CN1517207A - 成像材料 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及成像材料，其在基底上具有成像层，该成像层至少包括(A)包含酚作为结构单元的酚醛清漆型的酚醛树脂，(B)光热转化剂，和(C)特定的铵盐化合物或特定的鎓盐。

Description

成像材料
技术领域
本发明涉及成像材料，更具体而言，涉及用作适于通过红外激光的所谓“直接制版”的阳图型平版印刷版前体的阳图型成像材料，通过其从特别是如来自计算机的数字信号可以直接制备直接制版平版。
背景技术
近几年，激光器技术迅速发展；特别是，可以容易地商购具有从近红外至红外的发射区域、具有更高输出和更小尺寸的固体激光器和半导体激光器。当从如来自计算机的数字数据直接制备平版印刷版时，这些激光器作为曝光光源是非常有用的。
在通过红外激光器的直接制版中应用的已知阳图型光敏成像材料包括酚醛清漆树脂等作为在碱性水溶液中可溶解的树脂。例如，已知一种阳图型光敏成像材料，其包括含有酚式羟基并且在碱性水溶液中可溶解的树脂如酚醛清漆树脂，吸收光产热的物质，并且加入阳图型光敏化合物如鎓盐，醌二叠氮化合物(日本专利申请公开(JP-A)7-285275)。在上述阳图型光敏成像材料中，在图像部分的阳图型光敏化合物作为显著降低在碱性水溶液中可溶解树脂溶解度的溶解抑制剂。同时，在非图像部分，由于热，阳图型光敏化合物不显示溶解抑制作用并且通过显影可以去除在碱性水溶液中的树脂。这样，形成图像。
此外，公开了一种阳图型光敏成像材料(国际公开WO/9739894和欧洲专利申请公开(EP-A)0,823,327)。该阳图型光敏成像材料包括吸收光产热的物质和其在碱性水溶液中的溶解度被热改变的树脂。在该阳图型光敏成像材料中，图像部分具有在碱性水溶液中的低溶解度，并且非图像部分在碱性水溶液中的溶解度通过热而增大。这样，非图像部分变得可以被显影去除以形成图像。
在常规平版印刷版前体中，优选使用酚醛清漆树脂，因为酚醛清漆树脂与溶解抑制剂强烈相互作用，在曝光区域中的酚醛清漆树脂和在非曝光区域中的酚醛清漆树脂之间的溶解度差异大，并且酚醛清漆树脂具有优异的吸墨性能。因为类似的原因，还将酚醛清漆树脂用于适于红外激光曝光的阳图型光敏成像材料。作为酚醛清漆树脂，通常使用特别是通过将酚类如苯酚，甲酚，和二甲苯酚与甲醛在酸性条件下聚合获得的酚醛清漆树脂。
作为溶解抑制剂，尽管多种化合物在研究中，已知特别是鎓盐类型的溶解抑制剂显示非常强的溶解抑制作用。然而，当加入普通鎓盐化合物时，尽管由于鎓盐的强溶解抑制作用可以实现非曝光部分抗碱性的改善，存在灵敏度降低的问题。为了克服该问题，公开使用特定鎓盐的新型光敏材料。例如，已知在JP-A 2002-278050公开的鎓盐和在JP-A 2003-107688中公开的季铵盐具有优异性质，其中高溶解抑制能力和高灵敏度是相容的。
然而，已经变得明显的是存在随曝光后时间流逝，使用上述鎓盐类溶解抑制剂的光敏材料的显影性能(developability)衰退和导致显影失败的问题。该显影性能在曝光后随时间流逝的衰退在制版方法中是成问题的，需要改善显影性能稳定性。(以下，在曝光后显影性能改变的大小由曝光后的耐贮性表示，并且将显影性能的较大降低称为“曝光后更差的耐贮性”)。
发明内容
发明概述
因此，本发明的一个目的是提供可以用于热-实例(heat-example)类型的阳图型平版印刷版前体的成像材料，其在显影剂在曝光和非曝光部分之间的溶解度差异(溶解度区分)方面极好，并且在曝光后随时间具有轻微程度的显影性能变化(曝光后耐贮性极好)。
本发明人发现当包含酚作为结构单元的酚醛清漆型酚醛树脂和特定的铵盐化合物或特定的鎓盐的组合被包含在成像层中时，可以大大改善在曝光后的耐贮性而无灵敏度和显影宽容度(development latitude)的下降。由此，完成了本发明。
按照本发明的第一种成像材料在基底上包含成像层，其至少包含(A)包含酚作为结构单元的酚醛清漆型的酚醛树脂(下文适当地称为“特定的酚醛清漆树脂”)，(B)光热转化剂，和(C)由下列通式(1-1)表示的化合物(以下适当地称为“特定的铵盐”)。
通式(1-1)
在通式(1-1)中，R1表示形成包含N1原子的环状结构的残基。R2和R3各自独立表示有机基团并且可以彼此结合形成环状结构。此外，R2和R3中的至少一个可以与R1结合形成环状结构。X-表示有机酸或无机酸的共轭碱。
此外，按照本发明的第二种成像材料包含在基底上的成像层，其至少包含(A)包含酚作为结构单元的酚醛清漆型的酚醛树脂(特定的酚醛清漆树脂)，(B)光热转化剂，和(C)由下列通式(1-2)表示的鎓盐(以下适当地称为“特定的鎓盐”)。
通式(1-2)X-M+
(在通式(1-2)中，X-表示含有至少一个含有碱性离解质子的取代基的阴离子。M+表示选自锍，碘鎓，铵盐，磷鎓和氧鎓的抗衡阳离子(countercation))。
通常，当牺牲显影宽容度时，可以保证曝光后的耐贮性。然而，意外地，在本发明中，通过采用上述成分，除了使灵敏度和显影宽容度相容之外，在曝光后的耐贮性的改善也是可能的。
在本发明中，“热-实例(heat-example)类型”意指通过热-实例(heat-example)曝光可以记录成像材料。
将详述本发明中热-实例曝光的定义。如在Hans-Joachim Timpe，IS&TsNIP 15：1999数字印刷技术国际会议，第209页中所述，已知当在光敏材料中的光吸收物质(例如染料)被光激发和通过化学或者物理变化形成图像时，在从光吸收物质的光激发至化学或者物理变化的方法中当主要划分时存在两个实例。一个实例是所谓的光子-实例(photon-example)，其中光激发的光吸收物质与光敏材料中的另一种活性物质进行特定的光化相互作用(例如，能量传递，电子转移)并且被去活化，然后产生的活化的活性物质导致成像所需的化学或者物理变化。另一个实例是所谓的热-实例，其中光激活的光吸收物质产生热并被去活化，通过利用产生的热，活性物质导致成像所需的化学或者物理变化。除了上述实例，存在特殊的实例如烧蚀方法，其中由于局部集中的光能物质爆炸性地散射，和多光子吸收方法，其中一个分子同时吸收许多光子。然而，这里省略这些特殊的实例。
使用上述各个实例的曝光方法被称为光子-实例曝光和热-实例曝光。光子-实例曝光和热-实例曝光之间的技术差异在于是否可以将数个光子的能量值总计来提供目标反应所需的能量。例如，假设其中由n个光子导致特定反应的情形。在光子-实例曝光中，因为利用光化相互作用，由于量子的能量守恒律和量子的动量守恒定律的要求，不能总计各个光子的能量值。即，为了导致特定反应，必须满足关系：“单个光子的能量值反应的能量值”。在另一方面，在热-实例曝光中，因为在光激发后产生热，即因为光能被转化为热并被利用，可以总计光子的能量值。因此，为了导致反应，应当充分满足关系：“n个光子的能量值反应的能量值”。然而，能量值的总和受热扩散的限制。即，如果导致随后的光激活-去活化过程，并且在热按照热扩散从给定的曝光部分(反应点)扩散之前产生热，热肯定被累积并且该点的温度上升。然而，当延迟随后的热产生时，热扩散而不被累积。即，在热-实例曝光中，即使当总曝光能量相同时，在其中短期照射具有高能量值的光的情形和在其中长时期照射具有低能量值的光的情形之间结果不同。更短的照射对于热的累积是有利的。
当然，在一些情形中，由于随后反应物扩散的影响即使在光子-实例曝光中可以发生相似的现象。然而，原则上，该现象不出现。
即，当该现象被表示为光敏材料的性质时，尽管在光子-实例中，光敏材料的比灵敏度(specific sensitivity)(形成图像所需反应的能量值)与曝光功率密度(W/cm2)(＝每单位时间间隔的能量密度)的比率是不变的，与曝光功率密度无关，但是在热-实例中，当曝光功率密度增大时，光敏材料的比灵敏度与曝光功率密度的比率增大。因此，在其中将曝光时间固定在这样一个时间间隔以便可以保持图像记录材料实际所需产率，并且比较各个实例的情形中，在光子-实例曝光的情形中，一般可以获得如基本上0.1mJ/cm2的高灵敏度。然而，因为非常少量的曝光可导致反应，往往存在在未曝光部分中导致低曝光灰雾的问题。在另一方面，在热-实例的情形中，尽管只有当曝光的能量数量超过一定值时导致反应，从光敏材料的热稳定性的观点来看通常大约50mJ/cm2。因此，在热-实例的情形中可以避免低曝光灰雾的问题。
实际上，在热-实例曝光中，在光敏材料的版面上的曝光功率密度必须不小于5000W/cm2，优选10000W/cm2。然而，尽管这里未详述，当使用5.0×105W/cm2或更高的高功率密度激光时，导致烧蚀，引起导致令人不快的光源污染的问题。
发明详述
下面，将详述本发明。
