DE102010017082A1 - Device and method for loading and unloading, in particular a coating device - Google Patents

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Abstract

Vorrichtung zum Be- und Entladen der in um eine Drehachse eines Substrathalters (1) angeordneten Lagertaschen (4) einliegenden, jeweils ein oder mehrere Substrate (3) tragenden Ladeplatten (2) einer Substratbehandlungseinrichtung, insbesondere einer Prozesskammer eines CVD-Reaktors mit einem Greifer (9), der von einem Positionierantrieb (13) verlagerbar ist, um in einer Entnahmeposition eine durch Drehen des Substrathalters (1) in eine Ladeplattenwechselstellung gebrachte Ladeplatte (2) aus der Lagertasche (4) zu entnehmen und anschließend in einer Beladeposition eine andere Ladeplatte (2) dort abzusetzen, und mit einer Zwischenablage, einem Magazin oder dergleichen zur Aufbewahrung mit beschichteten oder unbeschichteten Substraten versehener Ladeplatten (2), gekennzeichnet durch Lagebestimmungsmittel (16, 17, 18, 19, 20, 21, 22) zur Bestimmung der Relativlagen aus der Lagertasche (4) entnommenen und einer in die Lagertasche (4) abzusetzenden Ladeplatte (2) gegenüber dem Greifer (9), und eine Recheneinrichtung (27) zur Ermittlung der Abweichung der beiden Relativlagen voneinander und zur Berechnung der Beladestellung aus der ermittelten Abweichung.Device for loading and unloading the loading plates (2) of a substrate treatment device, in particular a process chamber of a CVD reactor with a gripper, which are arranged in storage pockets (4) arranged around an axis of rotation of a substrate holder (1) and each carry one or more substrates (3). 9), which can be displaced by a positioning drive (13) in order to remove a loading plate (2) brought into a loading plate change position by rotating the substrate holder (1) from the storage pocket (4) in a removal position and then another loading plate () in a loading position ( 2) to be deposited there, and with a clipboard, a magazine or the like for storage with coated or uncoated substrates loading plates (2), characterized by position determining means (16, 17, 18, 19, 20, 21, 22) for determining the relative positions removed from the storage pocket (4) and a loading plate (2) to be placed in the storage pocket (4) opposite the gripper (9), u nd a computing device (27) for determining the deviation of the two relative positions from one another and for calculating the loading position from the determined deviation.

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Be- und Entladen der in um eine Drehachse eines Substrathalters angeordneten Lagertaschen einliegenden, jeweils ein oder mehrere Substrate tragenden Ladeplatten einer Substratbehandlungseinrichtung, insbesondere einer Prozesskammer eines CVD-Reaktors mit einem Greifer, der von einem Positionierantrieb verlagerbar ist, um in einer Entnahmeposition eine durch Drehen des Substrathalters in eine Ladeplattenwechselstellung gebrachte Ladeplatte aus der Lagertasche zu entnehmen und anschließend in einer Beladeposition eine andere Ladeplatte dort abzusetzen, und mit einer Zwischenablage, einem Magazin oder dergleichen zur Aufbewahrung mit beschichteten oder unbeschichteten Substraten versehener Ladeplatten.The invention relates to a device for loading and unloading in about a rotational axis of a substrate holder arranged bearing pockets, each one or more substrates supporting pallets of a substrate treatment device, in particular a process chamber of a CVD reactor with a gripper, which is displaced by a positioning, to to remove in a removal position brought by turning the substrate holder in a pallet changing position loading plate from the storage bag and then set off in a loading another loading plate there, and with a clipboard, a magazine or the like for storage with coated or uncoated substrates versehener pallets.

Die Erfindung betrifft darüber hinaus ein Verfahren zum Be- und Entladen der in um eine Drehachse eines Substrathalters angeordneten Lagertaschen einliegenden, jeweils ein oder mehrere Substrate tragenden Ladeplatten einer Substratbehandlungeinrichtung, insbesondere einer Prozesskammer eines CVD-Reaktors mittels eines Greifers, der von einem Positionierantrieb in eine Entnahmeposition verlagert wird, und dort aus einer durch Drehen des Substrathalters in eine Ladeplattenwechselstellung gebrachten Lagertasche eine Ladeplatte entnimmt, die Ladeplatte an einem anderen Ort, insbesondere in einem Magazin absetzt und von einem anderen Ort, insbesondere einem Magazin eine andere Ladeplatte aufnimmt und von dem Positionierantrieb in eine Beladeposition gebracht wird und dort die Ladeplatte in die Lagertasche absetzt.The invention further relates to a method for loading and unloading the arranged in a rotational axis of a substrate holder bearing pockets, each one or more substrates carrying pallets of a substrate treatment device, in particular a process chamber of a CVD reactor by means of a gripper, of a positioning drive in a Removed removal position, and there removes a pallet from a brought by turning the substrate holder in a pallet changing position a pallet, the pallet deposited at another location, in particular in a magazine and another place, in particular a magazine receives another pallet and from the positioning drive is brought into a loading position and there settles the pallet in the storage bag.

