - r-
r- fä ο ο »
"J -y £ /
Afi~* Ρ3* /^ fi r * Γ Π ^J
ung IO Toils
in S'iyr-
Haps auf Glasplat^iän ud,^
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'■■"' »l ί3ι
F Äkfeig®s©ttse!hsft ■= ψ% =>
O. Z. 0050/033279
fabelle 3s Vergilbung photopolyaerisierter Lacke
Initiator
Initiator
Bensildimethylketal
B©nzophenon/M©thyläi«=
äthanolamln (2tIt3)
Pival oj 1= diphenyl·=*
phosphinoxid
p-Toluyl-*diph©nyl°
15 Pivaloyl°phenyl=
phosphinsäursmethylester
angetjaj Kons ©nt |
idte^ | Vergxlbung ge messen nach Yellowness- |
3 |
ο
β |
9s2O |
β | % | 8-, 15 |
3 | Cf | -3,33 |
3 | °3,72 | |
3 | -2,34 |
ascfe ASTM D 1925=117
mit Gerät DMC 25-dec Fa0 Zeiss
mit Gerät DMC 25-dec Fa0 Zeiss
20 -
Zur Messung dsr Härtungsalctivität der erfindungsgemäßen Verbindungen
in photopolymerisierbaren ungesättigten Polyester-2S
harzen wurde der Temperaturverlauf während der Belichtung
aufgezeichnet» Dasu wurden folgende Harze hergestellt:
aufgezeichnet» Dasu wurden folgende Harze hergestellt:
Harz Ai Durch Schmelzkondensation von Maleinsäure, o-Phthalsäure,
Äthylenglykol und Propylenglykol-1,2 im Molverhältnis
1:2: 2,4 : 0,85 erhält man einen ungesättigten Polyester
mit einer Säurezahl von 50.
Harz B: Aus Maleinsäure, Tetrahydrophthalsäure und Diäthylenglykol
im Molverhältnis 1 : 0,5 ϊ 1,5 erhält man ein UP-
-Harz der Säurezahl 46.
809885/0130
ORIGINAL INSPECTED
λ ζ. 0050/035279
2ur Anwendung wer-den beide Har-se 65 prosentig in Styrol ge-*1
löst und ffiifc 100 ppm Hydrochinon stabilisierte
10 g eines solchen Hasses werden mit 0,35 S des jeweiligen
S Photoinitiators sensiöilislert land danach in einer Weißblechschale
(Durchlasser 3S8 cm) bestrahlt;3 die zur Wärmeisolation
in Polyu2?®fchsn=Harfescßaum eingebettet ist. Als
Strahlungsquelle dient ©in UY=FeId (87 2 ^9 cn) au3 zehn
nebeneinander ang©ordn@fcen Lampsa (TlF/ 40 M/0,5, Phillips,
10 der Abstand zur Probe beträgt IQ cm). Der- Temperaturverlauf
im Harz \-zähv®nd der Härtung wird üb©r ©in Thermoelement mit
Schreiber registriert. Die erhaltenen Meßwerte sind in Tabelle 4 zusanM@ng©fa&t.
15 Tabelle hi Teisperaturverlauf während der Photopolymerisation
Phot o-Initiat or
Konzen~ Harz Härtungs- maximal
zentra- zeit erreichtion (Zeit te Proswischen bentem-25
C und peratur
max v '
Pivaloyl-'pheaylphosphin-
säuremethylester Ips35 2 B
Toluyl-diphenylphosphinoxid(b,35 3s A
it-tert.-Butyl-benzoyl-di- 0,35 % A
phenylphosphinoxid
Terephthaloyl-bis-diphenyl- 0,35 % A
Terephthaloyl-bis-diphenyl- 0,35 % A
phosphinoxid
18 15 |
iain S |
106 |
13 | min· | 112 |
15 15 |
min S |
122 |
10 5 |
min S |
133 |
55 | min S |
120 |
2i 15 |
min S |
109 |
90S885/0130
Claims (6)
1. / Acylphosphinoxid-Verbindungen der allgemeinen Formel
R1 O
·*■ V^ 11
(D
R2 O
wobei R1 für einen geradkettigen oder verzweigten Alkylrest
mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen, einen Cyclohexyl-, Cyclopentyl-, Aryl-, halogen-, alkyl- oder alkoxy
1-sub statuierten Aryl-, einen S- oder N-haltigen
fünf- oder sechsgliedrigen heterocyclischen Rest steht;
Rp die Bedeutung von R1 hat, wobei R1 und R2 untereinander
gleich oder verschieden sein können, oder für einen Alkoxyrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen,
für einen Aryloxy- oder einen Arylalkoxyrest steht, oder R1 und R2 miteinander zu einem Ring
verbunden sind;
R, für einen geradkettigen oder verzweigten Alkylrest
mit 2 bis 18 Kohlenstoffatomen, einen 3 bis 12 Kohlenstoff
atome enthaltenden cycloaliphatischen Rest, einen Alkyl-, Alkoxy- oder Thioalkoxy-sub-
stituierten Phenyl- oder Naphthylrest, einen S-
oder N-haltigen fünf- oder sechsgliedrigen heterocyclischen Rest steht, wobei die Reste R,
gegebenenfalls weitere funktioneile Gruppen tragen, oder für die Gruppierung
I.
It
-X-C-P
Il
Il
0 2
35
35
Ls-ro 12.07.1978 ,
909885/0130
BASF Aktiengesellschaft - 2 - O. Z. OO5O/O53279
r steht, worin R1 und R2 die oben angegebene Bedeu-"1
tung haben und X für einen Phenylenrest oder einen 2 bis 6 Kohlenstoffatome enthaltenden aliphatischen
oder cycloaliphatischen zweiwertigen Rest steht; 5
und wobei gegebenenfalls mindestens einer der Reste R1
bis R3 olefinisch ungesättigt ist.
2. Acylphosphinoxidverbindungen nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß R, ein tertiärer aliphatischer
Rest ist.
3. Acylphosphinoxidverbindungen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß R, ein mono-, di- oder trialkylsubstituierter
Phenylrest ist, wobei der oder die Alkylreste 1 bis 8 Kohlenstoffatome enthalten..
4. Verfahren zur Herstellung der Acylphosphinoxidverbindungen nach Anspruch 1, 2 oder 3» dadurch gekennzeich net,
daß man Säurehalogenide der allgemeinen Formel
It
R3-C-X
worin X für Chlor oder Brom steht und R, die oben genannte Bedeutung hat, mit einem Phosphin der allgemeinen
Formel
Rl
R2
worin R1 und R2 die oben genannte Bedeutung haben und
R2J für einen geradkettigen oder verzweigten 1 bis
6 Kohlenstoffatome enthaltenden Alkylrest oder einen
909885/0130
BASF Aktiengesellschaft - 3 - O. Z. 0050/033279
r Cycloalkylrest mit 5 oder 6 Kohlenstoffatomen stehen,
bei Temperaturen zwischen -30 und +1100C gegebenenfalls
in Gegenwart eines inerten organischen Lösungsmittels umsetzt.
5. Verwendung der Acylphosphinoxide der allgemeinen Formel
^C
R3
J it
J it
O R2
nach Anspruch 1, 2 oder 3, wobei R, zusätzlich einen
Methyl- oder Phenylrest bedeuten kann, als Photoinitiatoren in photopolymerisierbaren Massen.
6. Verwendung der Acylphosphinoxide nach Anspruch 5» in
Kombination mit sekundären und/oder tertiären Aminen, 20
$03885/13113®
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Family
ID=6044344
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8141 | Disposal/no request for examination |