本发明的一个实施方案是成像材料(S1)，其包含在基底上的成像层，所述成像层至少包含(A)包含酚作为结构单元的酚醛清漆型的酚醛树脂，(B)光热转化剂，和(C)由下列通式(1-1)表示的化合物：
Figure A20041000339200101
通式(1-1)
其中在通式(1-1)中，R1表示与N1一起形成环状结构的残基；R2和R3各自独立地表示有机基团并且可以彼此结合形成环状结构；R2和R3中的至少一个可以与R1结合形成环状结构；X-表示有机酸或无机酸的共轭碱。
本发明的另一个实施方案是成像材料(S1)，其中由通式(1-1)表示的化合物由下列通式(1-1-a)来表示：
Figure A20041000339200111
通式(1-1-a)
其中在通式(1-1-a)中，R2和R3各自独立地表示有机基团并且可以彼此结合形成环状结构；X-表示有机酸或无机酸的共轭碱；R4至R7各自独立表示氢原子或者取代基，它们可以相同或彼此不同，并且可以相互结合成环；R4至R7各自可以与L1，R2或R3结合形成环状结构；当L1和C1或者C2之间的键是双键或者三键，根据双键或者三键的存在R4至R7中的一些不存在；L1表示单键或者与-C1-N1-C2-一起形成环状结构的二价连接基团；R4和R5可以表示相同的原子或者相同的取代基以致C1和R4(其还可以是R5)之间的键成为双键；R6和R7可以表示相同的原子或者相同的取代基以致C2和R6(其还可以是R7)之间的键成为双键。
本发明的另一个实施方案是成像材料(S1)，其中由通式(1-1)表示的化合物是成像层中总固体含量的质量的50％或更小。
本发明的另一个实施方案是成像材料(S1)，其中酚醛清漆型的酚醛树脂是通过缩合酚，通过下列通式(I)表示的取代酚，和醛获得的树脂：
Figure A20041000339200112
通式(I)
其中在通式(I)中，R1和R2各自独立地表示氢原子，烷基，或卤原子。
本发明的另一个实施方案是成像材料(S1)，其中酚醛清漆型的酚醛树脂是通过缩合酚、由通式(I)表示的取代酚，和醛获得的树脂，并且在组成酚醛清漆型的酚醛树脂的单体中，酚含量为21-90摩尔％。
本发明的另一个实施方案是成像材料(S1)，其中酚醛清漆型的酚醛树脂是通过缩合酚、由通式(I)表示的取代酚，和醛获得的树脂，并且酚醛清漆型的酚醛树脂的重均分子量是500-50000。
本发明的另一个实施方案是成像材料(S1)，其中酚醛清漆型的酚醛树脂是通过缩合酚、由通式(I)表示的取代酚，和醛获得的树脂，并且酚醛清漆型的酚醛树脂与成像层中的总固体含量的比例是0.1-20质量％。
本发明的另一个实施方案是成像材料(S2)，其包含在基底上的成像层，所述成像层至少包含(A)包含酚作为结构单元的酚醛清漆型的酚醛树脂，(B)光热转化剂，和(C)由下列通式(1-2)表示的鎓盐：
通式(1-2)X-M+
其中，在通式(1-2)中，X-表示含有至少一个含有碱性离解质子的取代基的阴离子，M+表示选自锍离子，碘鎓离子，铵离子，磷鎓离子和氧鎓离子的抗衡阳离子。
本发明的另一个实施方案是成像材料(S2)，其中通式(1-2)中的M+由下列通式(M-1)表示
Figure A20041000339200121
通式(M-1)
其中在通式(M-1)中，R1表示与N1一起形成环状结构的残基；R2和R3各自独立地表示有机基团并且可以彼此结合形成环状结构；R2和R3中的至少一种可以与R1结合形成环状结构。
本发明的另一个实施方案是成像材料(S2)，其中由通式(1-2)表示的化合物的质量是成像层中总固体含量质量的50％或更小。
本发明的另一个实施方案是成像材料(S2)，其中酚醛清漆型的酚醛树脂是通过缩合酚、由下列通式(I)表示的取代酚，和醛获得的树脂：
Figure A20041000339200131
通式(I)
其中在通式(I)中，R1和R2各自独立地表示氢原子，烷基，或卤原子。
本发明的另一个实施方案是成像材料(S2)，其中酚醛清漆型的酚醛树脂是通过缩合酚、由通式(I)表示的取代酚，和醛获得的树脂，并且在组成酚醛清漆型的酚醛树脂的单体中，酚含量为21-90摩尔％。
本发明的另一个实施方案是成像材料(S2)，其中酚醛清漆型的酚醛树脂是通过缩合酚、由通式(I)表示的取代酚，和醛获得的树脂，并且酚醛清漆型的酚醛树脂的重均分子量是500-50000。
本发明还有的另一个实施方案是成像材料(S2)，其中酚醛清漆型的酚醛树脂是通过缩合酚、由通式(I)表示的取代酚，和醛获得的树脂，并且酚醛清漆型的酚醛树脂与成像层中的总固体含量的比例是0.1-20质量％。
按照本发明的第一种成像材料是通过在基底上具有成像层构成的，所述成像层至少包括(A)包含酚作为结构单元的酚醛清漆型的酚醛树脂，(B)光热转化剂，和(C)由上式(1-1)表示的化合物。按照本发明的第二种成像材料是通过在基底上具有成像层构成的，所述成像层至少包括(A)包含酚作为结构单元的酚醛清漆型的酚醛树脂，(B)光热转化剂，和(C)由上式(1-2)表示的鎓盐。下面，将依次描述按照本发明的成像层中的各个组分。
((A)包含酚作为结构单元的酚醛清漆型的酚醛树脂)
按照本发明的成像层包括包含酚作为结构单元的酚醛清漆型的酚醛树脂(特定的酚醛清漆树脂)。不具体限制特定的酚醛清漆树脂，只要酚是作为结构单元被包含在分子中。优选作为结构单元的酚占组成酚醛清漆树脂的结构单元的20-90摩尔％，更优选31-85摩尔％，最优选51-80摩尔％。
该特定的酚醛清漆树脂可以优选为(A-1)通过缩合酚、由下列通式(I)表示的取代酚，和醛获得的树脂。特定的酚醛清漆树脂可以更优选为(A-2)，一种通过缩合酚、选自甲酚和二甲苯酚的苯酚衍生物，和醛获得的树脂。这里，在特定的酚醛清漆树脂中可以包含多种取代酚。((A-1)通过缩合酚、由下列通式(I)表示的取代酚，和醛获得的树脂)
首先，将详述通过缩合酚、由下列通式(I)表示的取代酚，和醛获得的树脂(以下有时称为“(A-1)树脂”)。
Figure A20041000339200141
通式(I)
在通式(I)中，R1和R2各自独立地表示氢原子，烷基，或卤原子。作为烷基，优选含有1-3个碳原子的烷基，更优选含有1个或者2个碳原子的烷基。卤素原子可以是氟原子，氯原子或溴原子，或碘原子，优选氯原子或溴原子。R3表示含有3-6个碳原子的烷基或者具有3-6个碳原子的环烷基。
由通式(I)表示的、用作(A-1)树脂组分的取代酚的实例包括异丙基苯酚，叔丁基苯酚，叔戊基苯酚，己基苯酚，环己基苯酚，3-甲基-4-氯-6-叔丁基苯酚，异丙基甲酚，叔丁基甲酚，叔戊基甲酚。在这些取代酚中，优选叔丁基苯酚和叔丁基甲酚。
在(A-1)树脂中使用地醛地实例包括甲醛，乙醛，丙烯醛，巴豆醛。在这些醛中，可以优选使用甲醛和乙醛。
优选在(A-1)树脂的单体中的酚含量为21-90摩尔％，更优选31-85摩尔％，最优选51-80摩尔％。
优选(A-1)树脂的重均分子量为500-50000，更优选700-20000，特别优选1000-10000。
优选(A-1)树脂与在按照本发明的成像层中总固体含量的比率为0.1-20质量％，更优选0.2-10质量％，特别优选0.2-5质量％。在其中该比率小于0.1质量％的情形中，添加效应变得不充分，而在其中该比率大于20质量％的情形中，灵敏度倾向于下降。
((A-2)通过缩合酚、选自甲酚和二甲苯酚的苯酚衍生物，和醛获得的树脂)
接下来，将详述通过缩合酚、选自甲酚和二甲苯酚的苯酚衍生物，和醛获得的(A-2)树脂(以下有时称为“(A-2)树脂”)。
作为用于为了获得(A-2)树脂的缩合反应的醛，可以列举在上述(A-1)的说明中列举的醛类。
优选在本发明中使用的(A-2)树脂为酚醛清漆树脂，如酚醛树脂或酚/甲酚(可以使用所有间-、对-和间-/对-混合物)混合物甲醛树脂。
优选在(A-2)树脂中的单体中的酚含量为21-90摩尔％，更优选31-85摩尔％，特别优选51-80摩尔％。在(A-2)树脂中的单体优选包括10摩尔％或更多的间-甲酚。
优选(A-2)树脂的重均分子量为500-50000，更优选700-20000，特别优选1000-10000。优选(A-2)树脂的数均分子量为500或更大，更优选为750-650,000。优选(A-2)树脂的分散度(dispersion)(重均分子量/数均分子量)为1.1-10。
优选在本发明中使用的(A-2)树脂为基于在成像材料中的图像记录层的总固体含量的10-95质量％，更优选20-90重量％。在其中该含量小于10重量％的情形中，在一些情形中，由于烘烤导致印刷寿命(press life)的改善作用是如此低以致不能使用产生的印刷版。
可以单独使用按照本发明的特定酚醛清漆树脂如(A-1)树脂或者(A-2)树脂，或者可以组合使用多种特定的酚醛清漆树脂。
可以将除了按照本发明的特定酚醛清漆树脂以外的通常使用的酚醛清漆树脂与特定的酚醛清漆树脂组合使用。在该情形中，可以以基于酚醛清漆树脂的全部量的5-50质量％，优选5-30质量％，特别优选5-20质量％来混合除了特定酚醛清漆树脂以外的酚醛清漆树脂。
