DE10227826A1 - Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines LCD - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines LCD

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Abstract

Eine Vorrichtung zum Herstellen eines LCD ist mit Folgendem versehen: DOLLAR A - einer eine Einheit bildenden Vakuumverarbeitungskammer (110) mit einem Substrateinlass (111); DOLLAR A - einem Ladeteil (300) zum Laden eines ersten und eines zweiten Substrats (510, 520) durch den Substrateinlass, wobei auf eines der beiden Substrate ein Flüssigkristallmaterial aufgebracht ist; DOLLAR A - einem oberen und einem unteren Tisch (121, 122), die innerhalb der Vakuumverarbeitungskammer angebracht sind, um daran das erste bzw. zweite Substrat zu befestigen; DOLLAR A - einem Tischverstellsystem zum Sorgen für eine Relativbewegung zwischen dem oberen und dem unteren Tisch; und DOLLAR A - einem Vakuumerzeugungssystem (200) zum Evakuieren des Inneren der Vakuumverarbeitungskammer.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren, die zum Herstellen eines LCD (Liquid Crystal Display = Flüssigkristalldisplay) mit großen Abmessungen geeignet sind.
  • Jüngere Entwicklungen auf dem Gebiet der Informationskommunikation haben die Nachfrage nach verschiedenen Arten von Displays erhöht. Auf diese Nachfrage hin wurden verschiedene Flachdisplay, wie LCDs, Plasmadisplaytafeln (PDPs), Elektrolumineszenzdisplays (ELDs) und Vakuumfluoreszenzdisplays (VFDs) entwickelt, um die herkömmliche Kathodenstrahlröhre (CRT) zu ersetzen. Insbesondere werden LCDs wegen ihrer hohen Auflösung, ihres geringen Gewichts, ihres flachen Profils und ihres niedrigen Energieverbrauchs verwendet. Außerdem wurden LCDs für Mobilgeräte, wie Monitore für Notebookcomputer, realisiert. Ferner wurden LCDs als Monitore für größere Computer und für Fernsehgeräte, um durch Funk übertragene Signale anzuzeigen, entwickelt.
  • Es ist jedoch schwierig, große LCDs mit geringem Gewicht, flachem Profil, niedrigem Energieverbrauch und guter Bildqualität, insbesondere hoher Auflösung, herzustellen.
  • Auf dem ersten Glassubstrat (TFT-Arraysubstrat) ist eine Vielzahl von Gateleitungen entlang einer Richtung mit festem Intervall angeordnet, und entlang einer zweiten Richtung, die rechtwinklig zur ersten Richtung verläuft, ist eine Vielzahl von Datenleitungen angeordnet, wodurch eine Vielzahl von Pixelbereichen gebildet ist. Eine Vielzahl von Pixelelektroden ist mit Matrixanordnung in den Pixelbereichen ausgebildet, und in diesen ist auch eine Vielzahl von Dünnschichttransistoren (TFTs) ausgebildet. Diese Dünnschichttransistoren werden durch entlang den Gateleitungen übertragene Signale und entlang den Datenleitungen zu jeder Pixelelektrode übertragene Transfersignale geschaltet. Um Lichtstreuung zu verhindern, sind auf dem zweiten Glassubstrat (Farbfiltersubstrat) außer in den Bereichen desselben, die den Pixelbereichen des ersten Glassubstrats entsprechen, Schwarzmatrixfilme ausgebildet.
  • Nun wird ein Verfahren zum Herstellen eines LCD unter Verwendung eines TFT-Substrats und eines Farbfiltersubstrats unter Bezugnahme auf eine bekannte Herstellvorrichtung beschrieben.
