DE102009008918A1 - Laser optics for forming laser beam bundle, has multiple laser beams produced from emitters, which are oppositively provided in slow-axis of laser beam - Google Patents

Laser optics for forming laser beam bundle, has multiple laser beams produced from emitters, which are oppositively provided in slow-axis of laser beam Download PDF

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Abstract

The laser optics has multiple laser beams produced from the emitters, which are oppositively provided in a slow-axis of the laser beam. A plate of the plate spreader (8) is arranged such that the emitters or a group of maximum five emitters, particularly two or three emitters are assigned to an autochthonous plate. An independent claim is also included for a laser diode with a laser diode arrangement.

Description

Die Erfindung bezieht sich auf eine Laseroptik gemäß Oberbegriff Patentanspruch 1 sowie auf einen Diodenlaser entsprechend Oberbegriff Patentanspruch 26.The The invention relates to a laser optics according to the preamble Claim 1 and to a diode laser according to the preamble Claim 26.

Im Gegensatz zu konventionellen Laserstrahlquellen, die einen Strahldurchmesser von einigen mm bei einer geringen Strahldivergenz im Bereich von wenigen mrad aufweisen, zeichnet sich die Strahlung eines Halbleiter-Diodenlaser (nachstehend auch „Diodenlaser”) durch einen in der Fast-Axis stark divergenten Strahl mit einer Divergenz > 1000 mrad aus. Hervorgerufen wird dies von der auf < 1 μm Höhe begrenzten Austrittsschicht, an der ähnlich der Beugung an einer spaltförmigen Öffnung, ein großer Divergenzwinkel erzeugt wird. Da die Ausdehnung der Austrittsöffnung in der Ebene senkrecht und parallel zur aktiven Halbleiterschicht unterschiedlich ist, kommen verschiedene Strahldivergenzen in der Ebene senkrecht und parallel zur aktiven Schicht zustande.in the Unlike conventional laser sources, which have a beam diameter of a few mm with a low beam divergence in the range of have a few mrad, the radiation of a semiconductor diode laser is characterized (hereinafter also "diode laser") by an in the fast-axis strongly divergent beam with a divergence> 1000 mrad. caused this will be from <1 μm Height limited exit layer, similar to the Diffraction at a gap-shaped opening, a large one Divergence angle is generated. Because the expansion of the outlet in the plane perpendicular and parallel to the active semiconductor layer is different, come different beam divergences in the plane perpendicular and parallel to the active layer.

Um eine Leistung von 20–40 W für einen Diodenlaser zu erreichen, werden zahlreiche Laser-Emitter auf einem sog. Laserbarren zu einem Laserbauelement zusammengefasst. Üblicherweise werden hierbei 10–50 einzelne Emittergruppen in einer Reihe in der Ebene parallel zur aktiven Schicht angeordnet. Der resultierende Strahl eines solchen Barrens hat in der Ebene parallel zur aktiven Schicht einen Öffnungswinkel von ca. 10° und einen Strahldurchmesser von ca. 10 mm. Die resultierende Strahlqualität in dieser Ebene ist um ein Vielfaches geringer als die sich ergebende Strahlqualität in der zuvor beschriebenen Ebene senkrecht zur aktiven Schicht. Auch bei einer möglichen zukünftigen Verringerung der Divergenzwinkel von Laser-Chips bleibt das stark unterschiedliche Verhältnis der Strahlqualität senkrecht und parallel zur aktiven Schicht bestehen.Around a power of 20-40 W for a diode laser To reach, numerous laser emitters on a so-called. Laser bars summarized to a laser device. Usually here 10-50 individual emitter groups in a row in the plane arranged parallel to the active layer. The resulting Beam of such a bar has in the plane parallel to the active Layer an opening angle of about 10 ° and a Beam diameter of approx. 10 mm. The resulting beam quality in this plane is many times lower than the resulting one Beam quality in the plane described above vertically to the active layer. Even with a possible future Reducing the divergence angle of laser chips remains strong different ratio of the beam quality perpendicular and parallel to the active layer.

Der Strahl verfügt aufgrund der zuvor beschriebenen Strahlcharakteristik über einen großen Unterschied der Strahlqualität in beiden Richtungen senkrecht und parallel zur aktiven Schicht. Der Begriff der Strahlqualität wird dabei beschrieben durch den M2 Parameter. M2 ist definiert durch den Faktor, mit dem die Strahldivergenz des Diodenlaserstrahles über der Strahldivergenz eines beugungsbegrenzten Strahles gleichen Durchmessers liegt. In dem oben gezeigten Fall verfügt man in der Ebene parallel zur aktiven Schicht über einen Strahldurchmesser, der um den Faktor 10.000 über dem Strahldurchmesser in der senkrechten Ebene liegt. Bei der Strahldivergenz verhält es sich anders, d. h. in der Ebene parallel zur aktiven Schicht bzw. in der Slow-Axis wird eine fast 10-fach kleinere Strahldivergenz erreicht. Der M2 Parameter in der Ebene parallel zur aktiven Schicht liegt also um mehrere Größenordnungen über dem M2 Wert in der Ebene senkrecht zur aktiven Schicht.Due to the beam characteristic described above, the beam has a large difference in the beam quality in both directions perpendicular to and parallel to the active layer. The term beam quality is described by the M 2 parameter. M 2 is defined by the factor with which the beam divergence of the diode laser beam is above the beam divergence of a diffraction-limited beam of the same diameter. In the case shown above, in the plane parallel to the active layer, there is a beam diameter that is a factor of 10,000 above the beam diameter in the vertical plane. The beam divergence behaves differently, ie in the plane parallel to the active layer or in the slow axis, an almost 10-fold smaller beam divergence is achieved. The M 2 parameter in the plane parallel to the active layer is thus several orders of magnitude above the M 2 value in the plane perpendicular to the active layer.

Ein mögliches Ziel einer Strahlformung ist es, einen Strahl mit nahezu gleichen M2 Werten in beiden Ebenen, d. h. senkrecht und parallel zur aktiven Schicht zu erreichen. Bekannt sind derzeit folgende Verfahren zur Umformung der Strahlgeometrie durch die eine Annäherung der Strahlqualitäten in den beiden Hauptebenen des Strahles erreicht wird.One possible goal of beamforming is to achieve a beam with nearly equal M 2 values in both planes, ie perpendicular and parallel to the active layer. The following methods are currently known for reshaping the beam geometry, by which the beam qualities in the two principal planes of the beam are approached.

Mittels eines Faserbündels lassen sich linienförmige Strahlquerschnitte durch Umordnen der Fasern zu einem kreisrunden Bündel zusammenfassen. Solche Verfahren sind z. B. in den US-Patentschriften 5 127 068 , 4 763 975 , 4 818 062 , 5 268 978 sowie 5 258 989 beschrieben.By means of a fiber bundle, linear beam cross-sections can be combined by rearranging the fibers to form a circular bundle. Such methods are for. Tie U.S. Patent 5,127,068 . 4,763,975 . 4,818,062 . 5,268,978 such as 5,258,989 described.