作为生产按照本发明特定酚醛清漆树脂的方法，可以应用在ShinJikken Kagaku Kouza19，Koubunshi Kagaku I，(Maruzen Co.，Ltd，1993)：p300中描述的方法。按照该方法，通过使用酸作催化剂，酚和取代酚(例如在(A-1)树脂和(A-2)树脂中列举的甲酚)可以在溶剂中与甲醛水溶液反应，由此酚，在取代酚组分中的邻位或对位和甲醛进行脱水缩合来生产特定酚醛清漆树脂。
如下可以进行在酚和取代酚组分的邻位或对位以及甲醛的脱水缩合。首先，溶液含有根据酚和取代酚组分的总质量的60-90质量％，优选70-80质量％的酚和取代酚组分。然后，将甲醛加入该溶液以使甲醛的量与酚和取代酚组分的总量的摩尔比率为0.2-2.0，优选0.4-1.4，特别优选0.6-1.2。此外，将酸催化剂加入10-150℃的该溶液以使该酸催化剂与酚和取代酚组分的总量的摩尔比率为0.01-0.1，优选0.02-0.05。然后，搅拌该溶液数小时，同时保持溶液的温度在上述范围中，由此实现脱水缩合。优选反应温度为70-150℃，更优选90-140℃。
在反应中使用的溶剂是例如水，乙酸，甲醇，乙醇，2-丙醇，2-甲氧乙醇，丙酸乙酯，丙酸乙氧基乙酯，4-甲基-2-戊酮，二噁烷，二甲苯，苯等。
作为酸性催化剂，可以列举盐酸，硫酸，对-甲苯磺酸，磷酸，草酸，酒石酸，柠檬酸，乙酸锌，乙酸镁，氯化铝，氧化锌等。
蒸馏和去除剩余在合成酚醛树脂中的单体和二聚体，以使剩余单体和二聚体的总浓度优选为0.01-10质量％，更优选0.01-2.0质量％。
如下是优选用于本发明的特定酚醛清漆树脂的具体实例(S-1至S-18)。
(S-1)酚，间-甲酚和对-甲酚的缩聚产物
(摩尔比率30∶50∶20，重均分子量4000)
(S-2)酚，间-甲酚和邻-甲酚的缩聚产物
(摩尔比率50∶30∶20，重均分子量5500)
(S-3)酚，间-甲酚和对-甲酚的缩聚产物
(摩尔比率70∶10∶20，重均分子量4500)
(S-4)酚，间-甲酚和对-甲酚的缩聚产物
(摩尔比率50∶30∶20，重均分子量4200)
(S-5)酚和间-甲酚的缩聚产物
(摩尔比率70∶30，重均分子量4500)
(S-6)酚和对-甲酚的缩聚产物
(摩尔比率60∶40，重均分子量6000)
(S-7)酚和邻-甲酚的缩聚产物
(摩尔比率50∶50，重均分子量3900)
(S-8)酚和对-乙基苯酚的缩聚产物
(摩尔比率40∶60，重均分子量4000)
(S-9)酚和对-叔丁基苯酚的缩聚产物
(摩尔比率80∶20，重均分子量5000)
(S-10)酚和2，5-二甲苯酚的缩聚产物
(摩尔比率90∶10，重均分子量8000)
(S-11)酚和2，3-二甲苯酚的缩聚产物
(摩尔比率75∶25，重均分子量4400)
(S-12)酚和2，4-二甲苯酚的缩聚产物
(摩尔比率80∶20，重均分子量5500)
(S-13)酚和3，4-二甲苯酚的缩聚产物
(摩尔比率70∶30，重均分子量7400)
(S-14)酚和对壬基苯酚的缩聚产物
(摩尔比率30∶70，重均分子量9800)
(S-15)酚和对苯基苯酚的缩聚产物
(摩尔比率65∶45，重均分子量4000)
(S-16)酚和邻苯基苯酚的缩聚产物
(摩尔比率50∶50，重均分子量4500)
(S-17)酚，间-甲酚和2，5-二甲苯酚的缩聚产物
(摩尔比率80∶15∶5，重均分子量5500)
(S-18)酚，间-甲酚和对-苯基苯酚的缩聚产物
(摩尔比率40∶10∶50，重均分子量4500)
在这些实施例中，优选(S-1)至(S-13)，并且更优选(S-1)至(S-8)。
因为作为结构单元包括在按照本发明的特定酚醛清漆树脂中的酚具有比取代酚更多的活性位点，获得的聚合物很可能总体上形成三维结构。因此，认为在热-实例曝光中，由于该三维结构，如果特定酚醛清漆树脂与特定铵盐化合物(抑制剂)或者特定鎓盐的相互作用一旦中断，难以再建立相互作用。
据推断因为碱性水溶性树脂如酚醛清漆树脂和溶解抑制剂随时间而恢复，溶解度(在曝光后的耐贮性)随时间减小。在另一方面，在本发明中，认为由于使用特定酚醛清漆树脂，有效地干扰了在曝光部分中酚醛清漆树脂和特定铵盐化合物之间和在曝光部分中酚醛清漆树脂和特定鎓盐之间的相互作用的恢复，导致本发明效果的显示。
在按照本发明的成像层中，与特定酚醛清漆树脂组合，除了特定酚醛清漆树脂以外的在水中不溶而在碱性水溶液中可溶的树脂(此后有时称为“其它的碱溶性树脂”)可以与特定酚醛清漆树脂组合使用。从扩展显影宽容度(development latitude)的观点来看，同时使用特定的酚醛清漆树脂和这种其它的碱溶性树脂是优选的。
这种其它的碱溶性树脂可以是在JP-A 7-28244中描述的聚羟基苯乙烯，多卤化羟基苯乙烯，N-(4-羟基苯基)甲基丙烯酰胺，氢醌一甲基丙烯酸酯共聚物，磺酰基酰亚胺基础聚合物(sulfonylimide base polymer)，在JP-A 7-36184中描述的含羧基的聚合物等。除了上面，还可以将在JP-A51-34711中描述的各自包含酚式羟基的丙烯酸(酯)类树脂，在JP-A2-866中描述的包含氨磺酰基的丙烯酸(酯)类树脂，聚氨酯基(base)树脂，各种碱溶性聚合化合物也可用作这种其它的碱溶性树脂。
优选这些其它的碱溶性树脂具有500-200,000的重均分子量和200-60,000的数均分子量。
可以单独使用上述其它的碱溶性树脂或者可以组合使用多种该碱溶性树脂。可以以优选基于记录层的总固体含量的0.5-30质量％，更优选基于记录层的总固体含量的0.5-20质量％的量在记录层(例如成像层)中包含这种其它的碱溶性树脂。
((C)由通式(1-1)表示的化合物)
按照本发明的第一种成像层包含由下列通式(1-1)表示的化合物(以下，有时称为“特定的铵盐化合物”)。
Figure A20041000339200191
通式(1-1)
在通式(1-1)中，R1表示形成包含N1原子的环状结构的残基。R2和R3各自独立地表示有机基团并且可以彼此结合形成环状结构。R2和R3中的至少一个可以与R1结合形成环状结构。X-表示有机酸或无机酸的共轭碱。
由R1表示的残基可以是任何有机基团，只要它是可以形成包含N1原子的环状结构的二价有机基团。即不仅烃环结构，而且包含多个氮原子的环状结构或者包含另外的杂原子如氧原子，硫原子的环状结构可以是由R1和N1结合形成的环状结构。由R1和N1形成的环状结构可以包含双键并且R1和N1的结合可以形成多环结构。
作为由R1和N1原子形成的环状结构的优选实施例，可以列举三至十元环。从更有效地去除溶解抑制作用的观点来看，优选三至八元环，当考虑合成的适用性时，优选五元环和六元环。
由R1和N1原子形成的环状结构可以另外包含取代基，作为该取代基可以列举烷基，芳基，卤原子等。
R2和R3可以彼此相同或不同并且可以任意选自有机基团。然而，考虑到显示抑制，即，强烈的溶解抑制作用，优选基团如烷基，芳基，由下列通式(2-1)表示的基团等。如果R2和R3是烷基，其碳原子的数量总和不得大于6。优选R2和R3中的至少一个具有支化结构或环状结构。考虑到去除溶解抑制作用的效率，优选R2和R3中的至少一个包含芳环，更优选R2和R3每个包含芳环。
Figure A20041000339200201
通式(2-1)
在通式(2-1)中，R4，R5和R6各自独立地表示任意可能的取代基。R4，R5和R6可以彼此相同或不同。R4，R5和R6中的任意两个可以互相结合形成环状结构。在C1与R4和R5中的一个之间的键可以是双键，在该情形中R4，R5中的另一个不存在。n表示整数0或1并且m表示0-5的整数。当m大于1时，存在多个R6，在该情形中，每个R6可以相同或不同并且可以与另一个R6结合形成环状结构。在其中n是1的情形中，考虑到合成的适用性，优选R4和R5中的至少一个是氢原子，最优选R4和R5都是氢原子。
作为由R2和R3表示的取代基，下列取代基可以作为取代基列举：