  • Ein bekannter Prozess zum Herstellen eines LCD verfügt über die folgenden Schritte: Herstellen eines Abdichtmittelmusters auf dem ersten und zweiten Substrat, um dabei eine Einfüllöffnung auszubilden zum Verbinden des ersten und des zweiten Substrats miteinander innerhalb einer Vakuumverarbeitungskammer und Einfüllen von Flüssigkristallmaterial durch die Einfüllöffnung in der Vakuumverarbeitungskammer. Bei einem anderen bekannten Verfahren zum Herstellen eines LCD, einem Flüssigkristall-Auftropfverfahren, wie es in den japanischen Patentanmeldungen Nr. 11-089612 und 11-172903 offenbart ist, werden die folgenden Schritte ausgeführt: Auftropfen von Flüssigkristallmaterial auf ein erstes Substrat, Anbringen eines zweiten Substrats über dem ersten und Bewegen der beiden Substrate gegeneinander, um sie dadurch miteinander zu verbinden. Im Vergleich zum Flüssigkristall- Einfüllverfahren ist das Flüssigkristall-Auftropfverfahren dahingehend von Vorteil, dass verschiedene Schritte, wie die Herstellung einer Einfüllöffnung für Flüssigkristallmaterial, das Einfüllen des Flüssigkristallmaterials und das Abdichten der Einfüllöffnung überflüssig sind, da das Flüssigkristallmaterial vorab auf dem ersten Substrat angebracht wird.
  • Die Fig. 1 und 2 sind Schnittansichten einer Substratverbindungsvorrichtung unter Verwendung des bekannten Flüssigkristall-Auftropfverfahrens. Gemäß der Fig. 1 verfügt die Substratverbindungsvorrichtung über einen Rahmen 10, einen oberen Tisch 21, einen unteren Tisch 22, eine Abdichtmittel- Spendereinheit (nicht dargestellt), eine Flüssigkristallmaterial-Spendereinheit 30, eine Verarbeitungskammer mit einer oberen Kammereinheit 31 und einer unteren Kammereinheit 32, ein Kammerverstellsystem 40 und ein Tischverstellsystem 50. Das Kammerverstellsystem 40 verfügt über einen Antriebsmotor, der so angesteuert wird, dass er die untere Kammereinheit 32 an einen Ort verstellt, an dem der Verbindungsprozess ausgeführt wird, oder an einen Ort, an dem das Ausfließen des Abdichtmittels und das Auftropfen des Flüssigkristallmaterials erfolgen. Das Tischverstellsystem 50 verfügt über einen anderen Antriebsmotor, der so angesteuert wird, dass er den oberen Tisch 21 entlang der vertikalen Richtung, rechtwinklig zum oberen und unteren Tisch 21, 22, verstellt.
  • Es folgt die Beschreibung eines Verfahrens zum Herstellen eines LCD unter Verwendung dieser bekannten Substratverbindungsvorrichtung. Gemäß der Fig. 1 wird als Erstes ein zweites Substrat 52 auf dem oberen Tisch 21 platziert, und ein erstes Substrat 51 wird auf dem unteren Tisch 22 platziert. Dann wird die untere Kammereinheit 32 mit dem unteren Tisch 22 durch das Kammerverstellsystem 40 zu einem Verarbeitungsort (S1) verstellt, um Abdichtmittel und Flüssigkristallmaterial auszugeben. Gemäß der Fig. 2 wird anschließend die untere Kammereinheit 32 durch das Kammerverstellsystem 40 an einen Verarbeitungsort (S2) für den Substratverbindungsvorgang verstellt. Danach werden die obere und die untere Kammereinheit 31 und 32 durch das Kammerverstellsystem 40 so zusammengesetzt, dass sich eine vakuumdichte Abdichtung ergibt, und der Druck in der Kammer wird durch ein Vakuumerzeugungssystem (nicht dargestellt) abgesenkt. Wenn einmal ausreichender Unterdruck erzielt ist, wird der obere Tisch 21 durch das Tischverstellsystem 50 nach unten verstellt, um das zweite Substrat 52 fest am ersten Substrat 51 anzubringen, und durch kontinuierliche Druckausübung durch die Kammer wird die Herstellung des LCD abgeschlossen.