Daneben besteht die Technik des Strahldrehens, bei dem die Strahlung einzelner Emitter um 90° gedreht wird, um so eine Umordnung vorzunehmen bei der eine Anordnung der Strahlen in Richtung der Achse der besseren Strahlqualität erfolgt. Zu diesem Verfahren sind folgende Anordnungen bekannt: US 5 168 401 , EP 0 484 276 , DE 4 438 368 . Allen Verfahren ist gemein, dass die Strahlung eines Diodenlasers nach dessen Kollimation in der Fast-Axis-Richtung, um 90° gedreht wird um eine Slow-Axis-Kollimation mit einer gemeinsamen Zylinderoptik vorzunehmen. In Abwandlung der genannten Verfahren ist auch eine durchgehende Linienquelle denkbar (z. B. die eines in Fast-Axis-Richtung kollimierten Diodenlasers hoher Belegungsdichte), deren Strahlprofil (Linie) aufgeteilt wird und in umgeordneter Form hinter dem optischen Element vorliegt.In addition, there is the technique of beam rotation, in which the radiation of individual emitters is rotated by 90 °, so as to make a rearrangement in which an arrangement of the rays in the direction of the axis of the better beam quality. The following arrangements are known for this method: US 5,168,401 . EP 0 484 276 . DE 4 438 368 , All methods have in common that the radiation of a diode laser after its collimation in the fast-axis direction, is rotated by 90 ° to make a slow-axis collimation with a common cylinder optics. In a modification of the above-mentioned methods, a continuous line source is also conceivable (for example, that of a high-density diode laser collimated in the fast-axis direction) whose beam profile (line) is divided and present in rearranged form behind the optical element.

Daneben besteht die Möglichkeit, ohne eine Drehung des Strahles eine Umordnung der Strahlung einzelner Emitter vorzunehmen, wobei durch z. B. durch den parallelen Versatz (Verschieben) mittels paralleler Spiegel eine Umordnung der Strahlung erreicht wird ( WO 95/15510 ). Eine Anordnung, die sich ebenfalls der Technik des Umordnens bedient, ist in DE 195 00 53 und DE 19 5 44 488 beschrieben. Hierbei wird die Strahlung eines Diodenlaserbarrens in verschiedene Ebenen abgelenkt und dort einzeln kollimiert.In addition, it is possible to make a reordering of the radiation of individual emitters without rotation of the beam, wherein z. B. by the parallel displacement (shifting) by means of parallel mirrors a rearrangement of the radiation is achieved ( WO 95/15510 ). An arrangement that also uses the technique of rearranging is in DE 195 00 53 and DE 19 5 44 488 described. In this case, the radiation of a diode laser bar is deflected into different planes and collimated individually there.

Die Nachteile des Standes der Technik lassen sich u. a. dahingehend zusammenfassen, dass bei fasergekoppelten Diodenlasern meist ein Strahl mit sehr unterschiedlichen Strahlqualitäten in beiden Achsrichtungen in die Faser eingekoppelt wird. Bei einer kreisrunden Faser bedeutet dies, dass in einer Achsrichtung die mögliche numerische Apertur oder der Faserdurchmesser nicht genutzt wird. Dies führt zu erheblichen Verlusten bei der Leistungsdichte, sodass in der Praxis eine Beschränkung auf ca. 104 W/cm2 erfolgt.The disadvantages of the prior art can be summarized inter alia to the effect that in fiber-coupled diode lasers usually a beam with very different beam qualities in both axial directions is coupled into the fiber. For a circular fiber, this means that the possible numerical aperture or fiber diameter is not used in one axial direction. This leads to considerable losses in the power density, so that in practice a restriction to about 104 W / cm 2 takes place.

Bei den genannten bekannten Verfahren müssen weiterhin teilweise erhebliche Weglängenunterschiede kompensiert werden. Dies geschieht meist durch Korrekturprismen, die Fehler nur begrenzt ausgleichen können. Vielfachreflexionen stellen weiterhin erhöhte Anforderungen an Justagegenauigkeit, Fertigungstoleranzen sowie Bauteilstabilität ( WO 95/15510 ). Reflektierende Optiken (z. B. aus Kupfer) verfügen über hohe Absorptionswerte.In the case of the known methods mentioned, considerable path length differences must continue to be compensated. This is usually done by correction prisms, which can compensate for errors only limited. Multiple reflections continue to place increased demands on alignment accuracy, manufacturing tolerances and component stability ( WO 95/15510 ). Reflective optics (eg made of copper) have high absorption values.

Bekannt ist weiterhin eine Laseroptik der gattungsbildenden Art zum Umformen wenigstens eines Laserstrahlenbündels, unter Verwendung von wenigstens zwei im Strahlengang aufeinander folgend angeordneten optischen Umformelementen, von denen wenigstens ein Umformelement als sogenannter Plattenfächer ausgebildet ist ( DE 197 05 574 A1 ).Also known is a laser optics of the generic type for reshaping at least one laser beam, using at least two sequentially arranged in the beam path optical forming elements, of which at least one forming element is designed as a so-called disk fan ( DE 197 05 574 A1 ).

Aufgabe der Erfindung ist es, eine Laseroptik der gattungsbildenden Art im Sinne einer Verbesserung der Fokussierung der Laserstrahlung weiter zu bilden. Zur Lösung dieser Aufgabe ist eine Laseroptik entsprechend dem Patentanspruch 1 ausgebildet.task The invention is a laser optics of the generic type in the sense of improving the focusing of the laser radiation continue to form. To solve this problem, a laser optics is corresponding formed according to claim 1.

Unter „Plattenfächer” ist im Sinne der Erfindung ein vom Laserlicht durchstrahltes optisches Element zu verstehen, welches sich aus mehreren Platten oder plattenförmigen Elementen aus einem lichtleitenden Material, vorzugsweise Glas, zusammensetzt, die stapelartig aneinander anschließen und fächerartig gegen einander verdreht sind. Jede Platte oder jedes plattenförmige Element bilden an einander gegenüberliegenden Seiten eine Plattenschmalseite für den Lichteintritt oder -austritt und sind unter Berücksichtigung der Anordnung der Emitter und der Divergenz, die die Laserstrahlen in der Slow-Axis aufweisen, so positioniert und ausgebildet, dass an den Oberflächenseiten innerhalb der Platte eine Reflexion des jeweiligen Laserstrahl nicht erfolgt.Under "disk fans" is in the context of the invention, an optical element irradiated by the laser light to understand, which consists of several plates or plate-shaped Elements made of a light-conducting material, preferably glass, that connect and stack together fan-shaped against each other are twisted. Every plate or Each plate-shaped element form on opposite sides Sides a narrow plate side for the light entrance or exit and are taking into account the arrangement the emitter and the divergence that the laser beams in the slow axis have, positioned and formed so that on the surface sides within the plate does not reflect the respective laser beam he follows.

Unter „Oberflächenseiten” sind im Sinne der Erfindung jeweils die großen Plattenseiten zu verstehen.Under "Surface Pages" are within the meaning of the invention in each case the large plate sides to understand.

Unter „Plattendicke” ist im Sinne der Erfindung der Abstand zu verstehen, den die beiden Oberflächenseiten der jeweiligen Platte von einander aufweisen.Under "plate thickness" is in the sense of the invention, the distance to understand the two surface sides have the respective plate from each other.

