DE112005000513T5

DE112005000513T5 - Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen der Winkelstellung eines Objektes

Info

Publication number: DE112005000513T5
Application number: DE112005000513T
Authority: DE
Inventors: Patrick F. Ann Arbor Leonard; Mark Tualatin Singer
Original assignee: Electro Scientific Industries Inc
Current assignee: Electro Scientific Industries Inc
Priority date: 2004-03-05
Filing date: 2005-03-04
Publication date: 2007-01-18
Also published as: JP2007528065A; KR20060122959A; CN1938716A; GB2429770B; US20050196036A1; TWI303784B; CN100454331C; GB0616917D0; WO2005086718A2; KR100872103B1; TW200603006A; GB2429770A; US7349567B2; WO2005086718A3

Abstract

Verfahren zum Berechnen einer Winkelstellung eines angenommen Objektes, umfassend:
Bereitstellen eines Musterbildes des bekannten Objektes, das eine angenommene Stellung hat,
Berechnen einer Reihe von Projektionssummen über das Musterbild für einen Bereich von Winkeln und Organisieren der Projektionssummen in einer zweidimensionalen Matrix basierend auf dem Winkel, bei dem die Projektionssumme berechnet wurde,
Bereitstellen eines ersten Bildes des bekannten Objektes, wobei die in dem ersten Bild gezeigte Winkelstellung des bekannten Objektes nicht bekannt ist,
Berechnen einer Projektionssumme über das erste Bild bei einem angenommenen Winkel, und
Vergleichen der Projektionssumme über das erste Bild mit der zweidimensionalen Matrix und Auswählen des Winkels, dessen Projektionssumme der Projektionssumme des ersten Bildes am nächsten kommt.

Description

GEBIET DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung betrifft das Bestimmen der Winkelstellung eines angenommenen Objektes.
HINTERGRUND DER ERFINDUNG
Eine häufige Aufgabe bei der Kontrolle hergestellter Teile ist das Bestimmen der Pose bzw. der Stellung des Teils. Die Stellung ist die Lage des Teils, die üblicherweise durch eine X- und eine Y-Koordinate zusammen mit einem Winkel gemessen wird, der von der Vertikalen gemessen wird. Die Winkelstellung kann als ein Maß dafür gesehen werden, wie stark das Teil gedreht ist. In vielen Industrieanwendungen wird die Stellung des Teils von einem System zur maschinellen visuellen Erfassung gemessen. Dies gilt insbesondere für Halbleiterteile. Bei bekannter Winkelstellung kann ein System zur maschinellen visuellen Erfassung wichtige Informationen über die Qualität eines Teiles liefern, Herstellungsprozesse steuern oder die Genauigkeit anderer Prozesse zur maschinellen visuellen Erfassung verbessern.
Die Bestimmung der Winkelstellung ist häufig ein zeitintensiver Vorgang. Aufgrund der ständig steigenden Forderungen nach einem gesteigerten Durchsatz ist ein Erhöhen der Geschwindigkeit, mit der die Winkelstellung berechnet wird, allgemein erwünscht.
Ebenso versteht es sich, dass viele Algorithmen oder Systeme zur Mustererkennung, die von Systemen zur maschinellen visuellen Erfassung eingesetzt werden, winkelempfindlich sind. Anders ausgedrückt funktionieren viele Algorithmen oder Systeme zur Mustererkennung nicht gut, wenn das Teil, das kontrolliert wird, über eine gewisse Toleranz hinaus gedreht ist. Wenn ein Teil beispielsweise um mehr als ungefähr ein oder zwei Grad gedreht ist, kann es sein, dass eine normalisierte Korrelation nicht richtig funktioniert, um ein Teil zu erkennen.