  • Unglücklicherweise weist diese bekannte Substratverbindungsvorrichtung Nachteile auf. Erstens gelingt es ihr nicht, Abdichtmittel und Flüssigkristallmaterial auf ein Substrat aufzubringen, auf dem Dünnschichttransistoren und ein Farbfilter ausgebildet sind. Zweitens erlaubt die Gesamtgröße der Vorrichtung keine andere Verarbeitung, was es erschwert, ein Layout für einen Gesamtherstellprozess für ein LCD zu konzipieren. Drittens ist wegen der mehreren Prozesse unter Verwendung der unteren Kammereinheit viel Verarbeitungszeit erforderlich, so dass die Gesamtproduktivität abnimmt. Beim Stand der Technik führt die zum Aufbringen des Abdichtmittels auf das erste Substrat, zum Aufbringen des Flüssigkristallmaterials auf das zweite Substrat und zum Verbinden der beiden Substrate miteinander erforderliche Zeit zu erheblichen Zeiträumen, bei denen alle Herstellprozesse aufeinanderfolgend ausgeführt und abgeschlossen werden. Viertens tritt, wenn zwischen der oberen und der unteren Kammereinheit keine vakuumdichte Verbindung hergestellt werden kann, zwischen diesen Einheiten ein Luftfluss auf, was dann zu schlechter Verbindung zwischen den beiden Substraten führt. Demgemäß sind zusätzliche Komponenten erforderlich, die für vakuumdichte Abdichtung zwischen der oberen und der unteren Kammereinheit sorgen. Schließlich ist die Ausrichtung der beiden Substrate während des Verbindungsvorgangs wegen einer Horizontalverstellung der unteren Kammereinheit schwierig, wodurch ebenfalls die Gesamtverarbeitungszeit zunimmt.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Herstellen eines großen LCD zu schaffen, bei denen für jeden Tisch zur Ausrichtung der Substrate bestimmte Verstellbereiche und -richtungen zur Verfügung stehen.
  • Diese Aufgabe ist hinsichtlich der Vorrichtung durch die Lehre des beigefügten Anspruchs 1 und hinsichtlich des Verfahrens durch die Lehre des beigefügten Anspruchs 10 gelöst.
  • Aufgaben, Merkmale und Vorteile der Erfindung werden in der folgenden Beschreibung anhand von Ausführungsformen dargelegt, oder sie werden daraus oder beim Realisieren der Erfindung erkennbar.
  • Die Erfindung wird nachfolgend anhand von durch Figuren veranschaulichten Ausführungsformen näher beschrieben.
  • Fig. 1 zeigt eine Schnittansicht einer bekannten Substratverbindungsvorrichtung vor dem dichten Verbinden einer oberen und einer unteren Kammereinheit;
  • Fig. 2 zeigt eine Schnittansicht der bekannten Substratverbindungsvorrichtung während des Substratverbindungsvorgangs;
  • Fig. 3 zeigt eine beispielhafte erfindungsgemäße Vorrichtung zum Herstellen eines LCD während eines Ladeprozesses;
  • Fig. 4 zeigt die beispielhafte erfindungsgemäße Vorrichtung während eines Vakuumprozesses;
  • Fig. 5 zeigt die beispielhafte, erfindungsgemäße Vorrichtung während eines Substratort-Ausrichtprozesses;
  • Fig. 6 zeigt die beispielhafte, erfindungsgemäße Vorrichtung während eines Verbindungsprozesses für die Substrate;
  • Fig. 7 zeigt die beispielhafte, erfindungsgemäße Vorrichtung während eines weiteren Verbindungsprozesses; und
  • Fig. 8 zeigt die beispielhafte, erfindungsgemäße Vorrichtung während eines Entladeprozesses.
  • Die Vorrichtung gemäß der Fig. 3 verfügt über eine Vakuumverarbeitungskammer 110, einen oberen Tisch 121, einen unteren Tisch 122, eine Verstellachse 131 für den oberen Tisch, eine Rotationsachse 132 für den unteren Tisch, einen Antriebsmotor 133 für den oberen Tisch, einen Antriebsmotor 134 für den unteren Tisch, ein Vakuumerzeugungssystem 200 und einen Ladeteil 300.
  • Die Vakuumverarbeitungskammer 110 kann durch einen Luftauslass 112 über ein Luftauslassventil 112a zum Absenken des Drucks im Inneren der Vakuumverarbeitungskammer 110 mit dem Vakuumerzeugungssystem 200 verbunden sein. Die Vakuumverarbeitungskammer kann über ein Belüftungsventil 113 zum Erhöhen des Drucks in ihrem Inneren durch Einlassen von Luft oder einem anderen Gas durch ein Belüftungsventil 113a verfügen. Weiterhin weist die Vakuumverarbeitungskammer einen Einlass 111 zum Eingeben und Entnehmen eines ersten Substrats 510 und eines zweiten Substrats 520 durch den Ladeteil 300 auf.