Eine gattungsgemäße Vorrichtung und ein gattungsgemäßes Verfahren beschreibt die DE 102 32 731 A1 . Den Ausgangspunkt der Erfindung bildet eine CVD-Beschichtungseinrichtung oder eine Substratbehandlungseinrichtung, die eine Prozesskammer aufweist, in der sich ein kreisrunder Substrathalter befindet. Der Substrathalter ist um die Mittelachse drehbar in der Prozesskammer gelagert und trägt eine Vielzahl von Ladeplatten. Die Ladeplatten liegen in ihnen zugeordneten Lagertaschen des Substrathalters ein, die sich in gleichmäßiger Winkelverteilung in Umfangsrichtung um das Zentrum des Substrathalters verteilen. In jeder Lagertasche liegt mindestens ein Substrat. Es können aber auch mehrere Substrate auf einer Ladeplatte liegen. Die Ladeplatten können einzeln nacheinander von einem Greifarm eines Greifers aus den Lagertaschen entnommen werden. Hierzu greifen die Greifarme in zum Rand des Substrathalters hin offene Kanäle ein und untergreifen einen Randabschnitt der Ladeplatte. Der Randabschnitt der kreisrunden Ladeplatte wird von einer Umfangsnut gebildet. Hierzu fährt der Greifer, von einem Positionierantrieb angetrieben und von einer Steuereinrichtung gesteuert, eine vorbestimmte Ladeposition an. Der Substrathalter wurde zuvor derartig gedreht, dass die zu entnehmende Ladeplatte etwa an dieser Ladeposition liegt. Auf Grund von Toleranzen in der Drehpositionierung des Substrathalters kann diese Position nur ungenau angefahren werden. Die Umfangslage des Substrathalters kann im Millimeterbereich variieren. Andererseits liegt die Ladeplatte aber mit einem geringeren Abstand zur Wandung der Lagertasche in der Lagertasche. Solange die Kanäle, in die die Greifarme einfahren, breit genug sind, kommt es bei der Entnahme der Ladeplatte aus der Lagertasche zu keiner Kollision. Die entnommene Ladeplatte wird zu einem Magazin verfahren, dort abgelegt und zu einem späteren Zeitpunkt dem Magazin zur Weiterverarbeitung entnommen. Der Greifer greift nach dem Ablegen der aus der Lagertasche entnommenen Ladeplatte eine andere Ladeplatte, die mit zu behandelnden Substraten versehen ist, um diese in die leere Lagertasche einzulegen. Da weder die Relativposition der neuen Ladeplatte gegenüber dem Greifer, noch die Relativposition der tatsächlichen Lage der Lagertasche in Bezug auf das Gehäuse bekannt ist und beide Relativlagen Toleranzen unterworfen sind, kann es vorkommen, dass die neuen Ladeplatten nicht korrekt in die Lagertaschen eingesetzt werden. Es kann vorkommen, dass die Ladeplatten mit ihrem Rand auf dem Rand der Lagertasche aufliegen.A generic device and a generic method describes the DE 102 32 731 A1 , The starting point of the invention is a CVD coating device or a substrate treatment device which has a process chamber in which a circular substrate holder is located. The substrate holder is rotatably mounted about the central axis in the process chamber and carries a plurality of pallets. The loading plates are located in their associated storage pockets of the substrate holder, which distribute in a uniform angular distribution in the circumferential direction around the center of the substrate holder. Each storage bag contains at least one substrate. But it can also be several substrates on a pallet. The pallets can be removed one by one from a gripper arm of a gripper from the storage bags. For this purpose, the gripping arms engage in channels which are open toward the edge of the substrate holder and engage under an edge section of the loading plate. The edge portion of the circular loading plate is formed by a circumferential groove. For this purpose, the gripper, driven by a positioning drive and controlled by a control device, drives to a predetermined loading position. The substrate holder was previously rotated in such a way that the loading plate to be removed lies approximately at this loading position. Due to tolerances in the rotational positioning of the substrate holder, this position can be approached only inaccurate. The circumferential position of the substrate holder can vary in the millimeter range. On the other hand, the loading plate is located at a smaller distance from the wall of the storage bag in the storage bag. As long as the channels, in which the gripping arms retract, are wide enough, there is no collision when removing the loading plate from the storage bag. The removed pallet is moved to a magazine, stored there and removed at a later date the magazine for further processing. The gripper engages after depositing the removed from the storage bag pallet another pallet, which is provided with substrates to be treated in order to insert them into the empty storage bag. Since neither the relative position of the new pallet relative to the gripper, nor the relative position of the actual position of the bearing pocket with respect to the housing is known and both relative positions are subject to tolerances, it may happen that the new pallets are not correctly inserted into the bearing pockets. It may happen that the pallets rest with their edge on the edge of the storage bag.

Die US 4,819,167 beschreibt eine Vorrichtung und ein Verfahren, mit dem die Relativlage eines Substrates gegenüber einem Greifer bestimmbar ist. Dort ist eine Vielzahl von Leuchtdioden vorgesehen, die zusammen mit Fotosensoren parallel zueinander verlaufende Lichtschranken ausbilden. Der auf dem Greifarm eines Greifers aufliegende Wafer wird durch dieses Lichtschrankengitter gefahren. Dabei wird die Relativposition des Wafers gegenüber dem Greifer ermittelt.The US 4,819,167 describes a device and a method with which the relative position of a substrate relative to a gripper can be determined. There, a plurality of light-emitting diodes is provided, which form together with photo sensors parallel to each other extending light barriers. The resting on the gripper arm of a gripper wafer is driven by this light barrier grid. The relative position of the wafer relative to the gripper is determined.

Ein ähnliches Verfahren beschreibt die US 5,452,521 . Dabei wird der Mittelpunkt des Wafers über die Berechnung mehrer Radien ermittelt.A similar procedure describes the US 5,452,521 , The center of the wafer is determined by calculating several radii.

Bei dem aus der US 5,513,948 her bekannten Verfahren zur Positionierung eines Substrates wird das auf einem Greifarm liegende Substrat in verschiedenen Drehrichtungen durch eine optische Lichtschrankenanordnung gefahren.In the from the US 5,513,948 Her known method for positioning a substrate, the lying on a gripper arm substrate is driven in different directions by an optical light barrier arrangement.

Die US 6,198,976 B1 beschreibt ein ähnliches Verfahren. Auch werden Randpunkte des durch eine Lichtschranke gebrachten Substrates bestimmt. Das Substrat wird hier auf einen nicht einheitlichen Pfad durch die Lichtschrankenanordnung gebracht.The US 6,198,976 B1 describes a similar process. Also, edge points of the substrate brought by a light barrier are determined. The substrate is brought here on a non-uniform path through the light barrier assembly.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, Maßnahmen anzugeben, mit denen Fehlpositionierungen beim Austausch von Ladeplatten vermieden werden können.The invention has for its object to provide measures with which Incorrect positioning when replacing pallets can be avoided.

Mittels der Bestimmung der Relativlage der aus der Lagertasche entnommenen Ladeplatte zu einem Greifer ist es möglich, Rückschlüsse zu gewinnen über die tatsächliche Lage der Lagertasche in der jeweiligen Ladeplattenwechselstellung des Substrathalters. Hierzu wird ein Lagebestimmungsmittel verwendet, mit dem beispielsweise die Lage eines Referenzpunktes der Ladeplatte relativ zu einem Referenzpunkt des Greifers ermittelt wird. Die Relativlage ist von der Ist-Position der Lagertasche abhängig. Die Bestimmung der Relativlage der Ladeplatte kann über eine optische Messung erfolgen. Bevorzugt erfolgt dies unter Verwendung einer oder mehrerer Lichtschranken. Bevorzugt sind die Lichtschranken ortsfest an einem Gehäuse angeordnet. Ihre Strahlrichtung verläuft senkrecht zur Bewegungsbahn des Greifers. Der Greifer ist mit Positionsgebern ausgestattet, mit denen eine Steuereinrichtung zu jeder Zeit der Bewegung des Greifers dessen absolute Position gegenüber dem Gehäuse bestimmen kann. Der Greifer kann mehrgelenkig sein. Jedes Gelenk kann einen Drehwinkelgeber aufweisen. Mit den Lagebestimmungsmitteln kann der Rand der kreisrunden Ladeplatte abgetastet werden. Bei einer Lichtschranke wird hierzu die Ladeplatte an den Lichtstrahl der Lichtschranke herangeführt. Sobald der Lichtstrahl den Rand der Ladeplatte berührt, wird die Lichtschranke unterbrochen. Der Rand der Ladeplatte ist scharfkantig. Die Position des Greifers bei diesem Ereignis wird gespeichert. Bei einer Weiterverlagerung des Greifers bleibt die Lichtschranke so lange unterbrochen, bis der Lichtstrahl einen weiteren Randpunkt der Ladeplatte berührt. Bei diesem Ereignis wird die Lichtstrahlunterbrechung beendet. Die Position des Greifers bei diesem Ereignis wird gespeichert.By determining the relative position of the removed from the storage bag pallet to a gripper, it is possible to draw conclusions about the actual position of the bearing pocket in the respective pallet changing position of the substrate holder. For this purpose, a position determining means is used with which, for example, the position of a reference point of the loading plate is determined relative to a reference point of the gripper. The relative position depends on the actual position of the bearing pocket. The determination of the relative position of the pallet can be done via an optical measurement. This is preferably done using one or more light barriers. The light barriers are preferably arranged stationarily on a housing. Their beam direction is perpendicular to the trajectory of the gripper. The gripper is equipped with position encoders, with which a control device at any time of the movement of the gripper can determine its absolute position relative to the housing. The gripper can be multi-articulated. Each joint may have a rotary encoder. With the position determining means, the edge of the circular pallet can be scanned. In the case of a light barrier, the loading plate is brought to the light beam of the light barrier for this purpose. As soon as the light beam touches the edge of the pallet, the light barrier is interrupted. The edge of the pallet is sharp-edged. The position of the gripper at this event is saved. In a further displacement of the gripper, the light barrier remains interrupted until the light beam touches another edge point of the pallet. In this event, the light beam interruption is terminated. The position of the gripper at this event is saved.