Die Halbleiterindustrie hat sich mit der Empfindlichkeit von Mustererkennungssystemen auf verschiedene Arten befasst. Eine Art war die Entwicklung von Mustererkennungssystemen, die weniger empfindlich gegenüber Rotation sind, wie z.B. die Graustufen-Vektorkorrelation (vgl. allgemein angegebenes US-Patent Nr. 6,385,340, das hiermit durch Bezugnahme in die vorliegende Beschreibung aufgenommen wird). Eine weitere Art, mit dieser Empfindlichkeit umzugehen, besteht darin, die Halbleiterteile dem visuellen Erfassungssystem auf eine sehr definierte Weise zu präsentieren. Beispielsweise können Halbleiter dem visuellen Erfassungssystem in einem speziell konfigurierten Magazin vorgelegt werden, das so konstruiert ist, dass die Rotation der Teile auf ein Minimum reduziert ist. Trotz der beiden oben beschriebenen Anstrengungen kann es jedoch sein, dass Teile über die Toleranz des Mustererkennungssystems hinaus gedreht sind, was dazu führen kann, dass das Mustererkennungssystem einen Fehler für dieses Teil meldet.
Wenn die Winkelstellung allgemein bekannt ist, können die Mustererkennungssysteme jedoch so eingestellt werden, dass sie korrekt arbeiten. Dies würde ermöglichen, dass bekannte Teile ungeachtet einer Rotation kontrolliert werden können. In der Vergangenheit war das Bestimmen der Winkelstellung eines Objektes als separates Verarbeitungssystem und das Übermitteln der Winkelstellung an das Mustererkennungssystem schlichtweg zu kostspielig verglichen mit dem gelegentlich vorkommenden Fehler, der verursacht wurde, wenn ein Teil über die Toleranz des verwendeten Erkennungssystems hinaus gedreht war. Somit ist ein Bedürfnis entstanden, die Winkelstellung eines Objektes schnell und mit der gewünschten Genauigkeit zu berechnen.
ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
Die vorliegende Erfindung sieht ein Verfahren zum Berechnen der Winkelstellung eines angenommenen Objektes vor. Diese Winkelstellung hat einen unabhängigen Wert und kann an ein Mustererkennungssystem übermittelt werden oder nicht. Es wird ein Musterbild des bekannten Objektes vorgesehen. Das Musterbild hat eine angenommene Stellung. Eine Reihe von Projektionssummen wird über das Musterbild des bekannten Objektes für einen Bereich von Winkeln berechnet und basierend auf dem Winkel, bei dem die Projektionssumme berechnet wurde, in eine zweidimensionale Matrix eingetragen bzw. als zweidimensionale Matrix organisiert. Es wird ein erstes Bild eines angenommenen Objektes vorgesehen, wobei die Winkelstellung des bekannten Objektes in dem ersten Bild nicht bekannt ist. Eine Projektionssumme wird, über das erste Bild bei einem angenommenen Winkel berechnet. Der angenonmmene Winkel ist vorzugsweise perpendikulär, d.h. rechtwinklig bzw. senkrecht. Die Projektionssumme aus dem ersten Bild wird mit der zweidimensionalen Matrix verglichen, und es wird der Winkel gewählt, dessen Projektionssumme der Projektionssumme des ersten Bildes am nächsten kommt. Die vorliegende Erfindung kann an einer Reihe von Bildern durchgeführt werden, die alle von den bekannten Objekten sind, um eine jedem Objekt zugeordnete Winkelstellung zu übermitteln.
Ferner sieht das Verfahren der vorliegenden Erfindung vor, dass der Winkel, dessen Projektionssumme der Projektionssumme des ersten Bildes am nächsten kommt, zu einem Erkennungssystem übermittelt wird. Dies wird ermöglichen, dass das Erkennungssystem so eingestellt wird, dass es jegliche Rotation in dem Objekt berücksichtigen kann. In einem weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiel ist das Erkennungssystem eine Graustufen-Vektorkorrelation.
In einem weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiel erfolgt der Vergleich der Projektionssumme über das erste Bild mit der zweidimensionalen Matrix unter Verwendung der normalisierten Korrelation oder NK.