Der Plattenfächer kann durch Zusammensetzen aus einzelnen Platten oder plattenförmigen Elementen oder aber auch einstückig, beispielsweise als Formteil mit entsprechenden optischen Trenn- oder Zwischenschichten hergestellt sein.Of the Plate compartments can be made by assembling individual plates or plate-shaped elements or else in one piece, For example, as a molded part with appropriate optical separation or Be prepared intermediate layers.

Mit den im Lichtweg hintereinander angeordneten Umformelementen erfolgt bei der Laseroptik eine Auffächerung des Laserstrahles in in unterschiedlichen Ebenen angeordnete Einzelstrahlen und ein anschließendes Übereinanderschieben dieser Einzelstrahlen.With the successively arranged in the light path forming elements takes place in laser optics, a fanning out of the laser beam arranged in different planes and a single rays then superimposing these individual beams.

Die Erfindung wird im folgenden anhand der Figuren an Ausführungsbeispielen näher erläutert. Es zeigen:The Invention will be described below with reference to the figures of embodiments explained in more detail. Show it:

1 in vereinfachter Darstellung einen Diodenlaser, bestehend aus einer eine Vielzahl von Laserelementen oder Laserchips aufweisenden Laserdiodenanordnung und einer im Strahlengang dieser Laserdiodenanordnung angeordneten von zwei Plattenfächern gebildeten optischen Anordnung zur Formung des Laserstrahls, wobei die Zeichenebene dieser Figur senkrecht zur aktiven Schicht der Diodenelemente liegt; 1 in a simplified representation of a diode laser, consisting of a plurality of laser elements or laser chips having laser diode arrangement and arranged in the beam path of this laser diode array formed by two disc compartments optical arrangement for shaping the laser beam, wherein the plane of said figure is perpendicular to the active layer of the diode elements;

2 den Diodenlaser der 1, wobei die Zeichenebene dieser Figur parallel zu der aktiven Schicht der Diodenelement liegt; 2 the diode laser the 1 wherein the plane of the drawing of this figure is parallel to the active layer of the diode element;

3 und 4 in vereinfachter Darstellung die Ausbildung des Laserstrahls vor dem Umformen, beim Umformen und nach dem Umformen; 3 and 4 in a simplified representation, the formation of the laser beam before forming, during forming and after forming;

5 und 6 einen der optischen Plattenfächer in Seitenansicht sowie in Draufsicht; 5 and 6 one of the optical disc compartments in side view and in plan view;

7 und 8 einen Diodenlaser ähnlich dem Diodenlaser der 1 und 2, jedoch mit einer im Strahlengang nach den beiden Plattenfächern angeordneten Fokussieroptik bestehend aus einer Zylinderlinse und einer sphärischen Sammellinse, wobei die Zeichenebene der 7 senkrecht zur aktiven Schicht und die Zeichenebene der 8 parallel zur aktiven Schicht der Diodenelemente liegt; 7 and 8th a diode laser similar to the diode laser of 1 and 2 , However, with an arranged in the beam path to the two disc compartments focusing optics consisting of a cylindrical lens and a spherical converging lens, wherein the plane of the drawing 7 perpendicular to the active layer and the plane of the drawing 8th is parallel to the active layer of the diode elements;

9 und 10 in ähnlicher Darstellung wie 1 und 2 eine weitere mögliche Ausführungsform, bei der im Strahlengang lediglich ein Plattenfächer und daran anschließend ein gestufter Spiegel (Treppenspiegel) vorgesehen ist. 9 and 10 in a similar representation as 1 and 2 a further possible embodiment, in which only a plate fan and then a stepped mirror (staircase level) is provided in the beam path.

Der in den 1 und 2 dargestellte Diodenlaser 1 besteht im wesentlichen aus einer Laserdiodenanordnung 2, die an einem u. a. auch als Wärmesenke ausgebildeten Substrat 3 ein Laserbarren 4 mit einer Vielzahl von Laserlicht aussendenden Emittern 4.1 aufweist, die gleichsinnig orientiert sind und insbesondere auch mit ihren aktiven Schichten in einer gemeinsamen Ebene senkrecht zur Zeichenebene der 1 bzw. parallel zur Zeichenebene der 2 liegen, d. h. in einer X-Z-Ebene, die durch die in den Figuren angegebene X-Achse und Z-Achse definiert ist.The in the 1 and 2 Diode laser shown 1 consists essentially of a laser diode array 2 , on a substrate, which is also designed as a heat sink 3 a laser bar 4 with a variety of laser emitting emitters 4.1 has, which are oriented in the same direction and in particular with their active layers in a common plane perpendicular to the plane of the 1 or parallel to the plane of the 2 lie, ie in an XZ plane, which is defined by the X-axis and Z-axis indicated in the figures.

Im Strahlengang der von dem Laserbarren 4 ausgehenden Laserstrahlung in Form eines Strahlenbündels aus Einzelstrahlen 5 befindet sich ein Fast-Axis-Kollimator 6, der beispielsweise von einer mit ihrer Achse in der X-Achse liegenden Zylinderlinse gebildet ist und eine Kollimation der Laserstrahlung bzw. der Einzelstrahlen 5 in ihrer sog. Fast-Axis, d. h. in der Y-Achse und damit in der Y-Z-Ebene senkrecht zur aktiven Schicht wirkt, in der die Strahlung der Emitter 4.1 des Laserbarrens 4 die größere Divergenz aufweist. Nach dem Fast-Axis-Kollimator 6 steht die Laserstrahlung im wesentlichen als schmalbandiges Strahlenbündel aus den Einzelstrahlen 5 zur Verfügung, wie dies in der 3 angedeutet ist.In the beam path of the laser bar 4 outgoing laser radiation in the form of a beam of single beams 5 there is a fast-axis collimator 6 for example, one of formed with its axis in the X-axis cylinder lens and a collimation of the laser radiation and the individual beams 5 In its so-called. Fast axis, ie in the Y-axis and thus in the YZ plane perpendicular to the active layer acts, in which the radiation of the emitter 4.1 of the laser bar 4 which has greater divergence. After the fast axis collimator 6 the laser radiation is essentially a narrow-band beam from the individual beams 5 available, as in the 3 is indicated.

Auf den Fast-Axis-Kollimator 6 folgend ist im Strahlengang der Laserstrahlung eine optische Einrichtung 7 zur weiteren Formung des Laserstrahlbündels vorgesehen, und zwar beispielsweise in der Weise, dass das Strahlenbündel (3 – Position a) zunächst in Einzelstrahlen 5' in verschiedenen Ebenen parallel zur X-Z-Ebene zertrennt bzw. aufgefächert wird, die von Ebene zu Ebene auch in der X-Achse gegen einander versetzt sind (3 – Position b), und diese Einzelstrahlen 5' dann diagonal übereinander geschoben werden, wie dies in der 4 mit 5'' schematisch gezeigt ist.On the fast axis collimator 6 Following is in the beam path of the laser radiation, an optical device 7 provided for further shaping of the laser beam, for example, in such a way that the beam ( 3 - Position a) first in single beams 5 ' is split or fanned out in different planes parallel to the XZ plane, which are also offset from one another in the X-axis from plane to plane ( 3 - Position b), and these individual beams 5 ' then be pushed diagonally over each other, as in the 4 With 5 '' is shown schematically.