Wird die Lichtschranke zweimal in unterschiedlichen Wegen durchfahren, oder sind zwei Lichtschranken vorhanden, die nacheinander oder etwa gleichzeitig durchfahren werden, so werden insgesamt vier Berührungspunkte gespeichert. Die Recheneinheit kann aus der Lage dieser Berührungspunkte die Relativlage der Ladeplatte gegenüber dem Greifer ermitteln. Bevorzugt weist die Ladeplatte die Form einer Kreisscheibe auf. Es reichen somit drei Messpunkte aus, um den Mittelpunkt der Ladeplatte zu ermitteln. Aus dem Versatz der tatsächlichen Lage der Ladeplatte bzw. deren Mittelpunkt in Bezug auf einen Referenzpunkt am Greifer, der der Solllage entspricht, kann der Versatz der tatsächlichen Lage der Lagertasche, aus der die Ladeplatte entnommen wird, zu ihrer Solllage ermittelt werden. Da der Substrathalter nicht exakt in die Ladeplattenwechselstellung gebracht werden kann, weicht die tatsächliche Lage der Lagertasche in der jeweiligen Ladeplattenwechselstellung von ihrer Solllage geringfügig ab. Soll nach dem Ablegen der aus der Lagertasche entnommenen Ladeplatte an einem anderen Ort, beispielsweise in einem Magazin, die Lagertasche mit einer neuen Ladeplatte bestückt werden, die beispielsweise zu behandelnde Substrate trägt, so kann der Greifer eine Position anfahren, in der die vom Greifer getragene Ladeplatte passgenau in der Lagertasche abgelegt wird. Hierzu wird nach der oben beschriebenen Methode die Relativlage der in der Lagertasche abzulegenden Ladeplatte gegenüber dem Greifer ermittelt. Der Recheneinrichtung stehen somit zwei Relativpositionen in Form von Abweichungen gegenüber einer Referenzposition zur Verfügung. Mit der Recheneinrichtung ist es somit möglich, die Abweichung des Mittelpunkts der aus der Lagertasche entnommenen Ladeplatte zur Lage des Mittelpunkts der in die Lagertasche abzusetzenden Ladeplatte zu ermitteln. Diese Abweichung entspricht im Wesentlichen einer gerichteten Strecke in der Bewegungsebene des Greifers, also einem Versatzvektor. Die Differenz zwischen den beiden Endpunkten dieses Versatzvektors ist das Maß, um das der Greifer versetzt werden muss, um seine Beladeposition anzufahren.If the light barrier is traversed twice in different ways, or if two light barriers are present, which are passed through successively or approximately simultaneously, a total of four points of contact are stored. The arithmetic unit can determine the relative position of the loading plate relative to the gripper from the position of these points of contact. The loading plate preferably has the shape of a circular disk. Thus, three measuring points are sufficient to determine the center of the pallet. From the offset of the actual position of the pallet or its center with respect to a reference point on the gripper, which corresponds to the desired position, the offset of the actual position of the bearing pocket, from which the pallet is removed, can be determined to their desired position. Since the substrate holder can not be brought exactly into the pallet changing position, the actual position of the bearing pocket in the respective pallet changing position deviates slightly from its desired position. If, after the removal of the removed from the storage bag pallet at another location, for example in a magazine, the storage bag to be equipped with a new pallet carrying, for example, to be treated substrates, the gripper can approach a position in which carried by the gripper Pallet is accurately placed in the storage bag. For this purpose, the relative position of the load plate to be deposited in the bearing pocket relative to the gripper is determined by the method described above. The computing device thus has two relative positions in the form of deviations from a reference position. With the computing device, it is thus possible to determine the deviation of the center point of the pallet removed from the storage bag to the position of the center of the pallet to be placed in the storage bag. This deviation essentially corresponds to a directed distance in the plane of movement of the gripper, ie an offset vector. The difference between the two endpoints of this offset vector is the amount by which the gripper must be offset to approach its loading position.

Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachfolgend beschrieben. Es zeigen:An embodiment of the invention will be described below. Show it:

1 schematisch einen Teil eines Substrathalters 1 mit Lagertaschen 4, in denen Ladeplatten 2 zur Aufnahme von Substraten 3 einliegen, mit einem Greifer, der zur Entnahme einer Ladeplatte 2 eine vorbestimmte Ladeposition eingenommen hat, 1 schematically a part of a substrate holder 1 with storage bags 4 in which pallets 2 for receiving substrates 3 einliegen, with a gripper, which is to remove a pallet 2 has taken a predetermined loading position,

2 einen Schnitt gemäß der Linie II-II, 2 a section according to the line II-II,

3 eine Darstellung gemäß 1, wobei der Greifer 9 die aus der Lagertasche 4 entnommene Ladeplatte 2 in Richtung einer Beladeöffnung 28 befördert hat in einer Bewegungsposition, in der der Rand 2' der Ladeplatte 2 an einem ersten Berührungspunkt 21 den Lichtstrahl einer Lichtschranke 17 berührt, 3 a representation according to 1 , where the gripper 9 the out of the storage bag 4 removed pallet 2 in the direction of a loading opening 28 has moved in a movement position in which the edge 2 ' the pallet 2 at a first point of contact 21 the light beam of a light barrier 17 touched,