Die vorliegende Erfindung sieht ferner ein computerlesbares Medium zur Verwendung in einem System zur maschinellen visuellen Erfassung vor, wobei das computerlesbare Medium so konfiguriert ist, dass es die Winkelstellung eines bekannten Objektes bestimmt. Das computerlesbare Medium enthält Mittel zum Berechnen einer Reihe von Projektionssummen über ein Musterbild des bekannten Objektes, das eine angenommene Stellung hat. Die Projektionssummen werden für einen Bereich von Winkeln berechnet. Das computerlesbare Medium enthält ferner Mittel zum Organisieren der Projektionssummen in einer zweidimensionalen Matrix, basierend auf den Winkeln, bei denen die Projektionssumme berechnet wird. Das computerlesbare Medium enthält ferner Mittel zum Berechnen einer Projektionssumme über ein erstes Bild aus einer Reihe bekannter Objekte bei einem angenommenen Winkel sowie zum Vergleichen der Projektionssumme über das erste Bild mit der zweidimensionalen Matrix. Der Winkel, dessen Projektionen der Projektionssumme eines ersten Bildes am nächsten kommt, wird ausgewählt.
Weitere Anwendungen der vorliegenden Erfindung werden für einen Fachmann auf diesem Gebiet beim Studium der folgenden Beschreibung der zur Umsetzung der Erfindung erachteten besten Ausführungsform in Verbindung mit den beigefügten Zeichnungen ersichtlich.
KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
Die vorliegende Beschreibung bezieht sich auf die beiliegenden Zeichnungen, wobei gleiche Bezugszeichen gleiche Teile in allen verschiedenen Darstellungen kennzeichnen, und wobei:
1 ein Flussdiagramm ist, das zeigt, wie gelehrt wird, eine zweidimensionale Matrix aus einem Musterbild eines bekannten Objektes zu erzeugen,
2 eine schematische Darstellung eines bekannten Objektes und einer Reihe von Winkeln ist, über die Projektionssummen berechnet werden können,
3 eine schematische Darstellung des Objektes der 1 ist, wobei die Projektionssumme berechnet wird,
4 eine detaillierte Ansicht der Art und Weise ist, in der die Projektionssumme über repräsentative Pixel aus 3 berechnet wird,
5 eine schematische Darstellung der zweidimensionalen Matrix aus Projektionssummen ist, angeordnet nach Winkeln,
6 ein Flussdiagramm ist, das den Prozess des Feststellens der Winkelstellung eines bekannten Objektes zeigt, unter Verwendung der Matrix der 5,
7 eine schematische Darstellung einer perpendikulären Projektionssumme ist, die über ein bekanntes Objekt gebildet ist, wobei das bekannte Objekt in einem nicht bekannten Winkel steht,
8 ein Flussdiagramm ähnlich der 6 zeigt, in dem die Winkelstellung des Objektes an ein Mustererkennungssystem übermittelt wird, und
9 eine schematische Darstellung eines visuellen Erfassungssystems ist, das ein computerlesbares Medium enthält, das so konfiguriert ist, dass es die Winkelstellung eines Objektes bestimmt.
DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DES BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSBEISPIELS
Die vorliegende Erfindung ist besonders nützlich bei der Bestimmung der Winkelstellung eines bekannten Objektes. Die vorliegende Erfindung macht sich eine neuartige Abänderung der Gleichungen von Radon (weiter unten dargelegt) zunutze, um die Winkelstellung eines bekannten Objektes schnell zu bestimmen. Eine Reihe von Projektionssummen wird aus einem Musterbild des bekannten Objektes bestimmt, in dem das bekannte Objekt eine angenommene Stellung hat. Die Projektionssummen werden für einen Bereich von Winkeln berechnet. Dieser Bereich kann bis zu ± 180 Grad groß sein.