Die optische Einrichtung 7 besteht hierfür aus zwei Plattenfächern 8 und 9, die bei der dargestellten Ausführungsform grundsätzlich identisch ausgebildet sind, allerdings um 90° um die Z-Achse gedreht beidseitig von einer die Z-Achse senkrecht schneidenden gedachten Mittelebene so angeordnet sind, dass beide Plattenfächer jeweils mit einer gleichartig ausgebildeten Fächerseite 10 von dieser Mittelebene wegweisen und mit einer gleichartig ausgebildeten Fächerseite 11 dieser Mittelebene zugewandt sind. Der Aufbau beispielsweise des Plattenfächers 8 ist in den 5 und 6 im Detail dargestellt. Der Plattenfächer 9 ist in der gleichen Weise ausgebildet, sodass die nachfolgende Beschreibung auch für diesen Plattenfächer gilt.The optical device 7 consists of two plate compartments 8th and 9 , which are basically identical in the illustrated embodiment, but rotated by 90 ° about the Z axis on both sides of a Z-axis perpendicular intersecting imaginary center plane are arranged so that both disc compartments each with a similarly designed fan side 10 pointing away from this median plane and with a similarly trained fan side 11 face this median plane. The structure of, for example, the disk fan 8th is in the 5 and 6 shown in detail. The disk fan 9 is designed in the same way, so that the following description also applies to this disk fan.

Der Plattenfächer 8 besteht aus mehreren dünnen Platten 12, die aus einem Licht leitenden Material, beispielsweise Glas hergestellt sind und bei der dargestellten Ausführungsform jeweils einen quadratischen Zuschnitt aufweisen. Jede Platte 12 besitzt zwei plane Plattenschmalseiten 13 und 14, die die Seiten für den Eintritt und den Austritt der Laserstrahlen bilden und hierfür optisch hochwertig ausgebildet, d. h. poliert und mit einer Anti-Reflexionsschicht versehen sind. Die beiden Seiten 13 und 14 liegen sich an jeder Platte 12 gegenüber und sind bei der dargestellten Ausführungsform parallel zueinander angeordnet. Bei der Darstellung der 5 und 6 ist davon ausgegangen, dass der Plattenfächer 8 von insgesamt fünf Platten 12 gebildet ist. Theoretisch sind auch weniger oder mehr als fünf Platten 12 möglich.The disk fan 8th consists of several thin plates 12 , which are made of a light-conducting material, such as glass and each having a square blank in the illustrated embodiment. Every plate 12 has two flat slab sides 13 and 14 , which form the sides for the entry and exit of the laser beams and this optically high quality formed, ie polished and provided with an anti-reflection layer. The two sides 13 and 14 lie on each plate 12 opposite and are arranged parallel to each other in the illustrated embodiment. In the presentation of 5 and 6 it is assumed that the disk fan 8th of a total of five plates 12 is formed. Theoretically, fewer or more than five plates are 12 possible.

Die Platten 12 schließen mit ihren Oberflächenseiten 12', an denen sie ebenfalls poliert sind, stapelartig aneinander an, wobei zwischen jeweils zwei benachbarten Platten 12 ein Spalt 15 vorgesehen ist, der von einem Medium, welches einen im Vergleich zum Material der Platten 12 kleineren optischen Brechungsindex aufweist, ausgefüllt ist. Der Spalt 15 ist beispielsweise ein Luftspalt, bevorzugt ist der jeweilige Spalt 15 aber mit einem die Platten 12 verbindenden Material, beispielsweise mit einem optischen Kitt ausgefüllt.The plates 12 close with their surface sides 12 ' where they are also polished, stacked against each other, with each between two adjacent plates 12 A gap 15 is provided by a medium, which in comparison to the material of the plates 12 smaller optical refractive index is filled. The gap 15 If, for example, an air gap, the respective gap is preferred 15 but with one the plates 12 connecting material, filled for example with an optical cement.

Die Platten 12 sind fächerartig gegeneinander versetzt. Bei der dargestellten Ausführungsform sind die Platten 12 hierfür um eine gemeinsame Fächerachse A gegen einander gedreht, wobei außerdem jeweils ein vorgegebener Bereich 16 der Plattenschmalseite 13, nämlich bei der dargestellten Ausführungsform die Mitte jeder Plattenschmalseite 13 jeder Platte 12 zusammen mit dem entsprechenden Bereichen 16 der übrigen Platten auf der gemeinsamen Achse A liegt, die senkrecht zu den Ebenen der Oberflächenseiten 12' der Platten 12 liegt und damit auch senkrecht zu einer parallel zu diesen Oberflächenseiten angeordneten, gedachten Mittelebene M des Plattenfächers 8. Um die Achse A bzw. um ihre Bereiche 16 sind die einzelnen Platten 12 derart fächerartig gegeneinander verdreht oder aufgefächert, dass die Ebenen E der Plattenschmalseiten 13 zweier benachbarter Platten sich in der Achse A schneiden und einen Winkel α miteinander einschließen, der in der 5 übertrieben groß dargestellt ist und beispielsweise in der Größenordnung von 1–5° liegt. Die mittlere Platte 12 liegt mit der Ebene E ihrer Plattenschmalseite 13 senkrecht zu einer Längserstreckung L oder optischen Achse des Plattenfächers 8. Die Gesamtheit der Plattenschmalseiten 13 aller Platten 12 bildet die Plattenfächerseite 10. Entsprechend der Anordnung der Plattenschmalseiten 13 sind auch die Plattenschmalseiten 14, die in ihrer Gesamtheit die Plattenfächerseite 11 bilden, so relativ zueinander angeordnet, dass die Ebenen E' zweier benachbarter Plattenseiten 14 wiederum den Winkel α miteinander einschließen. Die Ebenen E und E' der Plattenschmalseiten 13 und 14 liegen senkrecht zu den Ebenen der Oberflächenseiten 12'.The plates 12 are fan-shaped offset from each other. In the illustrated embodiment, the plates are 12 for this purpose a common fan axis A is rotated against each other, wherein also each a predetermined range 16 the narrow side of the panel 13 namely, in the illustrated embodiment, the center of each narrow plate side 13 every plate 12 along with the corresponding areas 16 the remaining plates lie on the common axis A, which is perpendicular to the planes of the surface sides 12 ' the plates 12 is located and thus perpendicular to a parallel to these surface sides arranged, imaginary center plane M of the disk fan 8th , Around the axis A or around its areas 16 are the individual plates 12 such a fan-shaped twisted or fanned out that the planes E of the narrow sides of the plate 13 two adjacent plates intersect in the axis A and enclose an angle .alpha 5 is exaggerated in size and is for example in the order of 1-5 °. The middle plate 12 lies with the plane E of her slab narrow side 13 perpendicular to a longitudinal extent L or optical axis of the disk fan 8th , The entirety of the narrow plates 13 all plates 12 makes the disk fan side 10 , According to the arrangement of the narrow plates 13 are also the narrow plates 14 , in their entirety the disk fan side 11 form, so arranged relative to each other, that the planes E 'of two adjacent plate sides 14 again enclose the angle α with each other. The planes E and E 'of the slab sides 13 and 14 lie perpendicular to the planes of the surface sides 12 ' ,

Der Plattenfächer 8 ist weiterhin so ausgebildet, da die an die mittlere Platte 12 anschließenden Platten jeweils symmetrisch gedreht bzw. aufgefächert sind, d. h. für die für die 5 gewählte Darstellung die auf der einen Plattenschmalseite der mittleren Platte 12 vorgesehenen Platten 12 mit ihren Plattenschmalseiten 13 im Gegenuhrzeigersinn und die auf der anderen Plattenschmalseite der mittleren Platte 12 anschließenden Platten mit ihren Plattenschmalseiten 13 gegenüber der mittleren Platte im Uhrzeigersinn gedreht sind.The disk fan 8th is still designed so as to the middle plate 12 subsequent plates are each symmetrically rotated or fanned out, ie for the for the 5 selected representation of the one narrow side of the medium plate 12 provided plates 12 with their narrow sides 13 in the counterclockwise direction and on the other narrow plate side of the middle plate 12 subsequent plates with their narrow sides 13 are rotated clockwise relative to the middle plate.