4 eine Darstellung gemäß 3, wobei der Rand 2' der Ladeplatte 2 den Lichtstrahl einer zweiten Lichtschranke 19 berührt, 4 a representation according to 3 , where the edge 2 ' the pallet 2 the light beam of a second light barrier 19 touched,

5 eine Darstellung gemäß 3, wobei der Rand 2' der Ladeplatte 2 an einem weiteren Berührungspunkt 23 den Lichtstrahl der Lichtschranke 19 berührt, 5 a representation according to 3 , where the edge 2 ' the pallet 2 at another point of contact 23 the light beam of the light barrier 19 touched,

6 eine Darstellung gemäß 3, wobei der Rand 2' der Ladeplatte 2 an einem vierten Berührungspunkt 24 den Lichtstrahl einer Lichtschranke 19 berührt, 6 a representation according to 3 , where the edge 2 ' the pallet 2 at a fourth point of contact 24 the light beam of a light barrier 19 touched,

7 eine perspektivische Darstellung einer Beladeöffnung 28 und 7 a perspective view of a loading opening 28 and

8 ein Blockschaltbild der Beladeeinrichtung. 8th a block diagram of the loading device.

Das Ausführungsbeispiel betrifft eine Substratbehandlungseinrichtung mit zugehöriger Be- und Entladeeinrichtung. Die Substratbehandlungseinrichtung besitzt einen Reaktor mit einer Prozesskammer, die in den Zeichnungen lediglich angedeutet ist. Letztere besitzt eine Außenwand, die eine Beladeöffnung 28 aufweist. Durch die Beladeöffnung 28 kann der Greifer 9 einer Greifereinrichtung hindurchtreten. Im Inneren der Prozesskammer befindet sich ein kreisscheibenförmiger Substrathalter 1, der in einer Horizontalebene angeordnet ist und der um eine Vertikalachse gedreht werden kann. Um das Drehzentrum des Substrathalters 1 ist eine Vielzahl von Lagertaschen 4 in gleichmäßiger Winkelverteilung angeordnet. In jeder der Lagertaschen 4 lagert eine Ladeplatte 2, die eine Kreisscheibenform aufweist. Die Ladeplatten 2 lagern bis auf ein geringes Spiel passgenau in einen kreisförmigen Querschnitt aufweisenden Lagertaschen 4 und können mit den Greifarmen 10 des Greifers 9 aus den Lagertaschen 4 entnommen werden. Hierzu besitzt der Substrathalter 1 zum Rand hin offene, parallel zueinander verlaufende Kanäle 7, in die die beiden parallel zueinander verlaufenden Greifarme 10 einfahren können. Die beiden voneinander beabstandeten Kanäle 7 münden in den radial äußeren Bereich der Lagertasche 4.The exemplary embodiment relates to a substrate treatment device with associated loading and unloading device. The substrate treatment device has a reactor with a process chamber, which is merely indicated in the drawings. The latter has an outer wall which has a loading opening 28 having. Through the loading opening 28 can the gripper 9 pass through a gripper device. Inside the process chamber is a circular disk-shaped substrate holder 1 , which is arranged in a horizontal plane and which can be rotated about a vertical axis. Around the center of rotation of the substrate holder 1 is a variety of storage bags 4 arranged in a uniform angular distribution. In each of the storage bags 4 stores a pallet 2 which has a circular disk shape. The pallets 2 store except for a small clearance precisely in a circular cross-section bearing bags 4 and can with the gripping arms 10 of the gripper 9 from the storage bags 4 be removed. For this purpose has the substrate holder 1 open to the edge, parallel to each other channels 7 , in which the two parallel gripping arms 10 can retract. The two spaced channels 7 open into the radially outer region of the bearing pocket 4 ,

Die Ladeplatte 2 besitzt eine Umfangsringnut 5, so dass eine Stützfläche 6 entsteht. In diese Umfangsringnut mündet der Kanal 7, so dass die Greifarme 10 mit seitlichem Spiel zur Kanalwand und zum Rand der Ringnut 5 in die Ringnut 5 einfahren können.The pallet 2 has a circumferential annular groove 5 so that a support surface 6 arises. In this circumferential annular groove opens the channel 7 so that the gripping arms 10 with lateral play to the channel wall and to the edge of the ring groove 5 in the ring groove 5 can retract.

Außerhalb der Prozesskammer befindet sich ein Positionierantrieb 13, an dem ein Arm 12 einer Greiferanordnung über mehrere Gelenke angeordnet ist. Über einen oder mehrere Drehwinkelgeber 15 erhält eine Recheneinrichtung 27 eine genaue Information über die Drehstellung des Armes 12 bzw. die exakte Raumlage des Greifers 9. Am Ende des Armes 12 befindet sich ein Gelenk 14, welches ebenfalls einen Drehwinkelgeber aufweist. An diesem Gelenk ist eine Anordnung aus zwei Armen des Greifers 9 angelenkt.Outside the process chamber is a positioning drive 13 on which an arm 12 a gripper assembly is arranged over a plurality of joints. Via one or more rotary encoder 15 receives a computing device 27 precise information about the rotational position of the arm 12 or the exact spatial position of the gripper 9 , At the end of the arm 12 there is a joint 14 which also has a rotary encoder. At this joint is an arrangement of two arms of the gripper 9 hinged.

Mit der Steuerungseinrichtung 26 und den von Drehwinkelgebern 14, 14', 15 rückgemeldeten Positionswerten kann der Greifer 9 bzw. dessen Greifarme 10 exakt positioniert werden.With the control device 26 and that of rotary encoders 14 . 14 ' . 15 Confirmed position values, the gripper 9 or its gripping arms 10 be positioned exactly.

In der Beladeöffnung 28 befinden sich Fotodioden 16, 18 und ihnen jeweils gegenüberliegend zwei Leuchtdioden 20. Die Leuchtdioden 20 bilden zusammen mit jeweils einer Fotodiode 16, 18 zwei parallel zueinander verlaufende Lichtschranken, deren Lichtstrahlen quer zur Bewegungsebene des Greifers 9 verlaufen. Der Abstand der beiden Lichtstrahlen 17, 19, der beiden Lichtschranken ist geringer als der Durchmesser der kreisscheibenförmigen Ladeplatte 2.In the loading opening 28 are photodiodes 16 . 18 and each opposite two LEDs 20 , The light-emitting diodes 20 form together with each a photodiode 16 . 18 two light barriers running parallel to one another, whose light beams are transverse to the plane of movement of the gripper 9 run. The distance between the two light beams 17 . 19 , the two photocells is less than the diameter of the circular disc-shaped pallet 2 ,

Die Fotodioden 16, 18 sind mit der Recheneinrichtung 27 verbunden, so dass die Recheneinrichtung 27 in der Lage ist, die Positionswerte des Greifers 9 zu speichern, wenn die Lichtschranken 16, 18 ein Ereignis liefern, also entweder unterbrochen werden oder die Fotodiode 16, 18 belichtet wird.The photodiodes 16 . 18 are with the computing device 27 connected so that the computing device 27 is capable of the position values of the gripper 9 to save when the photocells 16 . 18 deliver an event, so either be interrupted or the photodiode 16 . 18 is exposed.