Jede Projektionssumme kann als eindimensionale Matrix angesehen werden. Es wird eine Ansammlung solcher eindimensionaler Matrizen berechnet, um eine zweidimensionale Matrix aus Projektionssummen zu bilden. Diese zweidimensionale Matrix kann als Projektionsbild bezeichnet werden.
Es wird ein Bild eines bekannten Objektes vorgelegt, wobei die Winkelstellung des bekannten Objektes nicht bekannt ist. Die mehrfachen Objekte sind dahingehend "bekannt", dass es sich bei allen um das gleiche Teil handelt, das in dem nachstehenden Beispiel ein Halbleiterchip ist. Vorzugsweise wird eine einzelne Projektionssumme aus der Senkrechten ermittelt. Diese Projektionssumme wird dann mit der zweidimensionalen Matrix aus Projektionssummen korreliert. Der Winkel, der der Projektionssumme zugeordnet ist, die mit der einzelnen Projektionssumme am besten korreliert, ist die Winkelstellung des bekannten Objektes.
Die vorliegende Erfindung ist im Zusammenhang mit einem Halbleiterbauteil, wie z.B. einem Chip, beschrieben. In der Praxis würde das Musterbild von einem bekannten Objekt stammen, das ein bestimmter Chip sein könnte. Bekannte Objekte mit den nicht bekannten Stellungen wären dann Chips, die im wesentlichen identisch sind, z.B. das gleiche Teil. Die darauffolgenden Chips hätten jedoch eine nicht bekannte Stellung.
Wie oben erörtert, basiert die vorliegende Erfindung lose auf den Berechnungen der nachstehend wiedergegebenen Gleichungen von Radon.
Wobei f(x,y) die Bilddaten sind, P der Winkel ist, bei dem die Projektion gebildet wird, und tau die Verschiebung entlang der Projektion ist.
Unter Bezugnahme auf die Zeichnungen, in denen gleiche Elemente gleiche Bezugszeichen haben, wird das Verfahren der vorliegenden Erfindung aufgezeigt. Unter Bezugnahme auf die 1 beginnt der Lernprozess bei 10. Das Lernen beschreibt die Aufgabe des Erzeugens der zweidimensionalen Matrix aus Projek tionssummen bei angenommenen Winkeln. Diese zweidimensionale Matrix kann als Projektionsbild bezeichnet werden. Bei 20 wird ein Bild eines bekannten Objektes, das eine angenommene Stellung hat, bereitgestellt. Im Kontext mit der Beschreibung der vorliegenden Erfindung handelt es sich bei diesem bekannten Objekt um einen Chip. Die vorliegende Erfindung kann aber bei einer großen Vielfalt von Objekten angewandt werden. Bei 30 werden der Startwinkel, der Stoppwinkel und der Schritt ausgewählt. Der Startwinkel und der Stoppwinkel bezeichnen den Bereich, für den die Projektionssummen berechnet werden.
Die 2 zeigt schematisch den Start- und den Stoppwinkel. Die 2 zeigt schematisch eine Ansammlung von Winkeln, die über ein Bild eines Chips 11 projiziert werden. In diesem Beispiel ist der Chip das bekannte Objekt mit der angenommenen Winkelstellung. Der Startwinkel ist durch θ₁ bei 12 dargestellt, während der Endwinkel durch θ_N bei 14 dargestellt ist. Ein bevorzugter Bereich ist ± 30 Grad, obgleich die Projektionen auch über ± 180 Grad vorgenommen werden können. Es versteht sich, dass der Bereich von Winkeln, über den Projektionssummen gewonnen werden, von der gewünschten spezifischen Anwendung abhängt. Ein Bereich von ± 180 Grad wird gut bei zufällig gedrehten Teilen funktionieren und kleinere Bereiche können besser für Teile geeignet sein, die in Magazinen vorgelegt werden.