Die Breite des jeweiligen Spaltes 15 ist möglichst gering, aber ausreichend groß gewählt (z. B. einige 1/100 mm), um sicherzustellen, dass auch bei einer leichten Verwölbungen einer oder mehrerer Platten 12 ein direkter Berührungskontakt zwischen zwei benachbarten Platten 12 nicht entsteht und somit Strahlungsverluste vermieden werden, die an derartigen Berührungsstellen auftreten und zur Reduzierung der Effizienz des Systems führen könnten.The width of the respective gap 15 is chosen as small as possible, but sufficiently large (eg, some 1/100 mm), to ensure that even at a slight warping of one or more plates 12 a direct physical contact between two adjacent plates 12 does not arise and thus radiation losses are avoided, which occur at such points of contact and could lead to the reduction of the efficiency of the system.

Der Plattenfächer 8 ist bei dem Diodenlaser 1 derart angeordnet, dass er mit seiner Längsachse L in der Z-Achse liegt und die Mittelachse M in der Y-Z-Ebene, wobei die Plattenfächerseite 10 der Laserdiodenanordnung 2 zugewandt ist, das Strahlenbündel aus den Laserstrahlen 5 also an der Plattenfächerseite 10 in diesen Plattenfächer eintritt. Der Plattenfächer 9 ist mit seiner Längsachse L, die senkrecht zur Plattenschmalseite 13 der mittleren Platte 12 liegt und die Achse A senkrecht schneidet ebenfalls in der Z-Achse angeordnet, und zwar achsgleich mit der Achse L des Plattenfächers 8, wobei die Plattenfächerseite 11 des Plattenfächers 9 der Plattenfächerseite 11 des Plattenfächers 8 zugewandt ist. Die Mittelebene M des Plattenfächers 9 liegt in der X-Z-Ebene, sodass der Plattenfächer 9 gegenüber dem Plattenfächer 8 um 90° um die Z-Achse gedreht wird.The disk fan 8th is at the diode laser 1 arranged so that it lies with its longitudinal axis L in the Z-axis and the central axis M in the YZ plane, wherein the disc fan side 10 the laser diode arrangement 2 facing, the beam from the laser beams 5 So on the disk fan side 10 enters this disk tray. The disk fan 9 is with its longitudinal axis L, which is perpendicular to the narrow plate side 13 the middle plate 12 is located and the axis A perpendicularly also intersects in the Z-axis, namely coaxially with the axis L of the disk fan 8th , where the disk fan side 11 of the disk fan 9 the disk fan side 11 of the disk fan 8th is facing. The median plane M of the disc fan 9 lies in the XZ plane, so the disk fan 9 opposite the disk fan 8th rotated by 90 ° about the Z-axis.

Die Besonderheit der Laseroptik 7 besteht zunächst darin, dass an dem Plattenfächer 8, der auf den Fast-Axis-Kollimator 6 im Strahlengang folgt, jedem Emitter 4.1 des Laserbarrens 4 eine eigene Platte 12 zugeordnet ist, und zwar derart, dass der im Fast-Axis-Kollimator 6 kollimierte Laserstrahl 5 jedes Emitters 4.1 mittig und senkrecht auf die diesem Emitter zugewandte plane Plattenschmalseite 13 auftrifft, der Achsabstand, den die Emitter 4.1 in der Slow-Axis der Laserstrahlen 5, d. h. bei der Darstellung der 1 und 2 in der X-Achse voneinander besitzen, gleich demjenigen Abstand ist, den die parallel zu den Oberflächenseite 12' orientierten Mittelebenen zweier benachbarter Platten 12 voneinander besitzen.The special feature of the laser optics 7 first there is that on the disk fan 8th pointing to the fast axis collimator 6 follows in the beam path, every emitter 4.1 of the laser bar 4 a separate plate 12 is assigned, in such a way that in the near-axis collimator 6 collimated laser beam 5 every emitter 4.1 centered and perpendicular to this emitter facing flat plate narrow side 13 impinges, the center distance, the emitter 4.1 in the slow axis of laser beams 5 , ie in the presentation of the 1 and 2 have in the X-axis of each other, equal to the distance that is parallel to the surface side 12 ' oriented center planes of two adjacent plates 12 own each other.

Weiterhin ist die Plattendicke (Abstand der Oberflächenseiten 12') jeder Platte 12 wenigstens gleich, vorzugsweise aber größer als die Divergenz, die der Laserstrahl 5 des zugehörigen Emitter 4.1 in der Slow-Axis aufweist, d. h. bei der für die 1 und 2 gewählten Darstellung in der X-Achse, und zwar am Austritt der jeweiligen Platte, d. h. an der Plattenstirnseite 14. Hierdurch ist gewährleistet, dass es nicht zu Reflexionen (Totalreflexionen) des jeweiligen Laserstrahls 5 innerhalb der zugehörigen Platte 12 im Bereich der Oberflächenseiten 12' kommt und jeder aus dem Plattenfächer 8 austretende Einzelstrahl 5.1 punktförmig oder im Wesentlichen punktförmig ist.Furthermore, the plate thickness (distance of the surface sides 12 ' ) of each plate 12 at least equal to, but preferably greater than, the divergence of the laser beam 5 of the associated emitter 4.1 in the slow axis, ie in the case of the 1 and 2 selected representation in the X-axis, namely at the exit of the respective plate, ie on the plate face 14 , This ensures that there are no reflections (total reflections) of the respective laser beam 5 within the associated plate 12 in the area of the surface sides 12 ' comes and everyone from the disk fan 8th exiting single jet 5.1 punctiform or substantially punctiform.

In analoger Weise ist dann beispielsweise der im Strahlengang anschließende Plattenfächer 9 so ausgebildet, dass jedem aus einer Platte 12 des Plattenfächers 8 austretenden Laserstrahl 5' eine Platte 12 des Plattenfächers 9 zugeordnet ist, auf jeden Fall aber die Plattendicke der Platten 12 des Plattenfächers 9 wenigstens gleich oder größer ist als die Divergenz, die die durch den Fast-Axis-Kollimator 6 kollimierten Einzelstrahlen 5.2 am Austritt aus dem Plattenfächer 9 in dieser Fast-Axis, d. h. bei der für die 1 und 2 gewählten Darstellung in der Y-Achse aufweisen.In an analogous manner then, for example, the subsequent in the beam path plate fan 9 designed so that everyone from a plate 12 of the disk fan 8th emerging laser beam 5 ' a plate 12 of the disk fan 9 assigned, but in any case the plate thickness of the plates 12 of the disk fan 9 at least equal to or greater than the divergence given by the near-axis collimator 6 collimated single rays 5.2 at the exit from the disk fan 9 in this fast-axis, ie at the for 1 and 2 selected representation in the Y-axis.