Die Recheneinrichtung 27 ist ferner in der Lage, aus den Werten der Drehwinkelgeber 14, 14', 15 und den bekannten Längen der Arme und des Greifers 9 eine XY-Position eines Referenzpunktes 11 des Greifarms in Bezug auf das Gehäuse, welches lediglich der Anschauung halber im Folgenden durch die Position des Rahmens 25 gegeben ist, zu ermitteln.The computing device 27 is also capable of using the values of the rotary encoders 14 . 14 ' . 15 and the known lengths of the arms and the gripper 9 an XY position of a reference point 11 the gripping arm with respect to the housing, which for the sake of clarity hereinafter by the position of the frame 25 is given to determine.

Die Recheneinrichtung 27 ist dadurch in der Lage, die tatsächliche Position des Greifers 9 abzuspeichern, sobald eine der Lichtschranken 16, 18, ein Ereignis (Wechsel von Unterbrechung zu Nichtunterbrechung oder umgekehrt) meldet. Dies wird, wie im Folgenden noch erläutert wird, ausgenutzt, um beim Durchfahren der Ladeplatte 2 durch die beiden Lichtschranken 16, 18, die Relativlage von Ladeplatte 2 zum Greifer 9 zu ermitteln. Beim Ausführungsbeispiel wird dabei über eine 4-Punkt-Bestimmung die Lage des Mittelpunktes 8 der Ladeplatte 2 zum Referenzpunkt 11 des Greifers 9 bestimmt. Dies erfolgt im Fluge, also während der Bewegung des Greifers 9, innerhalb der die Ladeplatte 2 durch die beiden Lichtschranken 16, 19 bewegt wird. Die beiden Greifarme 10 haben einen derartigen Abstand voneinander, dass sie die beiden Lichtschranken 16, 18 umfassen. Ihr Innenabstand ist somit größer als der Abstand der beiden Lichtschranken 17, 19. Die Greifarme 10 sind darüber hinaus so gestaltet, dass sie lediglich mit schräg aufeinander zulaufenden Abschnitten 10' bei der Bewegung des Greifers 9 die Lichtschranken durchbrechen, nicht jedoch mit parallel zueinander verlaufenden Abschnitten 10'', wobei die Ladeplatte 2 ausschließlich auf den parallel zueinander verlaufenden Abschnitten 10'' liegt.The computing device 27 This makes it possible to determine the actual position of the gripper 9 save as soon as one of the photocells 16 . 18 , an event (change from interruption to non-stop or vice versa) reports. This will, as will be explained below, exploited to when driving through the pallet 2 through the two photoelectric barriers 16 . 18 , the relative position of pallet 2 to the gripper 9 to investigate. In the exemplary embodiment, the position of the center is determined via a 4-point determination 8th the pallet 2 to the reference point 11 of the gripper 9 certainly. This is done on the fly, ie during the movement of the gripper 9 , inside the pallet 2 through the two photoelectric barriers 16 . 19 is moved. The two gripping arms 10 have such a distance from each other that they are the two photocells 16 . 18 include. Their inner distance is thus greater than the distance between the two light barriers 17 . 19 , The gripping arms 10 are also designed so that they only with sloping sections 10 ' during the movement of the gripper 9 the light barriers break, but not with mutually parallel sections 10 '' , with the pallet 2 exclusively on the mutually parallel sections 10 '' lies.

Aus den vier gemessenen Berührungspunkten 21, 22, 23, 24 beim Herausfahren der Ladeplatte 2 aus der Prozesskammer kann die Relativlage des Mittelpunktes 8 der Ladeplatte 2 zum Referenzpunkt 11 ermittelt werden. Aus dieser Relativlage kann die tatsächliche Position der Lagertasche 4 in der jeweiligen Ladeplattenwechselstellung ermittelt werden. Toleranzbedingt weichen diese tatsächlichen Positionen von Sollpositionen ab.From the four measured points of contact 21 . 22 . 23 . 24 when moving out of the pallet 2 from the process chamber, the relative position of the center 8th the pallet 2 to the reference point 11 be determined. From this relative position, the actual position of the storage bag 4 be determined in the respective pallet change position. Due to tolerances, these actual positions deviate from nominal positions.

Bei einer Beladung der Lagertasche 4 mit einer Ladeplatte 2 werden beim Hineinfahren des eine Ladeplatte 2 tragenden Greifers 9 in die Prozesskammer ebenfalls Berührungspunkte 21, 22, 23, 24 gemessen, so dass auch die Relativlage der neuen Ladeplatte 2, also der Versatz deren Mittelpunkts 8 zum Referenzpunkt 11 bekannt ist. Der Greifer 9 kann jetzt so positioniert werden, dass die neue Ladeplatte 2 exakt in die Lagertasche 4 eingesetzt werden kann, da deren tatsächliche Lage und die tatsächliche Lage der neuen Ladeplatte 2 in Bezug auf den Greifer 9 bekannt ist und der Greifer 9 von der Steuereinrichtung 26 exakt positionierbar ist.When loading the storage bag 4 with a pallet 2 be when entering the a pallet 2 carrying gripper 9 also points of contact in the process chamber 21 . 22 . 23 . 24 measured so that also the relative position of the new pallet 2 , so the offset of their center 8th to the reference point 11 is known. The gripper 9 can now be positioned so that the new pallet 2 exactly in the storage bag 4 can be used because of their actual location and the actual location of the new pallet 2 in relation to the gripper 9 is known and the gripper 9 from the controller 26 is exactly positioned.