  • Der obere und der untere Tisch 121, 122 können im oberen bzw. unteren Teil der Vakuumverarbeitungskammer 110 vorhanden sein. Sie verfügen über eine elektrostatische Spanneinrichtung (ESC = Electrostatic Chuck) 121a, 122a, die an einander zugewandten Flächen des oberen bzw. unteren Tischs 121, 122 angebracht sind. Demgemäß ist das Substrat 520 durch die obere elektrostatische Spanneinrichtung 121a elektrostatisch am oberen Tisch 121 befestigt, und das Substrat 510 ist durch die untere elektrostatische Spanneinrichtung 122a elektrostatisch am unteren Tisch 122 befestigt. Außerdem kann der obere Tisch 121 mit einer Anzahl von durch ihn hindurch ausgebildeten Vakuumöffnungen 121b versehen sein, um durch Erzeugen von Unterdruck innerhalb dieser Öffnungen das Substrat 520 an den oberen Tisch 121 anzuziehen. Die obere und die untere elektrostatische Spanneinrichtung 121a und 122a können mit mindestens einem Paar elektrostatischer Platten mit verschiedenen Polaritäten versehen sein, um über serielle Kraft mit verschiedenen Polaritäten zu sorgen. Alternativ können die obere und die untere elektrostatische Spanneinrichtung 121a, 122a mit elektrostatischen Platten versehen sein, die gleichzeitig über die zwei gleichen Polaritäten verfügen.
  • Die mehreren Vakuumöffnungen 121b können im zentralen Abschnitt und entlang dem Umfang der oberen elektrostatischen Spanneinrichtung 121a ausgebildet sein, und sie können mit einer einzelnen oder mehreren Leitungen 121c verbunden sein, um die Unterdruckkraft zu übertragen, wie sie durch eine mit dem oberen Tisch 121 verbundene Vakuumpumpe 123 erzeugt wird. Die obere elektrostatische Spanneinrichtung 121a und die mehreren Vakuumöffnungen 121b können zwar mit einer ähnlichen Form wie der des oberen Tischs 121 ausgebildet sein, jedoch kann es bevorzugt sein, dieselben auf Grundlage der Geometrie des Substrats 520 oder der Geometrie des Bereichs, auf den Flüssigkristallmaterial aufgebracht wird, auszubilden.
  • Die Verstellachse 131 für den oberen Tisch treibt den oberen Tisch 121 an, und die Rotationsachse 132 für den unteren Tisch treibt den unteren Tisch 122 an, und die Antriebsmotoren 133 und 134 für den oberen und den unteren Tisch treiben diese Tische 121 bzw. 122 an der Innen- bzw. Außenseite der Vakuumverarbeitungskammer 110 an. Es kann ein Antriebssystem 135 zum Antreiben des unteren Tischs 122 während eines Ausrichtprozesses zum Ausrichten des ersten und zweiten Substrats 510, 520 vorhanden sein.
  • Das Vakuumerzeugungssystem 200 kann eine Saugkraft übertragen, um innerhalb der Vakuumverarbeitungskammer 110 einen Vakuumzustand zu erzeugen, und es kann über eine Saugpumpe verfügen, die so angetrieben wird, dass sie eine übliche Vakuumkraft erzeugt. Außerdem kann das Vakuumerzeugungssystem 200 mit dem Luftauslass 112 der Vakuumverarbeitungskammer 110 verbunden sein.
  • Der Ladeteil 300 kann eine mechanische Vorrichtung sein, die von der Vakuumverarbeitungskammer 110 getrennt ist, und er kann an der Außenseite der Vakuumverarbeitungskammer 110 vorhanden sein. Der Ladeteil 300 kann eines der Substrate 510, 520, auf das zumindest das Flüssigkristallmaterial aufgebracht ist, aufnehmen. Außerdem kann das erste Substrat 510 sowohl das Flüssigkristallmaterial als auch das Abdichtmittel tragen. Darüber hinaus kann das erste Substrat 510 entweder ein TFT-Arraysubstrat oder ein Farbfilter(C/F-)substrat sein, wobei dann das zweite Substrat 520 das andere dieser Substrate ist. Der Ladeteil 300 kann die beiden Substrate 510, 520 selektiv in die Vakuumverarbeitungskammer 110 laden. Der Ladeteil 300 kann über einen ersten Arm 310 zum Halten des ersten Substrats 510 mit dem darauf aufgebrachten Flüssigkristallmaterial sowie einen zweiten Arm 320 zum Halten des zweiten Substrats 520 verfügen. Während des Ladens der beiden Substrate 510, 520 kann der erste Arm 310 über dem zweiten Arm 320 platziert werden.