烷基(每个优选含有1-20个碳原子，更优选1-16个碳原子，特别优选1-12个碳原子；具体地如甲基，乙基，正丁基，异丙基，叔丁基，正辛基，正癸基，正十六烷基，环丙基，环戊基，环己基，和2-环己基乙基)，链烯基(每个优选含有2-20个碳原子，更优选2-12个碳原子，特别优选2-8个碳原子；如乙烯基，烯丙基，2-betenyl基，3-戊烯基，2-环己烯基甲基)，炔基(每个优选含有2-20个碳原子，更优选2-12个碳原子，特别优选2-8个碳原子；如炔丙基和3-戊炔基)，芳基(每个优选含有6-30个碳原子，更优选6-20个碳原子，特别优选6-12个碳原子；如苯基，对-甲基苯基，和萘基)，氨基(每个优选含有0-20个碳原子，更优选0-12个碳原子，特别优选0-6个碳原子；如氨基，甲氨基，二甲氨基，二乙氨基，二苯氨基，和二苄基氨基)，烷氧基(每个优选含有1-20个碳原子，更优选1-12个碳原子，特别优选1-8个碳原子；如甲氧基，乙氧基，丁氧基)，芳氧基(每个优选含有6-20个碳原子，更优选6-16个碳原子，特别优选6-12个碳原子；如苯氧基和2-萘氧基)，酰基(每个优选具有1-20个碳原子，更优选1-16个碳原子，特别优选1-12个碳原子；如乙酰基，苯甲酰基，甲酰基，和新戊酰基)，烷氧羰基(每个优选含有2-20个碳原子，更优选2-16个碳原子，特别优选2-12个碳原子；如甲氧羰基和乙氧羰基)，芳氧羰基(每个优选含有7-20个碳原子，更优选7-16个碳原子，特别优选7-10个碳原子；如苯氧羰基)，酰氧基(每个优选含有2-20个碳原子，更优选2-16个碳原子，特别优选2-10个碳原子；如乙酰氧基和苯甲酰氧基)，酰氨基(每个优选含有2-20个碳原子，更优选2-16个碳原子，特别优选2-10个碳原子；如乙酰氨基和苯甲酰氨基)，烷氧羰基氨基(每个优选含有2-20个碳原子，更优选2-16个碳原子，特别优选2-12个碳原子；如甲氧羰基氨基)，芳氧基羰基氨基(每个优选含有7-20个碳原子，更优选7-16个碳原子，特别优选7-12个碳原子；如苯氧羰基氨基)，磺酰氨基(每个优选含有1-20个碳原子，更优选1-16个碳原子，特别优选1-12个碳原子；如甲磺酰氨基和苯磺酰氨基)，氨磺酰基(每个优选含有0-20个碳原子，更优选0-16个碳原子，特别优选0-12个碳原子；如氨磺酰基，甲基氨磺酰基，二甲基氨磺酰基，和苯基氨磺酰基)，氨基甲酰基(每个优选含有1-20个碳原子，更优选1-16个碳原子，特别优选1-12个碳原子；如氨基甲酰基，甲基氨基甲酰基，二乙基氨基甲酰基，和苯基氨基甲酰基)，烷硫基(每个优选含有1-20个碳原子，更优选1-16个碳原子，特别优选1-12个碳原子；如甲硫基和乙硫基)，芳硫基(每个优选含有6-20个碳原子，更优选6-16个碳原子，特别优选含有6-12个碳原子；如苯硫基)，磺酰基(每个优选含有1-20个碳原子，更优选1-16个碳原子，特别优选1-12个碳原子；如甲磺酰基和甲苯磺酰基)，亚磺酰基(每个优选含有1-20个碳原子，更优选1-16个碳原子，特别优选1-12个碳原子；如甲亚磺酰基和甲苯亚磺酰基)，脲基(每个优选含有1-20个碳原子，更优选含有1-16个碳原子，特别优选含有1-12个碳原子；如脲基，甲脲基，和苯脲基)，磷酸酰胺基(每个优选含有1-20个碳原子，更优选1-16个碳原子，特别优选1-12个碳原子；如二乙基磷酸酰胺基和苯基磷酸酰胺基)，羟基，巯基，卤原子(例如氟原子，氯原子，溴原子和碘原子)，氰基，磺基，羧基，硝基，异羟肟酸基，亚磺基，肼基，亚氨基，杂环基(每个优选含有1-30个碳原子，更优选1-12个碳原子，并且包括氮原子，氧原子或硫原子作为杂原子；具体地如咪唑基，吡啶基，喹啉基，呋喃基，噻吩基，哌啶基，吗啉代基，苯并噁唑基，苯并咪唑基，苯并噻唑基，咔唑基，azepinyl，和环氧乙基)和甲硅烷基(每个优选含有3-40个碳原子，更优选3-30个碳原子，特别优选3-24个碳原子；如三甲代甲硅烷基和三苯基甲硅烷基)。
这些取代基可以被进一步取代。当存在两个或多个取代基时，每个取代基可以相同或不同。如果可能的话，取代基可以互相结合形成环。
优选R2和R3中的每一个是烷基，芳基，链烯基，炔基，或通过使这些基团被取代基取代而获得的基团。从溶解抑制作用的观点来看，优选R2和R3的碳原子数总和不小于6，更优选不小于8，最优选不小于10。
X-是阴离子，其是任意有机酸或无机酸的共轭碱，并且可以是高分子化合物或低分子化合物，可以是多价阴离子。这些阴离子的实例包括其是有机酸共轭碱的阴离子，如Ra1-SO3 -，Ra1-CO2 -，Ra1-O-CS2 -，Ra1-S-CS2 -，Ra1-O-PO2 -，(Ra1-O)2PO2 -，Ra1(Ra1-O)PO2 -，Ra1-EW1-Z-EW2-Ra1，(Ra1)4B-和ArxO-或其是无机酸共轭碱的阴离子，如F-，Cl-，Br-，I-，PF6 -，BF4 -，SbF6 -，ClO4 -，SO4 2-，NO3 -，CO3 2-，SCN-，CN-，SiF6 -，CN-，SiF6 -，FSO3 -，I3 -，Br3 -和IBr2 -。
这里，Ra1表示选自下组的有机取代基：烷基，链烯基，炔基，芳基，芳烷基，和通过用取代基进一步取代这些基团之一而获得的基团。当分子中存在多个Ra1时，每个Ra1可以相同或不同，并且可以与另一个Ra1结合成环。EW1和EW2各自独立地表示吸电子基团，其具体实例包括-SO-，-CO-，-SO2-和-CN。Z表示-CRz1-(Rz1表示氢原子或取代基)，或-N-。Arx表示芳基。
在由通式(1-1)表示地化合物中，作为优选实例，可以列举由下列通式(1-1-a)表示的化合物。
Figure A20041000339200231
通式(1-1-a)
在通式(1-1-a)中R2，R3和X-中每一个的定义与通式(1-1)中相同，其优选范围也相同。在通式(1-1-a)中的R2，R3各自更优选为烷基，芳基，链烯基，炔基，或通过使这些基团之一被任意取代基取代而获得的基团。从溶解抑制作用的观点来看，优选R2和R3的碳原子数总和不小于6，更优选不小于8，最优选不小于10。
在通式(1-1-a)中，R4至R7各自独立地表示氢原子或取代基。作为取代基，可以列举作为通式(1-1)中R2和R3的实例被列举的取代基。R4至R7中的任意两个可以彼此相同或不同，并且可以互相结合形成环状结构。R4至R7各自可以与L1，R2或R3结合形成环状结构。在其中L1和C1碳之间或者L1和C2碳之间的键为双键或者三键的情形中，根据双键或者三键的存在R4至R7中的一些不存在。
在通式(1-1-a)中，L1表示与-C1-N1-C2-一起形成环状结构的二价连接基团或单键。在L1是二价连接基团的情形中，L1可以含有取代基。包含L1的环状结构的优选实例是三至十元环状结构。从去除溶解抑制作用的效率的观点来看，优选3-至8-元环。考虑到合成的适用性，优选5-元环和6-元环。
在通式(1-1-a)中，R4和R5可以表示相同的原子或者相同的取代基，这样C1和R4(即R5)之间的键成为双键。同样，R6和R7可以表示相同的原子或者相同的取代，这样C2和R6(即R7)的键成为双键。(例如在R4＝R5＝O的情形中，可以形成羰基(-CO-)。)
在由通式(1-1)表示的化合物中，作为优选实例，可以列举由下列通式(1-1-b)表示的化合物。
Figure A20041000339200241
通式(1-1-b)
在通式(1-1-b)中，R2，R3和X-每个具有分别与通式(1-1)中的R2，R3，R4或X-相同的定义，并且优选的范围相同。
在通式(1-1-b)中，R4至R11各自独立地表示氢原子或取代基。作为取代基，可以列举作为通式(1-1)中R2和R3的实例被列举的取代基。R4至R11中的任意两个可以彼此相同或不同，并且可以互相结合形成环状结构。R4至R11各自可以与L2，R2或R3结合形成环状结构。在C3碳原子和C1碳原子之间，C4碳原子和C2碳原子之间，在C3碳原子和L2之间，或在C4碳原子和L2之间的键可以是双键或三键。在该情形中，按照该双键或三键的存在R4至R11中的一些不存在。此外，L2它自身可以是连接C3碳原子和C4碳原子的双键。同样在该情形中，按照该双键的存在R4至R11中的一些不存在。
在通式(1-1-b)中，L2表示与-C3-C1-N1-C2-C4-一起形成环状结构的二价连接基团，连接C3和C4的单键或连接C3和C4的双键。在其中L2表示二价连接基团的情形中，L2可以含有取代基。作为包含L2的环状结构的优选实例，可以列举5-至10-元环。从去除溶解抑制的效率的观点来看，优选5-至8-元环，当进一步考虑到合成的适用性时，优选5-和6-元环。
在通式(1-1-b)中，选自R4至R11并且与相同的原子结合的两个取代基可以是相同的原子或取代基，这样可以形成双键。(例如如果R4＝R5＝O，可以形成羰基(-CO-)。)
在通式(1-1-b)中，选自R4至R11并且与彼此邻接的原子结合的两个取代基可以是相同的原子或取代基，可以形成3-元环。(例如，如果R4＝R5＝O，可以形成环氧基。)
在由通式(1-1)表示的化合物中，作为优选实例，可以列举由下列通式(1-1-c)表示的化合物。
Figure A20041000339200251
通式(1-1-c)
在通式(1-1-c)中，R2和X-各自的定义分别与通式(1-1)中的R2和X-相同，并且优选范围也相同。作为在通式(1-1-c)中的R2，更优选地，可以列举烷基，芳基，链烯基，炔基，或通过使这些基团之一被任意取代基取代而获得的基团。从溶解抑制的观点来看，优选R2含有不少于2个碳原子，更优选不少于3个碳原子，特别优选不少于4个碳原子。