Ebenso versteht es sich, dass das Inkrement zwischen den Winkeln unterschiedlich sein kann. Das Inkrement von Winkeln (Winkelinkrement) bezeichnet die Differenz zwischen zwei angrenzenden Projektionen, beispielsweise θ₁ und θ₂. Das Winkelinkrement, wie es nachstehend genauer erläutert wird, wird je nach erforderlicher Genauigkeit der Winkelstellung variieren. Handelt es sich bei dem Mustererkennungssystem um die normalisierte Korrelation, sollte das Inkrement zwischen den Winkeln zwischen einem halben Grad und einem Grad betragen. Im Falle einer robusteren Mustererkennungstechnik, wie beispielsweise der Graustufen-Vektorkorrelation, kann jedoch ein höheres Inkrement, wie beispielsweise 2,5 Grad, bevorzugt werden.
Unter erneuter Bezugnahme auf die 1 werden die Projektionssummen bei 40 berechnet. Für jeden beliebigen Winkel wird die Projektionssumme auf die Weise gewonnen, die schematisch in 3 gezeigt ist. Die 3 zeigt ein Bild des Chips 11, in dem eine Reihe von Projektionssummenlinien 42 über das Bild erstreckt sind. Es versteht sich, dass das Bild irgendeines Objektes, einschließlich des Bildes des Chips, tatsächlich eine Ansammlung von Pixeln ist, wobei jedes Pixel eine Position und einen Wert hat. Die Projektionssummenlinien 42 spiegeln die Idee wider, dass die Pixelwerte für jede Pixelposition, die von irgendeiner einzelnen Linie 42 abgedeckt wird, addiert werden. Die addierten Werte für jede Linie sind dargestellt durch W₁ bis W_N in 3 (bezeichnet mit 44). In dem bevorzugten Ausführungsbeispiel ist jede Projektionssummenlinie 42 ein Pixel breit.
Da die Projektionssummenlinien 42 in einem Winkel relativ zu den Pixeln angeordnet sind, kann es sein, dass die Linie kein ganzes Pixel erfasst. Dies ist schematisch in 4 gezeigt. Unter Bezugnahme auf ein Musterpixel 45 ist beispielsweise ein von der Linie erfasster Abschnitt als 46 gezeigt und ein nicht erfasster Abschnitt als 48 gezeigt. Es versteht sich, dass die erfassten Abschnitte 46 gewichtet werden können, um die nicht erfassten Abschnitte 48 auszugleichen und dadurch eine genauere Summe bereitzustellen.
Die Winkel werden bei 50 inkrementiert, und Projektionssummen werden für alle Winkel θ₁ bis θ_N mit dem vorgegebenen Winkelinkrement berechnet. Wenn alle Winkel bei 60 abgehandelt wurden, endet der Lernprozess bei 62. Der Lernprozess der 1 erzeugt ein Projektionsbild, das schematisch in 5 gezeigt ist. Das Projektionsbild der 5 ist eine zweidimensionale Matrix aus Projektionssummen, wobei jede Reihe einen anderen Winkel darstellt.
Anhand der 6 bis 8 ist die Art und Weise gezeigt, in der die Winkelstellung des bekannten Objektes bestimmt wird. Der Vorgang des Feststellens der Winkelstellung beginnt bei 70. Bei 72 wird ein Bild eines bekannten Objektes oder in diesem Fall eines Chips 11' vorgelegt. Es versteht sich, dass der Chip 11' der gleiche Chip wie der Chip 11 sein soll, und das Bild des Chips 11' wird vorzugsweise unter den gleichen Bedingungen wie das Bild des Chips 11 aufgenommen. Das Objekt des Bildes bei 72 hat eine nicht bekannte Winkelstellung. Bei 74 wird eine Projektionssumme über das Bild des gleichen Objektes bei einem angenommenen Winkel berechnet, der vorzugsweise ein rechtwinkliger Winkel, d.h. ein perpendikulärer Winkel, ist. Die Berechnung der Projektionssumme bei einem rechtwinkligen Winkel ist schematisch in 7 gezeigt. Bei 76 wird die bei 74 gewonnene Projektionssumme mit der in 5 gezeigten zweidimensionalen Matrix korreliert. Der Winkel, der der Summenreihe entspricht, die mit der Projektionssumme am besten korreliert, wird bei 78 berechnet.