Grundsätzlich besteht auch die Möglichkeit, zumindest den Plattenfächer 8 abweichend von der vorstehend beschriebenen idealen Ausführung so auszubilden, dass jeweils für eine Emittergruppe mit einer kleineren Anzahl von Emittern, beispielsweise für zwei oder maximal drei Emitter 4.1 eine Platte 12 gemeinsam vorgesehen ist, und zwar beispielsweise dann, wenn der Abstand, den die Emitter 4.1 in der Slow-Axis, d. h. in der X-Achse von ein ander aufweisen, kleiner oder gleich der Divergenz der Laserstrahlen 5 in der Slow-Axis ist. Auch in diesem Fall sind die Anordnung so getroffen und die Plattendicke so gewählt, dass keiner der Laserstrahlen 5 der Emitter 4.1 eine Reflexion innerhalb der zugehörigen Platte 12 im Bereich der Oberflächenseiten 12.1 erfährt, die Plattendicke jeder Platte 12 also gleich der Summe des Abstandes zwischen den Emittern 4.1 der jeweiligen Emittergruppe und der Divergenz ist, die diese Emitter bzw. deren Laserstrahlen 5 in der Slow-Axis aufweisen.Basically, it is also possible, at least the disk fan 8th differing from the ideal embodiment described above in such a way that in each case for an emitter group with a smaller number of emitters, for example for two or at most three emitters 4.1 a plate 12 is provided together, for example, when the distance that the emitter 4.1 in the slow axis, ie in the X-axis of another, less than or equal to the divergence of the laser beams 5 is in the slow axis. Also in this case the arrangement is made and the plate thickness chosen so that none of the laser beams 5 the emitter 4.1 a reflection within the associated plate 12 in the area of the surface sides 12.1 learns the plate thickness of each plate 12 ie equal to the sum of the distance between the emitters 4.1 the respective emitter group and the divergence is that these emitters and their laser beams 5 in the slow axis.

Die Länge, die der jeweilige Emitterbarren in Richtung der Slow-Axis, d. h. in Richtung der X-Achse aufweist, beträgt beispielsweise 10 mm. Der Abstand der einzelnen Emitter 4.1 an dem Laserbarren 4 ist dann beispielsweise größer 1 mm und kleiner 3 mm. Die Anzahl der Platten 12 des Plattenfächers 8 liegt beispielsweise im Bereich zwischen drei und zehn Platten.The length which the respective emitter bar has in the direction of the slow axis, ie in the direction of the X axis, is for example 10 mm. The distance of each emitter 4.1 at the laser bar 4 is then, for example, greater than 1 mm and less than 3 mm. The number of plates 12 of the disk fan 8th is for example in the range between three and ten plates.

Der durch den Fast-Axis-Kollimator 6 kollimierte Laserstrahl 5 trifft auf die Plattenfächerseite 13 auf, und zwar im Bereich der Achse A bzw. der Längsachse L.The one by the fast axis collimator 6 collimated laser beam 5 meets the disk fan side 13 on, in the area of the axis A and the longitudinal axis L.

Durch die unterschiedliche Neigung der Plattenschmalseiten 13 und der Plattenseiten 14 wird das eintretende Laserstrahlbündel in die verschiedenen Einzelstrahlen 5' aufgeteilt, die parallel oder im wesentlichen parallel zur Z-Achse an den Plattenseiten 14 aus dem Plattenfächer 8 austreten, wobei die Einzelstrahlen 5' bedingt durch die Brechung an den Plattenschmalseiten 13 und 14 in unterschiedlichen Ebenen parallel zur X-Z-Ebene angeordnet sind.Due to the different inclination of the narrow plates 13 and the plate sides 14 the incoming laser beam is transformed into the different single beams 5 ' split, which is parallel or substantially parallel to the Z-axis on the plate sides 14 from the disk fan 8th emerge, with the single rays 5 ' due to the refraction on the narrow sides of the plate 13 and 14 are arranged in different planes parallel to the XZ plane.

Die einzelnen Einzelstrahlen 5' treten dann jeweils an einer Plattenseite 14 in den Plattenfächer 9 ein. Durch die Brechung an den Plattenschmalseiten 13 und 14 treten sämtliche Einzelstrahlen 5' an den Plattenschmalseiten 13 der Platten 12 des Plattenfächers 9 aus, und zwar im Bereich der dort parallel zur Y-Achse liegenden Achse A, sodass die Einzelstrahlen 5' diagonal verschoben übereinander angeordnet sind, wie dies in der 4 dargestellt ist.The individual single rays 5 ' then each occur on one side of the plate 14 in the disk trays 9 one. Due to the refraction on the narrow sides of the plate 13 and 14 occur all single rays 5 ' on the narrow sides of the plate 13 the plates 12 of the plat tenfächers 9 in the area of the axis A parallel to the Y-axis, so that the individual beams 5 ' are arranged diagonally on top of each other, as shown in the 4 is shown.

Die 7 und 8 zeigen einen Diodenlaser 1a, der sich von dem Diodenlaser 1 lediglich dadurch unterscheidet, dass im Strahlengang nach der optischen Anordnung 7 ein Slow-Axis-Kollimator 17 in Form einer Zylinderlinse vorgesehen ist, die mit ihrer Achse parallel zur Y-Achse angeordnet ist. Durch diesen Kollimator 17 wird die Divergenz, die die Einzelstrahlen 5' in der Slow-Axis, d. h. in der X-Achse aufweisen, korrigiert, sodass anschließend mehrere, in Richtung der Y-Achse übereinander angeordnete kollimierte Einzelstrahlen 5'' vorliegen, die mittels einer Fokussieroptik, d. h. mittels der sphärischen Sammellinse 18 fokussiert werden.The 7 and 8th show a diode laser 1a that is different from the diode laser 1 only differs in that in the beam path after the optical arrangement 7 a slow-axis collimator 17 is provided in the form of a cylindrical lens which is arranged with its axis parallel to the Y-axis. Through this collimator 17 is the divergence that the single rays 5 ' corrected in the slow axis, ie in the X axis, so that subsequently several collimated individual beams arranged one above the other in the direction of the Y axis are corrected 5 '' present, by means of a focusing optics, ie by means of the spherical condenser lens 18 be focused.

Die 9 und 10 zeigen als weitere Ausführungsform einen Diodenlaser 1c, der sich von dem Diodenlaser 1 der 1 und 2 nur dadurch unterscheidet, dass anstelle des im Strahlengang zweiten Plattenfächers 9 zum diagonalen Zusammenschieben des Strahlenbündels der Einzelstrahlen 5' (Position b der 3) in das Strahlenbündel der Einzelstrahlen 5'' (4) ein sog. Treppenspiegel 22 vorgesehen ist. Dieser besitzt eine Vielzahl von Spiegelflächen 23, die derart treppenartig in der gegeneinander versetzt sind, dass durch Reflexion an den Spiegelflächen das Umformen des Strahlenbündels der Einzelstrahlen 5' in das Strahlenbündel der Einzelstrahlen 5'' erfolgt.The 9 and 10 show as a further embodiment, a diode laser 1c that is different from the diode laser 1 of the 1 and 2 only differs in that instead of the second plate fan in the beam path 9 for diagonally pushing together the beam of the individual beams 5 ' (Position b of the 3 ) in the beam of single rays 5 '' ( 4 ) a so-called staircase 22 is provided. This has a variety of mirror surfaces 23 , Which are offset in such a stepped manner in relation to each other, that by reflection on the mirror surfaces, the forming of the beam of the individual beams 5 ' into the beam of single rays 5 '' he follows.