  • Ferner kann ein Ausrichtungssystem 600 vorhanden sein, um den Ausrichtungszustand der beiden Substrate 510, 520 klarzustellen. Das Ausrichtungssystem 600 kann an der Innen- und/oder Außenseite der Vakuumverarbeitungskammer 110 vorhanden sein. Da die Bewegung des unteren Tischs 122 beschränkt werden kann, kann der Ausrichtungszustand zwischen den beiden Substraten 510, 520 genau und schnell erzielt werden.
  • Nachfolgend wird ein Verbindungsprozess für die beiden Substrate 510, 520 unter Verwendung der Vorrichtung zum Herstellen eines LCD gemäß dem Ausführungsbeispiel der Erfindung beschrieben.
  • Gemäß der Fig. 3 erhält der Ladeteil 300 entweder das erste Substrat 510 oder das zweite Substrat 520, nämlich dasjenige, auf das zumindest das Flüssigkristallmaterial aufgebracht ist und das vom ersten Arm 310 gehalten wird, und er erhält das andere dieser Substrate mit dem zweiten Arm 320. Der zweite Arm 320 lädt das Substrat 520 auf die Unterseite des oberen Tischs 121, und der erste Arm 310 lädt das Substrat 510, auf dem zumindest das Flüssigkristallmaterial vorhanden ist, auf die Oberseite des unteren Tischs 122. Das Substrat 520 kann auf die Unterseite des oberen Tischs 121 geladen werden, bevor das andere Substrat 510 mit dem darauf vorhandenen Flüssigkristallmaterial geladen wird, um zu verhindern, dass irgendwelche Teilchen auf das Substrat 510 fallen. Während des Ladeprozesses für das Substrat 510 können Teilchen auf dieses und damit das darauf vorhandene Flüssigkristallmaterial fallen.
  • Der zweite Arm 320 transportiert das Substrat 520 unter den oberen Tisch, und dann wird eine Vakuumpumpe 123 aktiviert, um in jedem der Anzahl von Vakuumöffnungen 121b im oberen Tisch 121 eine Vakuumkraft zu erzeugen. Der erste Arm 310 transportiert das Substrat 510 über den unteren Tisch 122, wobei das Substrat 520 mittels des zweiten Arms 320 am oberen Tisch 121 befestigt ist, und es wird eine Vakuumpumpe (nicht dargestellt) aktiviert, um in jedem der Anzahl von Vakuumöffnungen (nicht dargestellt) im unteren Tisch 122 eine Vakuumkraft zu erzeugen, um das Substrat 510 vom ersten Arm 310 an den unteren Tisch 122 zu ziehen.
  • Nachdem der Ladevorgang der Substrate 510, 520 abgeschlossen ist, wird die am Einlass 111 der Vakuumverarbeitungskammer vorhandene Verschlusstür 114 aktiviert, um dadurch diesen Einlass 111 zu verschließen.
  • Die Fig. 4 zeigt eine beispielhafte erfindungsgemäße Vorrichtung zum Herstellen eines LCD während eines Vakuumprozesses. Gemäß der Fig. 4 wird das Vakuumerzeugungssystem 200 aktiviert, und es wird das Luftauslassventil 112a geöffnet, um dadurch das Innere der Vakuumverarbeitungskammer 110 zu evakuieren. Wenn dieses Innere einmal auf den gewünschten Druck evakuiert ist, kann das Vakuumerzeugungssystem 200 deaktiviert werden, und das Luftauslassventil 112a kann geschlossen werden. Dann kann Spannung an die obere und die untere elektrostatische Spanneinrichtung 121a, 122a angelegt werden, um dadurch die beiden Substrate 510, 520 durch eine elektrostatische Kraft am oberen und am unteren Tisch 121, 122 zu befestigen.