Wie dies in 6 gezeigt ist, versteht es sich, dass sobald die Stellung ermittelt wurde, der Vorgang abgeschlossen sein kann. Wie in 8 gezeigt, kann jedoch die Stellung bei 80 an ein Mustererkennungssystem, wie z.B. normalisierte Korrelation oder Graustufen-Vektorkorrelation, übermittelt werden. Derartige Musterer kennungssysteme können dann eingestellt werden, um die Stellung des Objektes zu ermitteln.
Ist der Bereich von Winkeln größer als ± 90 Grad, sorgt die vorliegende Erfindung für das Ausschließen von jeglichen Mehrdeutigkeiten, die im Zusammenhang mit der Korrelation der Projektionssumme mit der zweidimensionalen Matrix der 5 auftreten. Diese Mehrdeutigkeiten können das Ergebnis einer Symmetrie innerhalb des Teils sein. In solchen Fällen kann es notwendig sein, eine weitere Summenprojektion bei 74 durchzuführen, mit einem Winkel außerhalb des Winkelbereichs, und zwei verschiedene Projektionssummen mit der zweidimensionalen Matrix der 5 zu korrelieren.
In 9 ist ein System zur maschinellen visuellen Erfassung 82 gezeigt. Das visuelle Erfassungssystem 82 enthält eine Kamera 84 und eine geeignete Beleuchtung 86. Die Kamera 84 und die Beleuchtung 86 sind betriebsfähig mit einer Verarbeitungseinheit 88 verbunden, die ein computerlesbares Medium 90 enthält, das so konfiguriert ist, dass es die Winkelstellung eines Objektes bestimmt. In dem vorliegenden Beispiel ist das Objekt ein Chip 11', der zum Sichtfeld der Kamera 84 positioniert ist.
Während die Erfindung im Zusammenhang damit beschrieben wurde, was derzeit als das praktikabelste und bevorzugteste Ausführungsbeispiel gehalten wird, versteht es sich, dass die Erfindung nicht auf die offenbarten Ausführungsbeispiele beschränkt sein soll. Es versteht sich beispielsweise, dass die Projektionssumme bei jedem angenommenen Winkel gebildet und mit der zweidimensionalen Matrix der 5 korreliert werden könnte. Der perpendikuläre Winkel wurde gewählt, um einen einfacheren Prozess vorzusehen. Wenn ein anderer angenommener Winkel als 90 Grad angewendet wird, kann eine zusätzliche Berechnung genutzt werden. Die fertige Anmeldung soll verschiedene Modifizierungen und äquivalente Anordnungen abdecken, die im Erfindungsgedanken und im Schutzumfang der beigefügten Ansprüche enthalten sind, wobei diesem Schutzumfang die weiteste Auslegung zuerkannt werden soll, um alle derartige Modifizierungen und äquivalenten Strukturen, wie sie unter dem Gesetz zugelassen sind, zu umfassen.
ZUSAMMENFASSUNG
Die vorliegende Erfindung ist betriebsfähig, die Winkelstellung eines angenommenen Objektes zu bestimmen. Eine Reihe von Projektionssummen wird aus einem Musterbild des bekannten Objektes berechnet, in dem das bekannte Objekt eine angenommene Stellung hat. Die Projektionssummen werden für einen Bereich von Winkeln berechnet und in einer zweidimensionalen Matrix organisiert, die als Projektionsbild bezeichnet wird. Ein Bild des bekannten Objektes wird vorgesehen, in dem das bekannte Objekt eine nicht bekannte Stellung hat. Eine Projektionssumme wird über das Bild des bekannten Objektes berechnet, wobei die nicht bekannte Stellung vorzugsweise aus der Senkrechten ist. Diese Projektionssumme wird mit dem Projektionsbild korreliert, und der Winkel, der der besten Korrelation entspricht, wird als die Winkelstellung des bekannten Objektes bestimmt.