在通式(1-1-c)中，R4至R13各自独立地表示氢原子或取代基。作为取代基，可以列举作为通式(1-1)中R2和R3的实例被列举的取代基。R4至R13中的任意两个可以彼此相同或不同，并且可以互相结合形成环状结构。R4至R13各自可以与L2或R2结合形成环状结构。在C3碳原子和C1碳原子之间，C4碳原子和C2碳原子之间，在C3碳原子和L2之间，或在C4碳原子和L2之间的键可以是双键或三键。在该情形中，按照该双键或三键的存在R4至R11中的一些不存在。此外，L2它自身可以是连接C3碳原子和C4碳原子的双键。同样在该情形中，按照该双键的存在R4至R11中的一些不存在。
在通式(1-1-c)中，Ar1表示芳环基，优选表示取代或非取代苯基，萘基，蒽基，菲基，吡啶基，pyrazyl基，咪唑基，喹啉基，吲哚基，异喹啉基，吡咯基，呋喃基，吡唑基，三唑基，四唑基，噁唑基，噁二唑基，噻唑基，嘧啶基等。Ar1可以与L2，R2，R4至R13中的任一个结合形成环状结构。
在通式(1-1-c)中，n表示不小于0的整数，优选0，1，2，3，更优选0，1或2，特别优选0或1。当n不小于2时，存在多个R12和多个R13。这样的多个R12和多个R13中的任意两个可以彼此相同或彼此不同，并且可以互相结合形成环状结构。
在通式(1-1-c)中，L2表示与-C3-C1-N1-C2-C4-一起形成环状结构的二价连接基团，连接C3和C4的单键或连接C3和C4的双键。在其中L2表示二价连接基团的情形中，L2可以含有取代基。作为包含L2的环状结构的优选实例，可以列举5-至10-元环。从去除溶解抑制的效率的观点来看，优选5-至8-元环，当进一步考虑到合成的适用性时，优选5-和6-元环。
在通式(1-1-c)中，选自R4至R13并且与相同的原子结合的两个取代基可以是相同的原子或取代基，这样可以形成双键。(例如如果R4＝R5＝O，可以形成羰基(-CO-)。)
在通式(1-1-c)中，选自R4至R13并且与彼此邻接的原子结合的两个取代基可以是相同的原子或取代基，这样可以形成3-元环。(例如，如果R4＝R8＝O，可以形成环氧基。)
在由通式(1-1)表示的化合物中，作为优选实例，可以列举由下列通式(1-1-d)表示的化合物。
通式(1-1-d)
在通式(1-1-d)中，R2和X-各自具有分别与通式(1-1)中的R2或X-相同的定义，并且优选范围也相同。作为在通式(1-1-d)中的R2，更优选地，可以列举烷基，芳基，链烯基，炔基，或通过使这些基团之一被任意取代基取代而获得的基团。从溶解抑制的观点来看，优选R2含有不少于2个碳原子，更优选不少于3个碳原子，特别优选不少于4个碳原子。
在通式(1-1-d)中，R4至R14各自独立地表示氢原子或取代基。作为取代基，可以列举作为通式(1-1)中R2和R3的实例被列举的取代基。R4至R14中的任意两个可以彼此相同或不同，并且可以互相结合形成环状结构。R4至R14各自可以与L2，R2或R3结合形成环状结构。在C3碳原子和C1碳原子之间，C4碳原子和C2碳原子之间，在C3碳原子和L2之间，或在C4碳原子和L2之间的键可以是双键或三键。在该情形中，按照该双键或三键的存在R4至R11中的一些不存在。此外，L2它自身可以是连接C3碳原子和C4碳原子的双键。同样在该情形中，按照该双键的存在R4至R11中的一些不存在。
在通式(1-1-d)中，m表示0-5的整数。当m不小于2时，存在多个R14。这样的多个R14中的任意两个可以彼此相同或彼此不同，并且可以互相结合形成环状结构。
在通式(1-1-d)中，n表示不小于0的整数，优选0，1，2或3，更优选0，1或2，特别优选0或1。当n不小于2时，存在多个R12和多个R13。这样的多个R12和多个R13中的任意两个可以彼此相同或彼此不同，并且可以互相结合形成环状结构。
在通式(1-1-d)中，L2表示与-C3-C1-N1-C2-C4-一起形成环状结构的二价连接基团，连接C3和C4的单键或连接C3和C4的双键。在其中L2表示二价连接基团的情形中，L2可以含有取代基。作为包含L2的环状结构的优选实例，可以列举5-至10-元环。从去除溶解抑制作用的效率的观点来看，优选5-至8-元环，当进一步考虑到合成的适用性时，优选5-和6-元环。
在通式(1-1-d)中，选自R4至R14并且与相同的原子结合的两个取代基可以是相同的原子或取代基，这样可以形成双键。(例如如果R4＝R5＝O，可以形成羰基(-CO-)。)
在通式(1-1-d)中，选自R4至R14并且与彼此邻接的原子结合的两个取代基可以是相同的原子或取代基，这样可以形成3-元环。(例如，如果R4＝R8＝氧原子，可以形成环氧基。)
在由通式(1-1)表示的化合物中，作为优选实例，可以列举由下列通式(1-1-e)表示的化合物。
在通式(1-1-e)中，R2和X-各自具有分别与通式(1-1)中的R2或X-相同的定义，并且优选范围也相同。作为在通式(1-1-d)中的R2，更优选地，可以列举烷基，芳基，链烯基，炔基，或通过使这些基团之一被任意取代基取代而获得的基团。从溶解抑制的观点来看，优选R2含有不少于2个碳原子，更优选不少于3个碳原子，特别优选不少于4个碳原子。
在通式(1-1-e)中，R4至R14各自独立地表示氢原子或取代基。作为取代基，可以列举作为通式(1-1)中R2和R3的实例被列举的取代基。R4至R14中的任意两个可以彼此相同或不同，并且可以互相结合形成环状结构。R4至R14各自可以与L3或R2结合形成环状结构。在C3碳原子和C1碳原子之间，C4碳原子和C2碳原子之间，在C3碳原子和L3之间，或在C4碳原子和L3之间的键可以是双键或三键。在该情形中，按照该双键或三键的存在R4至R11中的一些不存在。此外，L3它自身可以是连接C3碳原子和C4碳原子的双键。同样在该情形中，按照该双键的存在R4至R11中的一些不存在。
在通式(1-1-e)中，m表示0-5的整数。当m不小于2时，存在多个R14。这样的多个R14中的任意两个可以彼此相同或彼此不同，并且可以互相结合形成环状结构。
在通式(1-1-e)中，n表示不小于0的整数，优选0，1，2或3，更优选0，1或2，特别优选0或1。当n不小于2时，存在多个R12和多个R13。这样的多个R12和多个R13中的任意两个可以彼此相同或彼此不同，并且可以互相结合形成环状结构。
在通式(1-1-e)中，L3表示与-C3-C1-N1-C2-C4-一起形成环状结构的二价连接基团，连接C3和C4的单键，或连接C3和C4的双键。作为二价连接基团，优选-O-，-S-，-N(RL1)-，或-C(RL2)(RL3)-。RL2至RL3选自氢原子和可以由通式(1-1)中的R2或R3表示的取代基。R12至RL3中的每一个可以与R2和R4至R14中的任一个结合形成环状结构。当C3和L3之间或C4和L3之间的键是双键时，按照该双键的存在RL2至RL3中的一些不存在。
在通式(1-1-e)中，选自R4至R14和RL2至RL3并且与相同的原子结合的两个取代基可以是相同的原子或取代基以致形成双键。(例如如果R4＝R5＝O，可以形成羰基(-CO-)。)
在通式(1-1-e)中，选自R4至R14和RL2至R13并且与彼此邻接的原子结合的两个取代基可以是相同的原子或取代基以致形成3-元环。(例如，如果R4＝R8＝氧原子，可以形成环氧基。
在由通式(1-1)表示的化合物中，作为优选实例，可以列举由下列通式(1-1-f)表示的化合物。
Figure A20041000339200291
通式(1-1-f)
在通式(1-1-f)中，R4至R17各自独立地表示氢原子或取代基。作为取代基，可以列举作为通式(1-1)中R2和R3的实例被列举的取代基。R4至R17中的任意两个可以彼此相同或不同，并且可以互相结合形成环状结构。R4至R17各自可以与L3，R2或R3结合形成环状结构。在C3碳原子和C1碳原子之间，C4碳原子和C2碳原子之间，在C3碳原子和L3之间，或在C4碳原子和L3之间的键可以是双键或三键。在该情形中，按照该双键或三键的存在R4至R11中的一些不存在。此外，L3它自身可以是连接C3碳原子和C4碳原子的双键。同样在该情形中，按照该双键的存在R4至R11中的一些不存在。
在通式(1-1-f)中，m1和m2各自独立地表示0-5的整数。当m1或m2不小于2时，存在多个R14或多个R17。这样的多个R14或R17中的任意两个可以彼此相同或彼此不同，并且可以互相结合形成环状结构。
在通式(1-1-f)中，n1和n2各自独立地表示不小于0的整数，优选0，1，2或3，更优选0，1或2，特别优选0或1。当n1不小于2时，存在多个R12和多个R13。这样的多个R12和多个R13中的任意两个可以彼此相同或彼此不同，并且可以互相结合形成环状结构。类似地，当n2不小于2时，存在多个R15和多个R16。这样的多个R15和多个R16中的任意两个可以彼此相同或彼此不同，并且可以互相结合形成环状结构。