Die Funktionsweise der Be- und Entladeeinrichtung ist somit die Folgende:
Nach Beendigung eines Substratbehandlungsprozesses werden die in Lagertaschen 4 des Substrathalters 1 liegenden Ladeplatten 2 nacheinander entnommen und durch andere Ladeplatten 2 ersetzt, auf denen ein oder mehrere zu beschichtende Substrate 3 aufliegen. Hierzu wird der Substrathalter 1 schrittweise weitergedreht, wobei bei jedem Schritt eine Lagertasche 4 in einer Entnahmeposition des Substrathalters 1 zur Beladeöffnung 28 weist. Auf Grund von Toleranzen weicht die tatsächliche Drehstellung des Substrathalters 1 von einer Sollstellung ab. Da die Sollstellung zunächst noch unbekannt ist, wird der Greifer 9 von dem Positionierantrieb 13 bzw. der Steuereinrichtung 26 an die Sollstellung gefahren. Dabei treten die Greifarme 10 in die Kanäle 7 ein, deren Wandabstand groß genug ist, dass die Toleranzabweichungen ausgeglichen werden können. Die parallel zueinander verlaufenden Abschnitte 10'' der Greifarme 10 treten dabei in die Ringnut 5 der Ladeplatte 2 ein. Sobald der Greifer 9 seine laterale Endposition erreicht hat, wird er geringfügig nach oben verlagert, so dass die sich an die Stützflächen 6 anlegenden Greifarme 10 die Ladeplatte 2 aus der Lagertasche 4 ausheben. Der von außen durch die Beladeöffnung 28 in die Prozesskammer eingefahrene Greifer 9 wird jetzt zurückgefahren, wobei im Zuge dieser Auswärtsbewegung der Lichtstrahl 17 der Lichtschranke 16 in der in 3 dargestellten Bewegungsphase an einem Berührungspunkt 21 der Ladeplatte 2 unterbrochen wird. Bei diesem Ereignis wird von der Recheneinrichtung 27 der Positionswert des Greifers 9 gespeichert. Nach einer weiteren Bewegung berührt der Lichtstrahl 19 der Lichtschranke 18 den Berührungspunkt 22 der Ladeplatte 2. Auch diese Position des Greifers 9 wird in der Recheneinrichtung 27 gespeichert. Im Zuge der Bewegung von der in 4 dargestellten Bewegungsphase zu der in 5 dargestellten Bewegungsphase sind beide Lichtschranken 16, 18, unterbrochen. Die 5 stellt die Bewegungsphase dar, in der der Lichtstrahl 17 der Lichtschranke 16 den Rand 2' der Ladeplatte 2 an der Position 23 berührt. Auch diese Position des Greifers 9 wird gespeichert. Bei einer Weiterverlagerung des Greifers 9 wird die in 6 dargestellte Position erreicht, in der der Lichtstrahl 19 der Lichtschranke 18 den Rand 2' der Ladeplatte 2 an der Position 24 berührt.The functioning of the loading and unloading device is thus the following:
Upon completion of a substrate treatment process, they are stored in storage bags 4 of the substrate holder 1 lying pallets 2 taken one after the other and through other pallets 2 replaced, on which one or more substrates to be coated 3 rest. For this purpose, the substrate holder 1 gradually turned further, with each step a storage bag 4 in a removal position of the substrate holder 1 to the loading opening 28 has. Due to tolerances deviates the actual rotational position of the substrate holder 1 from a debit position. Since the nominal position is still unknown, the gripper becomes 9 from the positioning drive 13 or the control device 26 moved to the nominal position. In this case, the gripping arms occur 10 into the channels 7 one whose wall distance is large enough that the tolerance deviations can be compensated. The parallel sections 10 '' the gripping arms 10 thereby enter the ring groove 5 the pallet 2 one. As soon as the gripper 9 has reached its lateral end position, it is slightly shifted upwards, so that at the support surfaces 6 applying gripping arms 10 the pallet 2 from the storage bag 4 dig. The outside through the loading opening 28 in the process chamber retracted gripper 9 is now moved back, whereby in the course of this outward movement of the light beam 17 the photocell 16 in the in 3 shown movement phase at a point of contact 21 the pallet 2 is interrupted. This event is performed by the computing device 27 the position value of the gripper 9 saved. After another movement, the light beam touches 19 the photocell 18 the point of contact 22 the pallet 2 , Also this position of the gripper 9 is in the computing device 27 saved. In the course of the movement of the in 4 shown movement phase to the in 5 shown movement phase are both light barriers 16 . 18 , interrupted. The 5 represents the movement phase in which the light beam 17 the photocell 16 the edge 2 ' the pallet 2 at the position 23 touched. Also this position of the gripper 9 will be saved. With a further displacement of the gripper 9 will the in 6 reached shown position in which the light beam 19 the photocell 18 the edge 2 ' the pallet 2 at the position 24 touched.

Aus den vier gemessenen Positionen des Greifers 9 errechnet die Recheneinheit 27 gegebenenfalls über eine Koordinatentransformation die Relativlage des Mittelpunktes 8 der Ladeplatte 2 zum Referenzpunkt 11.From the four measured positions of the gripper 9 calculates the arithmetic unit 27 optionally via a coordinate transformation, the relative position of the center 8th the pallet 2 to the reference point 11 ,

Da die Absolutlage des Referenzpunktes 11 in Bezug auf das Gehäuse, also den Rahmen 25 bei der Entnahme der Ladeplatte 2 aus der Lagertasche 4 bekannt ist, kann durch die Kenntnis des Versatzes des Mittelpunktes 8 zum Referenzpunkt 11 auch die Absolutlage des Mittelpunktes der Lagertasche 4 des Substrathalters 1 bestimmt werden.Because the absolute position of the reference point 11 in terms of the case, so the frame 25 when removing the pallet 2 from the storage bag 4 is known, by knowing the offset of the center 8th to the reference point 11 also the absolute position of the center of the storage bag 4 of the substrate holder 1 be determined.

Diese Bestimmung der Absolutlage des Mittelpunktes der Lagertasche 4 erfolgt mit Hilfe der Recheneinrichtung.This determination of the absolute position of the center of the bearing pocket 4 done with the help of the computing device.

Die aus der Lagertasche 4 entnommene Ladeplatte 2 wird in einem nicht dargestellten Magazin abgelegt. Aus einem ebenfalls nicht dargestellten anderen Magazin wird eine andere Ladeplatte 2 mit einem oder mehreren zu beschichtenden Substraten 3 entnommen. Diese Ladeplatte 2 wird in umgekehrter Bewegungsrichtung durch die Beladeöffnung 28 in die Prozesskammer gebracht. Dabei werden in umgekehrter Reihenfolge ebenfalls 4 Berührungspunkte 21 bis 24 ermittelt. Mit Hilfe der bei den jeweiligen Berührungen 21 bis 24 bekannten Positionen des Greifers 9 wird der Lageversatz des Mittelpunktes 8 zum Referenzpunkt 11 ermittelt.The out of the storage bag 4 removed pallet 2 is stored in a magazine, not shown. From another magazine, also not shown is another pallet 2 with one or more substrates to be coated 3 taken. This pallet 2 is in the reverse direction of movement through the loading opening 28 brought into the process chamber. In this case, in the reverse order also 4 points of contact 21 to 24 determined. With the help of the respective touches 21 to 24 known positions of the gripper 9 becomes the positional offset of the midpoint 8th to the reference point 11 determined.

Aus dem Wert dieses Versatzes und der ermittelten Ist-Position der Lagertasche 4 errechnet die Recheneinrichtung 27 Positionierdaten für den Greifer 9, die von den Soll-Positionierdaten abweichen, so dass der Greifer 9 die Ladeplatte 2 exakt in die Lagertasche 4 absetzen kann.From the value of this offset and the determined actual position of the storage bag 4 calculates the computing device 27 Positioning data for the gripper 9 that deviate from the nominal positioning data, so that the gripper 9 the pallet 2 exactly in the storage bag 4 can settle.