Der Plattenfächer 8 ist auch bei der in den 9 und 10 dargestellten Ausführungsform wiederum in gleicher Weise ausgebildet, wie dies vorstehend für den Plattenfächer 8 der 1 und 2 beschrieben wurde. Sämtlichen Ausführungen der Erfindung ist also gemeinsam, dass zumindest der erste, im Strahlengang angeordnete Plattenfächer 8 in Bezug auf seine Platten 12 derart angeordnet und ausgebildet ist, dass die an der Plattenschmalseite 13 eintretenden Einzel- oder Laserstrahlen 5 des Laserstrahlbündels ohne Reflexion, insbesondere auch ohne Totalreflexion innerhalb der jeweiligen Platte an der Schmalseite 14 dieser Platte als Einzelstrahl 5.1 austreten.The disk fan 8th is also in the in the 9 and 10 illustrated embodiment, in turn, formed in the same manner as above for the disk fan 8th of the 1 and 2 has been described. All embodiments of the invention is therefore common that at least the first, arranged in the beam path plate fan 8th in terms of his plates 12 is arranged and designed such that the at the narrow side of the plate 13 entering single or laser beams 5 the laser beam without reflection, especially without total reflection within the respective plate on the narrow side 14 this plate as a single beam 5.1 escape.

Die Erfindung wurde voranstehend an Ausführungsbeispielen beschrieben. Es versteht sich, dass zahlreiche Änderungen sowie Abwandlungen möglich sind, ohne dass dadurch der der Erfindung zugrundeliegende Erfindungsgedanke verlassen wird.The The invention has been described above with reference to exemplary embodiments. It is understood that numerous changes as well as modifications possible are, without thereby the inventive idea underlying the invention will leave.

So ist es beispielsweise auch möglich, dass die Platten 12 der Plattenfächer 8 und 9 jeweils um eine gemeinsame Fächerachse A gegeneinander verdreht sind, die in der Ebene der Plattenschmalseite 13 liegt. Auch hier sind andere Ausführungen denkbar, beispielsweise können die Platten der Plattenfächer auch um mehrere Achsen gegeneinander fächerartig verdreht sein, und zwar jeweils zwei Platten um eine Achse. Weiterhin kann die Lage der Achse bzw. Achsen auch anders gewählt sein als vorstehend beschrieben.For example, it is also possible that the plates 12 the disk fan 8th and 9 are each rotated about a common fan axis A against each other, in the plane of the narrow plate side 13 lies. Again, other designs are conceivable, for example, the plates of the disc trays can be rotated around several axes against each other fan-shaped, in each case two plates around an axis. Furthermore, the position of the axis or axes can also be chosen differently than described above.

Vorstehend wurde davon ausgegangen, dass der Fast-Axis-Kollimator 6 ein für sämtliche Emitter 4.1 gemeinsames optisches Element ist. Grundsätzlich besteht die Möglichkeit, für jeden Emitter 4.1 oder für jeweils eine Gruppe von wenigen Emittern, beispielsweise von zwei oder drei Emittern 4.1, einen eigenständigen Fast-Axis-Kollimator vorzusehen, der dann bevorzugt individuell justierbar angeordnet ist, d. h. beispielsweise in wenigstens einer Achse (z. B. X-Achse, Y-Achse und/oder Z-Achse) verstellbar und um wenigstens eine Achse (z. B. X-Achse, Y-Achse und/oder Z-Achse) schwenkbar ist.It was assumed above that the fast axis collimator 6 one for all emitters 4.1 common optical element. Basically, there is a possibility for every emitter 4.1 or for each group of a few emitters, for example of two or three emitters 4.1 to provide an independent fast-axis collimator, which is then preferably arranged individually adjustable, ie adjustable in at least one axis (eg X-axis, Y-axis and / or Z-axis) and at least one axis ( eg X-axis, Y-axis and / or Z-axis) is pivotable.

1, 1a, 1c1, 1a, 1c
Diodenlaserdiode laser
2, 2a2, 2a
LaserdiodenanordnungThe laser diode
33
Substratsubstratum
44
Laserbarrenlaser bars
55
bandförmiger Laserstrahlribbon-shaped laser beam
5'5 '
Einzelstrahlsingle beam
66
Fast-Axis-KollimatorFast axis collimator
77
optische Anordnungoptical arrangement
8, 98th, 9
Plattenfächerdrive bays
10, 1110 11
PlattenfächerseiteDisk trays Page
1212
Platteplate
13, 1413 14
Plattenseiteplate side
1515
Spaltgap
1616
PunktPoint
1717
Slow-Axis-KollimatorSlow-axis collimator
1818
Sammellinseconverging lens
1919
Fokussieroptikfocusing optics
2222
Treppenspiegelstaircase mirror
2323
Spiegelflächemirror surface

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Claims (12)