在通式(1-1-f)中，L3表示与-C3-C1-N1-C2-C4-一起形成环状结构的二价连接基团，连接C3和C4的单键，或连接C3和C4的双键。作为二价连接基团，优选-O-，-S-，-N(RL1)-，或-C(RL2)(RL3)-。RL2至RL3选自氢原子和可以由通式(1-1)中的R2或R3表示的取代基。RL1至R13中的每一个可以与R2和R4至R17中的任何一个结合形成环状结构。当C3和L3之间或C4和L3之间的键是双键时，按照该双键的存在RL2至RL3中的一些不存在。
在通式(1-1-f)中，选自R4至R17和RL1至RL3并且与相同的原子结合的两个取代基可以是相同的原子或取代基，这样可以形成双键。(例如如果R4＝R5＝O，可以形成羰基(-CO-)。)
在通式(1-1-f)中，选自R4至R17和RL1至RL3并且与彼此邻接的原子结合的两个取代基可以是相同的原子或取代基，这样可以形成3-元环。(例如，如果R4＝R8＝氧原子，可以形成环氧基。)
下面，列举由通式(1-1)表示并且优选在本发明中使用的化合物的具体实例。然而，可以选择和使用由通式(1-1)表示的任何化合物。因此，可以在本发明中使用的化合物不限于以下列举的化合物。由化合物号I-1至I-62表示的化合物是含N环是6-元环的实例，由化合物号II-1至II-17表示的化合物是含N环是5-元环的实例，由化合物号III-1至III-17表示的化合物是含N环是含有甲基作为取代基的5-元环的实例，由化合物号IV-1至IV-17表示的化合物是含N环是其中还包括O的6-元环的实例。
表1
Figure A20041000339200312
表2
Figure A20041000339200321
表3
Figure A20041000339200332
表4
Figure A20041000339200342
表5
Figure A20041000339200352
表6
表7
Figure A20041000339200372
表8
Figure A20041000339200381
Figure A20041000339200382
表9
Figure A20041000339200392
表10
Figure A20041000339200401
Figure A20041000339200402
表11
Figure A20041000339200412
表12
Figure A20041000339200421
Figure A20041000339200422
此外，由化合物V-1至V-20表示的下列各种化合物也可以优选用作由通式(1-1)表示的化合物，并且可以显示按照本发明的作用。
Figure A20041000339200441
可以单独使用在按照本发明的成像材料中使用的由通式(1-1)表示的化合物，或者可以组合使用多种由通式(1-1)表示的化合物。从膜易成型性的观点来看，优选由通式(1-1)表示的化合物的含量不高于基于成像层中总固体含量质量的50％。从极好的图像易成型性的观点来看，优选该含量为基于成像层中总固体含量质量的0.1-30％。从提供极好的图像易成型性和极好的印刷性质如印刷耐久性的观点来看，最优选该含量为基于成像层中总固体含量质量的0.5-15％。
((C)由通式(1-2)表示的鎓盐)
按照本发明的第二种成像层包括由下列通式(I-2)表示的鎓盐(特定鎓盐)。
通式(I-2)X-M+
(在通式(1-2)中，X-表示含有至少一个含有碱性离解质子的取代基的阴离子。M+表示选自锍，碘鎓，铵盐，磷鎓和氧鎓的抗衡阳离子)。
人们认为当将由通式(1-2)表示的鎓盐加至成像层时，可以只在曝光部分取得溶解性的改善，而由于鎓盐母核的结构鎓盐在未曝光部分基本上不损伤离解抑制力，并且鎓盐的该作用是由抗衡离子上的碱性离解基团导致的。此外，人们认为在热-实例曝光系统中，由于在曝光中的强热产生，改善了基底的柔韧性，并且此刻改善了在膜中运动的自由度。未通过共价键固定于阳离子母核的抗衡阴离子在曝光期间具有高度的运动自由度，并往往会导致大的位置变化。据推断即使在通过曝光产生的瞬时热消失后，可以保持产生的变化，即消除在曝光部分中的溶解抑制作用，由此改善曝光后的耐贮性。
因此，认为在成像层中的该特定鎓盐与特定酚醛清漆树脂的作用一起，有助于本发明的优异效果。
下面，将详述由通式(1-2)表示的鎓盐。
作为含有在由X-表示的阴离子中的碱性离解质子的取代基，可以优选使用酚式羟基(Ar-OH)，羧基(-COOH)，巯基(-SH)，膦酸基(-PO3H2)，磷酸基(-OPO3H2)，氨磺酰基(-SO2NH2，-SO2NHR)，取代的氨磺酰类酸性团(以下，称为“活性二酰亚胺基团”；如-SO2NHCOR，-SO2NHSO2R，-CONHSO2R)，磺酸基(-SO3H)，亚磺酸基(-SO2H)，-C(CF3)2OH，或-COCH2COCF3。这里，Ar表示可以含有取代基的芳基，R表示可以含有取代基的烃基。作为提供离解抑制作用和灵敏度之间的极好平衡的取代基，可以列举酚式羟基，羧基，巯基，氨磺酰基，活性二酰亚胺基团，-C(CF3)2OH和-COCH2COCF3。最优选酚式羟基和羧基。
优选X-表示阴离子，其是Broensted酸的共轭碱，更优选表示阴离子，其是有机酸的共轭碱。该有机酸可以选自磺酸，羧酸，膦酸，酚类，活性二酰亚胺和亚磺酸。有机酸具有优选小于3和更优选小于1的pKa。特别优选有机酸是磺酸。
由M+表示的抗衡离子选自锍离子，碘鎓离子，铵离子，鏻离子和氧鎓离子。从溶解抑制作用的观点来看，优选锍离子，碘鎓离子和季铵离子，最优选季铵离子。
作为季铵的优选实例，可以列举由下列通式(M)表示的结构。
Figure A20041000339200461
通式(M)
在通式(M)中，Rm1至Rm4各自独立地表示包含一个或多个碳原子的取代基，并且Rm1至Rm4中的任意两个可以互相结合形成环状结构。
作为包括一个或多个碳原子、由Rm1至Rm4表示的的取代基，可以例举下列各项。
例如，可以列举烷基(每个优选含有1-20个碳原子，更优选1-16个碳原子，特别优选1-12个碳原子；具体地如甲基，乙基，正丁基，异丙基，叔丁基，正辛基，正癸基，正十六烷基，环丙基，环戊基，环己基，和2-环己基乙基)，链烯基(每个优选含有2-20个碳原子，更优选2-12个碳原子，特别优选2-8个碳原子；如乙烯基，烯丙基，2-丁烯基，3-戊烯基，2-环己烯基甲基)，炔基(每个优选含有2-20个碳原子，更优选2-12个碳原子，特别优选2-8个碳原子；如炔丙基和3-戊炔基)，芳基(每个优选含有6-30个碳原子，更优选6-20个碳原子，特别优选6-12个碳原子；如苯基，对-甲基苯基，和萘基)。
可以进一步取代这些取代基。当由Rm1至Rm4表示的取代基含有多个这种进一步的取代基时，这种进一步的取代基可以彼此相同或彼此不同，并且可以结合形成环。
优选Rm1至Rm4中的每一个是烷基，芳基，或通过使烷基或芳基被任意取代基取代而获得的基团。从图像部分的抗碱性的观点来看，优选Rm1至Rm4的碳原子总数是8-80，更优选10-64，特别优选12-48。当碳原子总数太少时，因为分子的亲水性变得太高，防水性有时变得微弱。在另一方面，当碳原子总数太多时，减小了阳离子的影响，有时降低溶解抑制作用。
作为季铵的优选实例，可以列举由下列通式(M-1)表示的结构。
通式(M-1)
在通式(M-1)中，R1表示与N1原子一起形成环状结构的残基。R2和R3各自独立地表示有机基团并且可以彼此结合形成环状结构。R2和R3中的至少一种可以与R1结合形成环状结构。
由R1表示的残基可以是与N1原子一起形成环状结构的任何二价有机基团。该环状结构不限于基于烃的环状结构，而且包含多个氮原子或者包含另外的杂原子如氧原子或硫原子。该环状结构其中可以包括双键并且可以是多环的。
作为由R1和N1原子形成的环状结构的优选实例，可以列举3-至10-元环。从有效消除溶解抑制作用的观点来看，优选3-至8-元环。考虑到合成的适用性，优选5-和6-元环。
由R1和N1原子形成的环状结构可以含有取代基，作为可以被介绍的该取代基可以列举烷基，芳基，卤原子等。
每个R2和R3可以相同或不同并且可以任意选自有机基团。然而，考虑到抑制，即，考虑到显示强烈的溶解抑制作用，优选R2和R3各自独立地表示芳基，由下列通式(2-2)表示的基团等，或者R2和R3的碳原子数总和不小于6的这样的烷基。优选地，R2和R3中的至少一个具有支化结构或环状结构。此外，考虑到消除溶解抑制作用的效率，优选R2和R3中的至少一个包含芳环，更优选R2和R3都包含芳环。
通式(2-2)
Figure A20041000339200481