  • Die Fig. 5 zeigt die beispielhafte erfindungsgemäße Vorrichtung während eines Substratort-Ausrichtprozesses. Gemäß der Fig. 5 verstellt der Antriebsmotor 133 für den oberen Tisch diesen oberen Tisch 121 in solcher Weise zum unteren Tisch 122, dass er benachbart zu diesem platziert ist. Dann klärt das Ausrichtungssystem 600 den Ausrichtungszustand der beiden Substrate 510, 520 dahingehend, ob sie am oberen bzw. unteren Tisch 121, 122 angebracht sind. Das Ausrichtungssystem 600 überträgt ein Steuersignal an die Verstellachse 131 für den oberen Tisch und die Rotationsachse 132 für den unteren Tisch, um dadurch die beiden Substrate 510, 520 zueinander auszurichten.
  • Die Fig. 6 zeigt die beispielhafte erfindungsgemäße Vorrichtung während eines Verbindungsprozesses für die Substrate. Gemäß der Fig. 6 wird die Verstellachse 131 für den oberen Tisch auf ein vom Ausrichtungssystem 600 empfangenes Ansteuersignal angetrieben, und es wird ein erster Verbindungsprozess zum Verbinden der beiden Substrate 510, 520 ausgeführt. Jedoch müssen die beiden Substrate 510, 520 durch den ersten Verbindungsprozess nicht vollständig verbunden werden. Der erste Verbindungsprozess verbindet die beiden Substrate 510, 520 in lockerer Weise dergestalt, dass zwischen sie keine Luft eindringt, wenn der Druck in der Vakuumverarbeitungskammer bis auf den Atmosphärendruck erhöht wird.
  • Die Fig. 7 zeigt die beispielhafte erfindungsgemäße Vorrichtung während eines weiteren Verbindungsprozesses. Gemäß der Fig. 7 wird das Belüftungsventil 113a aktiviert, damit der Druck im Inneren der Vakuumverarbeitungskammer 110 den Atmosphärendruck erreichen kann. Demgemäß werden die verbundenen Substrate durch die Druckdifferenz zwischen dem evakuierten Inneren zwischen den verbundenen Substraten und dem Atmosphärendruck in der Vakuumverarbeitungskammer 110 weiter zusammengedrückt.
  • Demgemäß wird ein vollständigerer Verbindungsprozess ausgeführt, und wenn dieser abgeschlossen ist, wird die Verschlusstür 114 der Vakuumverarbeitungskammer 110 betrieben, damit der durch sie verschlossene Einlass 111 geöffnet wird.
  • Die Fig. 8 zeigt die beispielhafte erfindungsgemäße Vorrichtung während eines Entladeprozesses. Bei diesem werden die verbundenen Substrate durch den zweiten Arm 320 des Ladeteils 300 entladen.

Claims (18)

1. Vorrichtung zum Herstellen eines LCD, mit:
einer eine Einheit bildenden Vakuumverarbeitungskammer (110) mit einem Substrateinlass (111);
einem Ladeteil (300) zum Laden eines ersten und eines zweiten Substrats (510, 520) durch den Substrateinlass, wobei auf eines der beiden Substrate ein Flüssigkristallmaterial aufgebracht ist;
einem oberen und einem unteren Tisch (121, 122), die innerhalb der Vakuumverarbeitungskammer angebracht sind, um daran das erste bzw. zweite Substrat zu befestigen;
einem Tischverstellsystem zum Sorgen für eine Relativbewegung zwischen dem oberen und dem unteren Tisch; und
einem Vakuumerzeugungssystem (200) zum Evakuieren des Inneren der Vakuumverarbeitungskammer.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Vakuumverarbeitungskammer (110) über einen mit dem Vakuumerzeugungssystem (200) verbundenen Luftauslass (112) und eine Belüftungsleitung (113) zum Einlassen von Luft oder anderer Gase verfügt.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass an entgegengesetzten Flächen des oberen und des unteren Tischs (121, 122) zumindest eine elektrostatische Spanneinrichtung (121a, 122a) und eine Anzahl von Vakuumöffnungen (121b) vorhanden ist, um die beiden Substrate (510, 520) zu befestigen.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine der elektrostatischen Spanneinrichtungen (121a, 122a) mit mindestens einem Paar elektrostatischer Platten versehen ist.
5. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Anzahl von Vakuumöffnungen (121b) entlang dem Umfang der mindestens einen elektrostatischen Spanneinrichtung (121a, 122a) ausgebildet ist.
6. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Tischverstellsystem über eine zwischen den oberen Tisch (121) und einen Antriebsmotor (133), der außerhalb der Vakuumverarbeitungskammer (110) vorhanden ist, um den oberen Tisch zu verstellen, geschaltete Verstellachse (131) und eine Rotationsachse (132) aufweist, die am unteren Tisch (122) vorhanden ist, um diesen um eine zentrale Achse zu drehen.
7. Vorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch ein Ausrichtungssystem (600), das außerhalb oder innerhalb der Vakuumverarbeitungskammer (110) vorhanden ist, um den Ausrichtungszustand zwischen den beiden Substraten (510, 520) zu klären.
8. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Ladeteil (300) über einen ersten Arm (310) zum Laden desjenigen der beiden Substrate (510, 520), auf dem das Flüssigkristallmaterial vorhanden ist, auf den unteren Tisch (122) zu laden, und einen zweiten Arm (320) zum Laden des anderen der beiden Substrate auf den oberen Tisch (121) verfügt.
9. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Ladeteil (300) einen ersten Arm (310) zum Laden des ersten Substrats (510), auf dem das Flüssigkristallmaterial und ein Abdichtmittel vorhanden sind, auf den unteren Tisch (122) sowie einen zweiten Arm (320) zum Laden des zweiten Substrats (520) auf den oberen Tisch (121) aufweist.
10. Verfahren zum Herstellen eines LCD mit den folgenden Schritten:
- Laden eines ersten und eines zweiten Substrats (510, 520) durch einen Substrateinlass (111), einer eine Einheit bildenden Vakuumverarbeitungskammer (110), von denen eines ein Flüssigkristallmaterial trägt;
- Sorgen für eine Relativbewegung zwischen dem oberen und dem unteren Tisch;
- Evakuieren des Inneren der Vakuumverarbeitungskammer und
- Verbinden des ersten und des zweiten Substrats, wobei das Flüssigkristallmaterial dazwischen angeordnet ist.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass der Schritt des Ladens der beiden Substrate (510, 520) die folgenden Teilschritte umfasst:
- Transportieren des zweiten Substrats (520);
- Befestigen des zweiten Substrats am oberen Tisch (121);
- Transportieren des ersten Substrats (510) mit darauf aufgebrachtem Flüssigkristallmaterial und
- Befestigen des ersten Substrats am unteren Tisch (122).
12. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass es zum Schritt des Ladens der beiden Substrats (510, 520) gehört, mindestens eine elektrostatische Spanneinrichtung (121a, 122a) zu aktivieren oder an eine Anzahl von Vakuumöffnungen (121b) an den einander gegenüber stehenden Flächen des oberen und des unteren Tischs (121, 122) ein Vakuum anzulegen.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass es zum Aktivieren mindestens einer elektrostatischen Spanneinrichtung (121a, 122a) gehört, zumindest ein Paar elektrostatischer Platten mit Energie zu versorgen.
14. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Anzahl von Vakuumöffnungen (121b) entlang dem Umfang der mindestens einen elektrostatischen Spanneinrichtung (121a) ausgebildet ist.
15. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass es zum Schritt des Sorgens für eine Relativbewegung gehört, dass der obere Tisch (121) durch einen außerhalb der Vakuumverarbeitungskammer (110) vorhandenen Antriebsmotor (133) angetrieben wird und der untere Tisch (122) gedreht wird.
16. Verfahren nach Anspruch 10, gekennzeichnet durch den Schritt des Klärens des Ausrichtungszustands zwischen den beiden Substraten (510, 520) durch ein Ausrichtsystem (600), das außerhalb oder innerhalb der Vakuumverarbeitungskammer (110) vorhanden ist, bevor der Schritt des Verbindens der beiden Substrate ausgeführt wird.
17. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass es zum Schritt des Ladens der beiden Substrate (510, 520) gehört, eines der beiden Substrate durch einen zweiten Arm (320) auf den oberen Tisch (121) zu laden und das andere der beiden, auf dem das Flüssigkristallmaterial vorhanden ist, durch einen ersten Arm (310) auf den unteren Tisch (122) zu laden.
18. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass es zum Schritt des Ladens der beiden Substrate (510, 520) gehört, das zweite Substrat (520) durch einen zweiten Arm (320) auf den oberen Tisch (121) zu laden und das erste Substrat (510), auf dem das Flüssigkristallmaterial und ein Abdichtmittel vorhanden sind, durch einen ersten Arm (310) auf den unteren Tisch (122) zu laden.
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