Claims

Verfahren zum Berechnen einer Winkelstellung eines angenommen Objektes, umfassend: Bereitstellen eines Musterbildes des bekannten Objektes, das eine angenommene Stellung hat, Berechnen einer Reihe von Projektionssummen über das Musterbild für einen Bereich von Winkeln und Organisieren der Projektionssummen in einer zweidimensionalen Matrix basierend auf dem Winkel, bei dem die Projektionssumme berechnet wurde, Bereitstellen eines ersten Bildes des bekannten Objektes, wobei die in dem ersten Bild gezeigte Winkelstellung des bekannten Objektes nicht bekannt ist, Berechnen einer Projektionssumme über das erste Bild bei einem angenommenen Winkel, und Vergleichen der Projektionssumme über das erste Bild mit der zweidimensionalen Matrix und Auswählen des Winkels, dessen Projektionssumme der Projektionssumme des ersten Bildes am nächsten kommt.
Verfahren nach Anspruch 1, ferner umfassend: Übermitteln des Winkels, dessen Projektionssumme der Projektionssumme des ersten Bildes am nächsten kommt, an ein Erkennungssystem.
Verfahren nach Anspruch 2, wobei der bekannte Winkel perpendikulär ist.
Verfahren nach Anspruch 3, wobei die Projektionssummen, die aus dem Musterbild berechnet werden, für den Bereich von Winkeln berechnet werden, wobei die Winkel um ungefähr 2,5 Grad inkrementiert werden.
Verfahren nach Anspruch 4, wobei das Erkennungssystem eine Graustufen-Vektorkorrelation ist.
Verfahren nach Anspruch 3, wobei der Bereich von Winkeln zwischen positiven 45 Grad und negativen 45 Grad liegt.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei es sich beim Vergleich der Projektionssumme über das erste Bild mit der zweidimensionalen Matrix um NK (normalisierte Korrelation) handelt.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei das bekannte Objekt ein Halbleiterchip ist.
Computerlesbares Medium zur Verwendung in einem System zur maschinellen visuellen Erfassung, wobei das computerlesbare Medium so konfiguriert ist, dass es die Winkelstellung eines bekannten Objektes bestimmt, umfassend: Mittel zum Berechnen einer Reihe von Projektionssummen über ein Musterbild des bekannten Objektes für einen Bereich von Winkeln, wobei das Musterbild des bekannten Objektes eine angenommene Winkelstellung hat, Mittel zum Organisieren der Projektionssummen in einer zweidimensionalen Matrix basierend auf dem Winkel, bei dem die Projektionssumme berechnet wurde, Mittel zum Berechnen einer Projektionssumme über ein erstes Bild des bekannten Objektes, wobei das bekannte Objekt eine nicht bekannte Winkelstellung hat und wobei die Projektionssumme bei einem angenommenen Winkel berechnet wird, Mittel zum Vergleichen der Projektionssumme über das erste Bild mit der zweidimensionalen Matrix, und Mittel zum Auswählen des Winkels, dessen Projektionssumme der Projektionssumme des ersten Bildes am nächsten kommt.
Computerlesbares Medium nach Anspruch 9, ferner umfassend Mittel zum Übermitteln der Winkelstellung an ein Mustererkennungssystem.
Computerlesbares Medium nach Anspruch 10, wobei der angenommene Winkel perpendikulär ist.
Computerlesbares Medium nach Anspruch 11, wobei die Projektionssummen für den Bereich von Winkeln für Winkelinkremente von ungefähr 1 Grad berechnet werden.
Computerlesbares Medium nach Anspruch 12, wobei der Bereich von Winkeln ± 180 Grad ist.