Die Ist-Position der Lagertasche 4 kann um +/–1 mm von der Soll-Position abweichen. Mit Hilfe der zuvor beschriebenen Vorrichtung bzw. mit dem zuvor beschriebenen Verfahren lässt sich die Positioniertoleranz einer neuen Ladeplatte 2 in eine Lagertasche 4 auf +/–0,15 mm reduzieren. Das Gesamtsystem besteht aus einem optischen Messsystem 16 bis 19, welches zwei Lichtschranken, 17, 19, aufweist, die parallel ausgerichtet ist. Das Messsystem ist elektromechanisch. Es besitzt Drehwinkelgeber 14, 14', 15. Die Fotodioden 16, 18 der Lichtschranken 17, 19 können in einen Metallrahmen 25 integriert sein.The actual position of the storage bag 4 can deviate by +/- 1 mm from the nominal position. With the help of the device described above or with the method described above, the positioning tolerance of a new pallet can be 2 in a storage bag 4 reduce to +/- 0.15 mm. The complete system consists of an optical measuring system 16 to 19 which has two light barriers, 17 . 19 , which is aligned in parallel. The measuring system is electromechanical. It has rotary encoder 14 . 14 ' . 15 , The photodiodes 16 . 18 the photocells 17 . 19 can in a metal frame 25 be integrated.

Das Messsystem ist in der Lage, ein Transfersystem mit Endeffektor anzusteuern, um zunächst eine Standardzielposition anzulaufen. In dieser Standardzielposition liegt ein Körper unbestimmter Lage vor, der bevorzugt kreisrund ist. Es handelt sich um einen flachen Körper, der aber auch polygonförmig gestaltet sein kann. Die Dicke des Körpers ist weitestgehend beliebig. Bevorzugt ist der Körper 2 kein Substrat oder kein Wafer, sondern eine Ladeplatte 2. Der Körper kann aus Graphit, Keramik oder Quarz bestehen. Er hat an seinem Rand ein Stufenprofil 6, welches von einer Ringnut 5 ausgebildet sein kann. Der Referenzpunkt 8 des Körpers 2 kann ein Symmetriepunkt sein.The measuring system is able to control a transfer system with end effector to first start a standard target position. In this standard target position there is a body of indefinite position, which is preferably circular. It is a matter of a flat body, which can also be designed polygonal. The thickness of the body is largely arbitrary. The body is preferred 2 no substrate or wafer, but a pallet 2 , The body can be made of graphite, ceramic or quartz. He has a step profile at its edge 6 , which of an annular groove 5 can be trained. The reference point 8th of the body 2 can be a point of symmetry.

Die Lichtquellen 16, 18 der Lichtschranken 17, 19 können im kurzweiligen sichtbaren Bereich, beispielsweise bei 630 nm arbeiten. Der Lichtstrahl der Lichtschranken ist bevorzugt getaktet bzw. kodiert getaktet.The light sources 16 . 18 the photocells 17 . 19 can work in the entertaining visible range, for example at 630 nm. The light beam of the light barriers is preferably clocked or coded clocked.

Alle offenbarten Merkmale sind (für sich) erfindungswesentlich. In die Offenbarung der Anmeldung wird hiermit auch der Offenbarungsinhalt der zugehörigen/beigefügten Prioritätsunterlagen (Abschrift der Voranmeldung) vollinhaltlich mit einbezogen, auch zu dem Zweck, Merkmale dieser Unterlagen in Ansprüche vorliegender Anmeldung mit aufzunehmen. Die Unteransprüche charakterisieren in ihrer fakultativ nebengeordneten Fassung eigenständige erfinderische Weiterbildung des Standes der Technik, insbesondere um auf Basis dieser Ansprüche Teilanmeldungen vorzunehmen.All disclosed features are essential to the invention. The disclosure of the associated / attached priority documents (copy of the prior application) is hereby also incorporated in full in the disclosure of the application, also for the purpose of including features of these documents in claims of the present application. The subclaims characterize in their optional sibling version independent inventive development of the prior art, in particular to make on the basis of these claims divisional applications.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

11
Substrathaltersubstrate holder
22
Ladeplattepallet
2'2 '
Randedge
33
Substratsubstratum
44
Lagertaschebearing pocket
55
Ringnutring groove
66
Stützflächesupport surface
77
Kanalchannel
88th
MittelpunktFocus
99
Greifergrab
1010
Greifarmclaw arm
1111
Referenzpunktreference point
1212
Armpoor
1313
Positionierantriebpositioning
1414
Drehwinkelgeber (Gelenk)Rotary encoder (joint)
14'14 '
DrehwinkelgeberRotary encoder
1515
DrehwinkelgeberRotary encoder
1616
Fotodiodephotodiode
1717
Lichtschranke, LichtstrahlPhotocell, light beam
1818
Fotodiodephotodiode
1919
Lichtschranke, LichtstrahlPhotocell, light beam
2020
Leuchtdiodeled
2121
Berührungspunktpoint of contact
2222
Berührungspunktpoint of contact
2323
Berührungspunktpoint of contact
2424
Berührungspunktpoint of contact
2525
Rahmen, GehäuseFrame, housing
2626
Steuereinrichtungcontrol device
2727
Recheneinrichtungcomputing device
2828
Beladeöffnungloading opening

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • DE 10232731 A1 [0003] DE 10232731 A1 [0003]
  • US 4819167 [0004] US 4819167 [0004]
  • US 5452521 [0005] US 5452521 [0005]
  • US 5513948 [0006] US 5513948 [0006]
  • US 6198976 B1 [0007] US 6198976 B1 [0007]

Claims (7)