Laseroptik zum Umformen wenigstens eines Laserstrahlbündels bestehend aus mehreren, jeweils von einem Emitter (4) erzeugten Laserstrahlen (5), wobei die Emitter (4.1) in einer Slow-Axis (X-Achse) der Laserstrahlen (5) gegeneinander versetzt und voneinander beabstandet sind, mit wenigstens einem im Strahlengang des Laserstrahlbündels angeordneten Plattenfächer (8), der aus mehreren Platten (12) aus einem lichtleitendem Material besteht, die in Richtung senkrecht zu ihren Oberflächenseiten (12') versetzt angeordnet sind und mit ihren Oberflächenseiten (12') in Ebenen angeordnet sind, die die Strahlenrichtung (Z-Achse) sowie die Fast-Axis (Y-Achse) der Laserstrahlen (5) einschließen, wobei die Platten (12) jeweils eine erste vorzugsweise plane Plattenschmalseite (13) für einen Strahleintritt und dieser gegenüberliegend eine zweite vorzugsweise plane Plattenschmalseite (14) für den Strahlaustritt bilden, dadurch gekennzeichnet, dass die Platten (12) des Plattenfächers (8) so angeordnet sind, dass jedem Emitter (4) oder jeweils einer Gruppe aus maximal drei Emittern (4) eine eigenständige Platte (12) zugeordnet ist, und dass die Plattendicke der Platten (12) so gewählt ist, dass die Laserstrahlen (5) jede Platte ohne Reflexion im Bereich der Plattenoberflächenseiten (12,) durchstrahlen.Laser optics for forming at least one laser beam bundle consisting of several, each of an emitter ( 4 ) generated laser beams ( 5 ), the emitters ( 4.1 ) in a slow axis (X-axis) of the laser beams ( 5 ) are offset from each other and spaced apart, with at least one arranged in the beam path of the laser beam disk compartments ( 8th ), which consists of several plates ( 12 ) consists of a photoconductive material which is perpendicular to their surface sides ( 12 ' ) are arranged offset and with their surface sides ( 12 ' ) are arranged in planes which the beam direction (Z-axis) and the fast axis (Y-axis) of the laser beams ( 5 ), the plates ( 12 ) each have a first preferably flat narrow side panel ( 13 ) for a jet entry and this opposite a second preferably flat narrow plate side ( 14 ) for the jet exit, characterized in that the plates ( 12 ) of the disk fan ( 8th ) are arranged so that each emitter ( 4 ) or one group each out of a maximum of three emitters ( 4 ) an independent plate ( 12 ) and that the plate thickness of the plates ( 12 ) is selected so that the laser beams ( 5 ) each plate without reflection in the area of the plate surface sides ( 12 shine through). Laseroptik nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Platten (12) des Plattenfächers (8) eine Plattendicke aufweisen, die zumindest gleich, vorzugsweise aber größer ist als die Divergenz, die der wenigstens eine, die jeweilige Platte (12) durchstrahlende Laserstrahl (5) an der zweiten Plattenschmalseite (14) aufweist.Laser optics according to claim 1, characterized in that the plates ( 12 ) of the disk fan ( 8th ) have a plate thickness that is at least equal to, but preferably greater than, the divergence that the at least one, the respective plate ( 12 ) radiating laser beam ( 5 ) on the second narrow plate side ( 14 ) having. Laseroptik nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass jede Platte (12) nur einem Emitter (4.1) oder nur einem Laserstrahl (5) zugeordnet ist.Laser optics according to claim 1 or 2, characterized in that each plate ( 12 ) only one emitter ( 4.1 ) or only one laser beam ( 5 ) assigned. Laseroptik nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Abstand zweier Platten (12) bzw. der parallel zu den Plattenoberflächenseiten (12') orientierten Mittelebenen zweiter benachbarter Platten (12) gleich dem Emitterabstand, den zwei einander benachbarte Emitter (4.1) oder zwei einander benachbarte Emittergruppen in Richtung der Slow-Axis voneinander aufweisen, oder einem ganzzahligen Vielfachen des Emitterabstandes ist.Laser optics according to one of the preceding claims, characterized in that the distance between two plates ( 12 ) or parallel to the plate surface sides ( 12 ' ) oriented center planes of second adjacent plates ( 12 ) equal to the emitter spacing, the two adjacent emitters ( 4.1 ) or two adjacent emitter groups in the direction of the slow axis from one another, or an integer multiple of the emitter spacing. Laseroptik nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass im Strahlengang zwischen den Emittern (4.1) und dem Plattenfächer (8) wenigstens ein Fast-Axis-Kollimator (6) vorgesehen ist.Laser optics according to one of the preceding claims, characterized in that in the beam path between the emitters ( 4.1 ) and the disk fan ( 8th ) at least one fast-axis collimator ( 6 ) is provided. Laseroptik nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass der Fast-Axis-Kollimator (6) für sämtliche Emitter (4.1) gemeinsam vorgesehen ist.Laser optics according to claim 5, characterized in that the fast axis collimator ( 6 ) for all emitters ( 4.1 ) is provided jointly. Laseroptik nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere Fast-Axis-Kollimatoren (6), vorzugsweise individuell einstellbare Fast-Axis-Kollimatoren vorgesehen sind, und zwar jeweils ein Fast-Axis Kollimator (6) für jeden Emitter (4.1) oder eine Emittergruppe.Laser optics according to claim 5, characterized in that several fast-axis collimators ( 6 ), preferably individually adjustable fast-axis collimators are provided, in each case a fast-axis collimator ( 6 ) for each emitter ( 4.1 ) or an emitter group. Laseroptik nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Plattenfächer (8) ein Auffächern des wenigstens einen Laserstrahlbündels in mehrere Teilstrahlen (5.1) bewirkt, die in der Fast-Axis sowie auch in der Slow-Axis gegeneinander versetzt sind.Laser optics according to one of the preceding claims, characterized in that the disk fan ( 8th ) fanning the at least one laser beam into a plurality of partial beams ( 5.1 ), which are offset against each other in the fast axis as well as in the slow axis. Laseroptik nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass im Strahlengang auf den Plattenfächer (8) folgend wenigstens ein weiteres Umformelement zum Zusammenführen der durch den Plattenfächer (8) aufgefächerten Teilstrahlen (5.1) vorgesehen ist.Laser optics according to one of the preceding claims, characterized in that in the beam path on the disc trays ( 8th ) following at least one further forming element for merging the through the disk fan ( 8th ) subdivided partial beams ( 5.1 ) is provided. Laseroptik nach Anspruch 9, dass das weiter Umformelement ein weiterer Plattenfächer (9) ist, dessen Platten (12) mit ihren Oberflächenseiten (12') senkrecht zur Fast-Axis der Laserstrahlen (5, 5') orientiert sind.Laser optics according to claim 9, that the further forming element is another plate fan ( 9 ) whose plates ( 12 ) with their surface sides ( 12 ' ) perpendicular to the fast axis of the laser beams ( 5 . 5 ' ) are oriented. Laseroptik nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Plattenschmalseiten (13, 14) des wenigstens einen Plattenfächers (8, 9) fächerartig derart gegeneinander verdreht sind, dass die erste Plattenschmalseite (13) jeder Platte (12) in einer Ebene (E) liegt, die mit der Ebene der ersten Plattenschmalseite (13) jeder benachbarten Platte (12) einen Winkel (α) einschließt, dass die ersten Plattenschmalseiten (13) in ihrer Gesamtheit eine erste Plattenfächerseite (13) und die zweiten Plattenschmalseiten (14) in ihrer Gesamtheit eine zweite Plattenfächerseite (11) jeweils für den Eintritt oder Austritt des den Plattenfächer durchstrahlenden wenigstens einen Laserstrahls bilden, und dass die Ebenen (E) der Plattenschmalseiten (13, 14) sowie die Fächerachse (A) senkrecht zu den Oberflächenseiten (12') der Platten (12) orientiert sind.Laser optics according to one of the preceding claims, characterized in that the narrow sides of the plate ( 13 . 14 ) of the at least one disk fan ( 8th . 9 ) are fan-shaped twisted against each other in such a way that the first narrow side of the plate ( 13 ) of each plate ( 12 ) lies in a plane (E) which coincides with the plane of the first narrow plate side (E) ( 13 ) of each adjacent plate ( 12 ) includes an angle (α) such that the first narrow plate sides ( 13 ) in its entirety a first disk fan page ( 13 ) and the second narrow plates ( 14 ) in its entirety a second disk fan page ( 11 ) for the entry or exit of the at least one laser beam passing through the disk fan, and that the planes (E) of the narrow disk sides (E) 13 . 14 ) and the fan axis (A) perpendicular to the surface sides ( 12 ' ) of the plates ( 12 ) are oriented. Laseroptik nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Plattenschmalseiten (13, 14) an jeder Platte (12) parallel oder im Wesentlichen parallel zueinander angeordnet sind.Laser optics according to one of the preceding claims, characterized in that the narrow sides of the plate ( 13 . 14 ) on each plate ( 12 ) are arranged parallel or substantially parallel to each other.
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