在通式(2-2)中，R4，R5和R6各自独立地表示任意可能的取代基并且可以相同或不同。R4，R5和R6中的任意两个可以互相结合成环。R4或R5与C1之间的键可以是双键，在该情形中R4和R5表示相同的基团。n表示整数0或1。此外，m表示0-5的整数。当存在多个R6时，该R6中的任意两个可以彼此相同或彼此不同，并且可以互相结合形成环状结构。在其中n是1的情形中，从合成的适用性的观点来看，优选R4和R5中的至少一个是氢原子，最优选R4和R5都是氢原子。
作为由R2和R3表示的取代基，可以列举下列各项。例如，可以列举烷基(优选含有1-20个碳原子，更优选1-16个碳原子，特别优选1-12个碳原子，具体地如甲基，乙基，正丁基，异丙基，叔丁基，正辛基，正癸基，正十六烷基，环丙基，环戊基，环己基，和2-环己基乙基)，链烯基(优选含有2-20个碳原子，更优选2-12个碳原子，特别优选2-8个碳原子，如乙烯基，烯丙基，2-丁烯基(betenyl)，3-戊烯基，和2-环己烯基甲基)，炔基(优选含有2-20个碳原子，更优选2-12个碳原子，特别优选2-8个碳原子，如炔丙基和3-戊炔基)，芳基(优选含有6-30个碳原子，更优选6-20个碳原子，特别优选6-12个碳原子，如苯基，对-甲基苯基，和萘基)，氨基(优选含有0-20个碳原子，更优选0-12个碳原子，特别优选0-6个碳原子，如氨基，甲氨基，二甲氨基，二乙氨基，二苯氨基，和二苄基氨基)，烷氧基(优选含有1-20个碳原子，更优选1-12个碳原子，特别优选1-8个碳原子，如甲氧基，乙氧基，丁氧基)，芳氧基(优选含有6-20个碳原子，更优选6-16个碳原子，特别优选6-12个碳原子，如苯氧基和2-萘氧基)，酰基(优选具有1-20个碳原子，更优选1-16个碳原子，特别优选1-12个碳原子，如乙酰基，苯甲酰基，甲酰基，和新戊酰基)，烷氧羰基(优选含有2-20个碳原子，更优选2-16个碳原子，特别优选2-12个碳原子，如甲氧羰基和乙氧羰基)，芳氧羰基(优选含有7-20个碳原子，更优选7-16个碳原子，特别优选7-10个碳原子，如苯氧羰基)，酰氧基(优选含有2-20个碳原子，更优选2-16个碳原子，特别优选2-10个碳原子，如乙酰氧基和苯甲酰氧基)，酰氨基(优选含有2-20个碳原子，更优选2-16个碳原子，特别优选2-10个碳原子，如乙酰氨基和苯甲酰氨基)，烷氧羰基氨基(优选含有2-20个碳原子，更优选2-16个碳原子，特别优选2-12个碳原子，如甲氧羰基氨基)，芳氧基羰基氨基(优选含有7-20个碳原子，更优选7-16个碳原子，特别优选7-12个碳原子，如苯氧羰基氨基)，磺酰氨基(优选含有1-20个碳原子，更优选1-16个碳原子，特别优选1-12个碳原子，如甲磺酰氨基和苯磺酰氨基)，氨磺酰基(优选含有0-20个碳原子，更优选0-16个碳原子，特别优选0-12个碳原子，如氨磺酰基，甲基氨磺酰基，二甲基氨磺酰基，和苯基氨磺酰基)，氨基甲酰基(优选含有1-20个碳原子，更优选1-16个碳原子，特别优选1-12个碳原子，如氨基甲酰基，甲基氨基甲酰基，二乙基氨基甲酰基，和苯基氨基甲酰基)，烷硫基(优选含有1-20个碳原子，更优选1-16个碳原子，特别优选1-12个碳原子，如甲硫基和乙硫基)，芳硫基(优选含有6-20个碳原子，更优选6-16个碳原子，特别优选含有6-12个碳原子，如苯硫基)，磺酰基(优选含有1-20个碳原子，更优选1-16个碳原子，特别优选1-12个碳原子，如甲磺酰基和苯磺酰基)，亚硫酰基(优选含有1-20个碳原子，更优选1-16个碳原子，特别优选1-12个碳原子，如甲基亚硫酰基和苯亚硫酰基)，脲基(优选含有1-20个碳原子，更优选含有1-16个碳原子，特别优选含有1-12个碳原子，如脲基，甲脲基，和苯脲基)，磷酸酰胺基(优选含有1-20个碳原子，更优选1-16个碳原子，特别优选1-12个碳原子，如二乙基磷酸酰胺基和苯基磷酸酰胺基)，羟基，巯基，卤原子(例如氟原子，氯原子，溴原子和碘原子)，氰基，磺基，羧基，硝基，异羟肟酸基，亚磺基，肼基，亚氨基，杂环基(优选含有1-30个碳原子，更优选1-12个碳原子，并且另外包括氮原子，氧原子或硫原子作为杂原子，如咪唑基，吡啶基，喹啉基，呋喃基，噻吩基，哌啶基，吗啉代基，苯并噁唑基，苯并咪唑基，苯并噻唑基，咔唑基，azepinyl，和环氧乙基)，和甲硅烷基(优选含有3-40个碳原子，更优选3-30个碳原子，特别优选3-24个碳原子，如三甲代甲硅烷基和三苯基甲硅烷基)。
这些取代基可以被进一步取代。此外，当存在两个或多个这种进一步的取代基时，每个取代基可以相同或不同。还有，如果可能的话，取代基可以互相结合成环。
优选R2和R3各自是烷基，芳基，链烯基，炔基，或通过使这些基团被取代基取代而获得的基团。从溶解抑制作用的观点来看，优选R2和R3的碳原子数总和为6或更大，更优选8或更大，最优选10或更大。
作为季铵的优选实例，可以列举由下列通式(M-2)表示的结构。
Figure A20041000339200501
通式(M-2)
在通式(M-2)中，R2和R3各自具有与通式(M-1)中的R2和R3相同的定义，其优选范围也相同。在通式(M-2)中的R2，R3各自优选为烷基，芳基，链烯基，炔基，或通过使这些基团之一被任意取代基取代而获得的基团。考虑到溶解抑制作用，优选R2和R3的碳原子数总和为6或更大，更优选8或更大，最优选10或更大。
此外，在通式(M-2)中，R4至R7各自独立地表示氢原子或取代基。该取代基可以是在通式(M-1)中作为R2和R3的实例被列举的任何取代基。R4至R7中的任意两个可以彼此相同或不同，并且可以互相结合形成环状结构。R4至R7各自可以与L1，R2或R3结合形成环状结构。在其中L1和C1碳之间或者L1和C2碳之间的键为双键或者三键的情形中，按照双键或者三键的存在R4至R7中的一些不存在。
在通式(M-2)中，L1表示与-C1-N1-C2-一起形成环状结构的二价连接基团或单键。在L1是二价连接基团的情形中，L1可以含有取代基。包含L1的环状结构的优选实例是3-至10-元环状结构。从消除溶解抑制作用的效率的观点来看，优选3-至8-元环。考虑到合成的适用性，优选5-元环和6-元环。
在通式(M-2)中，选自R4至R7并且与相同的原子结合的取代基可以是相同的原子或取代基以致形成双键。(例如，如果R4＝R5＝O，可以形成羰基(-CO-)。)
在由通式(1-1)表示的季铵结构中，作为优选实例，可以列举由下列通式(M-3)表示的化合物。
通式(M-3)
在通式(M-3)中，R2，R3和X-中的每一个分别具有与通式(M-1)中的R2，R3或X-相同的定义，并且其优选范围也相同。
在通式(M-3)中，R4至R11各自独立地表示氢原子或取代基。作为取代基，可以列举作为通式(M-1)中R2和R3的实例被列举的取代基。R4至R11中的任意两个可以彼此相同或彼此不同，并且可以互相结合形成环状结构。R4至R11各自可以与L2，R2或R3结合形成环状结构。在C3碳原子和C1碳原子之间，C4碳原子和C2碳原子之间，在C3碳原子和L2之间，或在C4碳原子和L2之间的键可以是双键或三键。在该情形中，按照该双键或三键的存在R4至R11中的一些不存在。此外，L2它自身可以是连接C3碳原子和C4碳原子的双键。同样在该情形中，按照该双键的存在R4至R11中的一些不存在。
在通式(M-3)中，L2表示与-C3-C1-N1-C2-C4-一起形成环状结构的二价连接基团，连接C3和C4的单键或连接C3和C4的双键。在其中L2表示二价连接基团的情形中，L2可以含有取代基。作为包含L2的环状结构的优选实例，可以列举5-至10-元环。从消除溶解抑制的效率的观点来看，优选5-至8-元环，当进一步考虑到合成的适用性时，优选5-和6-元环。
在通式(M-3)中，选自R4至R11并且与相同的原子结合的两个取代基可以是相同的原子或取代基，这样可以形成双键。(例如如果R4＝R5＝O，可以形成羰基(-CO-)。)
在通式(M-3)中，选自R4至R11并且与彼此邻接的原子结合的两个取代基可以是相同的原子或取代基，这样可以形成3-元环。(例如，如果R4＝R8＝氧原子，可以形成环氧基。)
在由通式(1-1)表示的季铵结构中，作为优选实例，可以列举由下列通式(M-4)表示的化合物。
Figure A20041000339200531
在通式(M-4)中，R2具有与通式(M-1)中的R2相同的定义，并且优选范围也相同。作为在通式(M-4)中的R2，更优选地，可以列举烷基，芳基，链烯基，炔基，或通过使这些基团之一被任意取代基取代而获得的基团。从溶解抑制的观点来看，优选R2含有不少于2个碳原子，更优选不少于3个碳原子，特别优选不少于4个碳原子。