Vorrichtung zum Be- und Entladen der in um eine Drehachse eines Substrathalters (1) angeordneten Lagertaschen (4) einliegenden, jeweils ein oder mehrere Substrate (3) tragenden Ladeplatten (2) einer Substratbehandlungseinrichtung, insbesondere einer Prozesskammer eines CVD-Reaktors mit einem Greifer (9), der von einem Positionierantrieb (13) verlagerbar ist, um in einer Entnahmeposition eine durch Drehen des Substrathalters (1) in eine Ladeplattenwechselstellung gebrachte Ladeplatte (2) aus der Lagertasche (4) zu entnehmen und anschließend in einer Beladeposition eine andere Ladeplatte (2) dort abzusetzen, und mit einer Zwischenablage, einem Magazin oder dergleichen zur Aufbewahrung mit beschichteten oder unbeschichteten Substraten versehener Ladeplatten (2), gekennzeichnet durch Lagebestimmungsmittel (16, 17, 18, 19, 20, 21, 22) zur Bestimmung der Relativlagen aus der Lagertasche (4) entnommenen und einer in die Lagertasche (4) abzusetzenden Ladeplatte (2) gegenüber dem Greifer (9), und eine Recheneinrichtung (27) zur Ermittlung der Abweichung der beiden Relativlagen voneinander und zur Berechnung der Beladestellung aus der ermittelten Abweichung.Device for loading and unloading in about an axis of rotation of a substrate holder ( 1 ) arranged storage bags ( 4 ), one or more substrates ( 3 ) carrying pallets ( 2 ) a substrate treatment device, in particular a process chamber of a CVD reactor with a gripper ( 9 ), which is controlled by a positioning drive ( 13 ) is displaceable to one in a removal position by turning the substrate holder ( 1 ) brought into a pallet changing position loading plate ( 2 ) from the storage bag ( 4 ) and then in a loading position another pallet ( 2 ) and with a clipboard, a magazine or the like for storage with coated or uncoated substrates versehener pallets ( 2 ), characterized by position determining means ( 16 . 17 . 18 . 19 . 20 . 21 . 22 ) for determining the relative positions of the storage bag ( 4 ) and one in the storage bag ( 4 ) to be deposited pallet ( 2 ) opposite the gripper ( 9 ), and a computing device ( 27 ) for determining the deviation of the two relative positions from one another and for calculating the loading position from the determined deviation. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die Lagebestimmungsmittel eine optische Messeinrichtung (16, 17, 18, 19, 20) umfasst zur Bestimmung der Lage von mindestens drei Raumpunkten (21, 22, 23, 24) der Ladeplatte (2), insbesondere mit zwei in der Bewegungsbahn des Greifers (3) liegenden Lichtschranken (16, 17, 18, 19, 20), deren Lichtstrahlen (17, 19) senkrecht zur Bewegungsebene des Greifers (9) gerichtet sind.Device according to Claim 1 or in particular according thereto, characterized in that the position-determining means comprise an optical measuring device ( 16 . 17 . 18 . 19 . 20 ) for determining the location of at least three spatial points ( 21 . 22 . 23 . 24 ) of the pallet ( 2 ), in particular with two in the path of movement of the gripper ( 3 ) located light barriers ( 16 . 17 . 18 . 19 . 20 ) whose light rays ( 17 . 19 ) perpendicular to the plane of movement of the gripper ( 9 ) are directed. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüchen oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die Ladeplatte (2) eine Kreisscheibenform aufweist.Device according to one or more of the preceding claims or in particular according thereto, characterized in that the loading plate ( 2 ) has a circular disk shape. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüchen oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die optische Messeinrichtung) (16, 17, 18, 19, 20) in einem Rahmen des Gehäuses angeordnet ist.Device according to one or more of the preceding claims or in particular according thereto, characterized in that the optical measuring device () 16 . 17 . 18 . 19 . 20 ) is arranged in a frame of the housing. Verfahren zum Be- und Entladen der in um eine Drehachse eines Substrathalters (1) angeordneten Lagertaschen (1) einliegenden, jeweils ein oder mehrere Substrate tragenden Ladeplatten (2) einer Substratbehandlungseinrichtung, insbesondere einer Prozesskammer eines CVD-Reaktors mittels eines Greifers (9), der von einem Positionierantrieb (13) in eine Entnahmeposition verlagert wird, und dort aus einer durch Drehen des Substrathalters (1) in eine Ladeplattenwechselstellung gebrachten Lagertasche (4) eine Ladeplatte (2) entnimmt, die Ladeplatte (2) an einem anderen Ort, insbesondere in einem Magazin absetzt und von einem anderen Ort, insbesondere einem Magazin eine andere Ladeplatte (2) aufnimmt und von dem Positionierantrieb (13) in eine Beladeposition gebracht wird und dort die Ladeplatte in die Lagertasche (4) absetzt, dadurch gekennzeichnet, dass mittels Lagebestimmungsmittel (16, 17, 18, 19, 20) die Relativlagen der aus der Lagertasche (4) entnommenen Ladeplatte (2) und der in die Lagertasche (4) abzusetzende Ladeplatte (2) gegenüber dem Greifer (9) bestimmt werden und durch In-Beziehung-Setzen der Relativlagen die Beladeposition des Greifers berechnet wird.Method for loading and unloading in about an axis of rotation of a substrate holder ( 1 ) arranged storage bags ( 1 ), each one or more substrates carrying pallets ( 2 ) a substrate treatment device, in particular a process chamber of a CVD reactor by means of a gripper ( 9 ), which is controlled by a positioning drive ( 13 ) is moved to a removal position, and there from a by rotating the substrate holder ( 1 ) placed in a pallet changing position storage bag ( 4 ) a pallet ( 2 ), the pallet ( 2 ) deposited in another location, in particular in a magazine and from another location, in particular a magazine another loading plate ( 2 ) and from the positioning drive ( 13 ) is brought into a loading position and there the loading plate in the storage bag ( 4 ), characterized in that by means of position determining means ( 16 . 17 . 18 . 19 . 20 ) the relative positions of the out of the storage bag ( 4 ) removed pallet ( 2 ) and in the storage bag ( 4 ) to be deposited pallet ( 2 ) opposite the gripper ( 9 ) and the loading position of the gripper is calculated by relating the relative positions. Verfahren nach Anspruch 5 oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass mittels der Recheneinrichtung (27) durch In-Beziehung-Setzen der Relativlage der aus der Lagertasche (4) entnommenen Ladeplatte (2) zum Greifer (9) die tatsächliche Position der Lagertasche (4) zum Gehäuse ermittelt wird zur passgenauen Positionierung der anderen Ladeplatte (2) in der Lagertasche (4).Method according to Claim 5 or in particular according thereto, characterized in that by means of the computing device ( 27 ) by relating the relative position of the out of the bearing pocket ( 4 ) removed pallet ( 2 ) to the gripper ( 9 ) the actual position of the storage bag ( 4 ) is determined to the housing for accurate positioning of the other loading plate ( 2 ) in the storage bag ( 4 ). Verfahren nach einem der Ansprüche 5 oder 6 oder insbesondere danach, dadurch gekennzeichnet, dass die Lagebestimmungsmittel (16, 17, 18, 19, 20, 21, 22) eine Lichtschranke umfassen, die beim Verlagern des Greifers (9) von der Ladeplatte (2) durchfahren wird, wobei aus den Positionswerten des Greifers (9) bei mindestens drei Berührungen des Randes (2') der Ladeplatte (2) mit dem Lichtstrahl (17, 19) der Lichtschranke (16, 17, 18, 19, 20) die Relativlage ermittelt wird.Method according to one of claims 5 or 6 or in particular according thereto, characterized in that the position determining means ( 16 . 17 . 18 . 19 . 20 . 21 . 22 ) comprise a light barrier which, when the gripper is displaced ( 9 ) from the pallet ( 2 ), whereby from the position values of the gripper ( 9 ) at least three touches of the edge ( 2 ' ) of the pallet ( 2 ) with the light beam ( 17 . 19 ) of the light barrier ( 16 . 17 . 18 . 19 . 20 ) the relative position is determined.
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