在通式(M-4)中，R4至R13各自独立地表示氢原子或取代基。作为取代基，可以列举作为通式(M-1)中R2和R3的实例被列举的取代基。R4至R13中的任意两个可以彼此相同或不同，并且可以互相结合形成环状结构。R4至R13各自可以与L2，R2或R3结合形成环状结构。在C3碳原子和C1碳原子之间，C4碳原子和C2碳原子之间，在C3碳原子和L2之间，或在C4碳原子和L2之间的键可以是双键或三键。在该情形中，按照该双键或三键的存在R4至R11中的一些不存在。此外，L2它自身可以是连接C3碳原子和C4碳原子的双键。同样在该情形中，按照该双键的存在R4至R11中的一些不存在。
在通式(M-4)中，Ar1表示芳环基，芳环基团的优选实例包括苯基，萘基，蒽基，菲基，吡啶基，pyrazyl基，咪唑基，喹啉基，吲哚基，异喹啉基，吡咯基，呋喃基，吡唑基，三唑基，四唑基，噁唑基，噁二唑基，噻唑基，和嘧啶基，其中每一个都可以被取代。Ar1可以与L2，R2，R4至R13中的任何一个结合形成环状结构。
在通式(M-4)中，n表示0或正整数，优选0，1，2，3，更优选0，1或2，特别优选0或1。当n不小于2时，存在多个R12和多个R13。这样的多个R12和多个R13中的任意两个可以彼此相同或彼此不同，并且可以互相结合形成环状结构。
在通式(M-4)中，L2表示与-C3-C1-N1-C2-C4-一起形成环状结构的二价连接基团，连接C3和C4的单键或连接C3和C4的双键。在其中L2表示二价连接基团的情形中，L2可以含有取代基。作为包含L2的环状结构的优选实例，可以优选列举5-至10-元环。考虑到消除溶解抑制的效率，优选5-至8-元环，考虑到合成的适用性，优选5-和6-元环。
在通式(M-4)中，选自R4至R13并且与相同的原子结合的两个取代基可以是相同的原子或取代基，这样可以形成双键。(例如如果R4＝R5＝O，可以形成羰基(-CO-)。)
在通式(M-4)中，选自R4至R13并且与彼此邻接的原子结合的两个取代基可以是相同的原子或取代基，这样可以形成3-元环。(例如，如果R4＝R8＝O，可以形成环氧基。)
在由通式(1-1)表示的季铵结构中，作为优选实例，可以列举由下列通式(M-5)表示的化合物。
Figure A20041000339200541
在通式(M-5)中，R2具有与通式(M-1)中的R2相同的定义，并且优选范围也相同。作为在通式(M-4)中的R2，更优选地，可以列举烷基，芳基，链烯基，炔基，或通过使这些基团之一被任意取代基取代而获得的基团。从溶解抑制的观点来看，优选R2含有不少于2个碳原子，更优选不少于3个碳原子，特别优选不少于4个碳原子。
在通式(M-5)中，R4至R14各自独立地表示氢原子或取代基。作为取代基，可以列举作为通式(M-1)中R2和R3的实例被列举的取代基。R4至R14中的任意两个可以彼此相同或不同，并且可以互相结合形成环状结构。R4至R14各自可以与L2，R2或R3结合形成环状结构。在C3碳原子和C1碳原子之间，C4碳原子和C2碳原子之间，在C3碳原子和L2之间，或在C4碳原子和L2之间的键可以是双键或三键。在该情形中，按照该双键或三键的存在R4至R11中的一些不存在。此外，L2它自身可以是连接C3碳原子和C4碳原子的双键。同样在该情形中，按照该双键的存在R4至R11中的一些不存在。
在通式(M-5)中，m表示0-5的整数。当m不小于2时，存在多个R14。这样的多个R14中的任意两个可以彼此相同或彼此不同，并且可以互相结合形成环状结构。
在通式(M-5)中，n表示0或正整数，优选0，1，2，3，更优选0，1或2，特别优选0或1。当n不小于2时，存在多个R12和多个R13。这样的多个R12和多个R13中的任意两个可以彼此相同或彼此不同，并且可以互相结合形成环状结构。
在通式(M-5)中，L2表示与-C3-C1-N1-C2-C4-一起形成环状结构的二价连接基团，连接C3和C4的单键或连接C3和C4的双键。在其中L2表示二价连接基团的情形中，L2可以含有取代基。作为包含L2的环状结构的优选实例，可以列举5-至10-元环。考虑到消除溶解抑制作用的效率，优选5-至8-元环，考虑到合成的适用性，优选5-和6-元环。
在通式(M-5)中，选自R4至R14并且与相同的原子结合的两个取代基可以是相同的原子或取代基，这样可以形成双键。(例如如果R4＝R5＝O，可以形成羰基(-CO-)。)
在通式(M-5)中，选自R4至R14并且与彼此邻接的原子结合的两个取代基可以是相同的原子或取代基，这样可以形成3-元环。(例如，如果R4＝R8＝O，可以形成环氧基。)
在季铵结构中，作为优选实例，可以列举由下列通式(M-6)表示的化合物。
通式(M-6)
在通式(M-6)中，R2具有与通式(M-1)中的R2相同的定义，并且优选范围也相同。作为在通式(M-6)中的R2，更优选地，可以列举烷基，芳基，链烯基，炔基，或通过使这些基团之一被任意取代基取代而获得的基团。从溶解抑制的观点来看，优选R2含有不少于2个碳原子，更优选不少于3个碳原子，特别优选不少于4个碳原子。
在通式(M-6)中，R4至R14各自独立地表示氢原子或取代基。作为取代基，可以列举作为通式(M-1)中R2和R3的实例被列举的取代基。R4至R14中的任意两个可以彼此相同或彼此不同，并且可以互相结合形成环状结构。R4至R14各自可以与L3或R2结合形成环状结构。在C3碳原子和C1碳原子之间，C4碳原子和C2碳原子之间，在C3碳原子和L3之间，或在C4碳原子和L3之间的键可以是双键或三键。在该情形中，按照该双键或三键的存在R4至R11中的一些不存在。此外，L3它自身可以是连接C3碳原子和C4碳原子的双键。同样在该情形中，按照该双键的存在R4至R11中的一些不存在。
在通式(M-6)中，m表示0-5的整数。当m不小于2时，存在多个R14。这样的多个R14中的任意两个可以彼此相同或彼此不同，并且可以互相结合形成环状结构。
在通式(M-6)中，n表示0或正整数，优选0，1，2，3，更优选0，1或2，特别优选0或1。当n不小于2时，存在多个R12和多个R13。这样的多个R12和多个R13中的任意两个可以彼此相同或彼此不同，并且可以互相结合形成环状结构。
在通式(M-6)中，L3表示与-C3-C1-N1-C2-C4-一起形成环状结构的二价连接基团，连接C3和C4的单键，或连接C3和C4的双键。作为二价连接基团，可以优选列举-O-，-S-，-N(RL1)-，或-C(RL2)(RL3)-。RL1至RL3选自氢原子和可以由通式(M-1)中的R2或R3表示的取代基。RL1至RL3中的每一个可以与R2和R4至R14中的任何一个结合形成环状结构。当C3和L3之间或C4和L3之间的键是双键时，按照该双键的存在RL1至RL3中的一些不存在。
在通式(M-6)中，选自R4至R14和RL1至RL3并且与相同的原子结合的两个取代基可以是相同的原子或取代基，这样可以形成双键。(例如如果R4＝R5＝O，可以形成羰基(-CO-)。)
在通式(M-6)中，选自R4至R14和RL1至RL3并且与彼此邻接的原子结合的两个取代基可以是相同的原子或取代基，这样可以形成3-元环。(例如，如果R4＝R8＝O，可以形成环氧基。)
在季铵结构中，作为优选实例，可以列举由下列通式(M-7)表示的化合物。
Figure A20041000339200571
在通式(M-7)中，R4至R17各自独立地表示氢原子或取代基。作为取代基，可以列举作为通式(M-1)中R2和R3的实例被列举的取代基。R4至R17中的任意两个可以彼此相同或彼此不同，并且可以互相结合形成环状结构。R4至R17各自可以与L3，R2或R3结合形成环状结构。在C3碳原子和C1碳原子之间，C4碳原子和C2碳原子之间，在C3碳原子和L3之间，或在C4碳原子和L3之间的键可以是双键或三键。在该情形中，按照该双键或三键的存在R4至R11中的一些不存在。此外，L3它自身可以是连接C3碳原子和C4碳原子的双键。同样在该情形中，按照该双键的存在R4至R11中的一些不存在。
在通式(M-7)中，m1和m2各自独立地表示0-5的整数。当m1或m2不小于2时，存在多个R14或多个R17。这样的多个R14或R17中的任意两个可以彼此相同或彼此不同，并且可以互相结合形成环状结构。
在通式(M-7)中，n1和n2各自独立地表示不小于0的整数，优选0，1，2或3，更优选0，1或2，特别优选0或1。当n1不小于2时，存在多个R12和多个R13。这样的多个R12和多个R13中的任意两个可以彼此相同或彼此不同，并且可以相互结合形成环状结构。当n2不小于2时，存在多个R12和多个R13。这样的多个R15和多个R16中的任意两个可以彼此相同或彼此不同而形成环状结构。这些可以是彼此相同或彼此不同或者可以相互结合形成环状结构。
在通式(M-7)中，L3表示与-C3-C1-N1-C2-C4-一起形成环状结构的二价连接基团，连接C3和C4的单键，或连接C3和C4的双键。作为二价连接基团，优选-O-，-S-，-N(RL1)-，或-C(RL2)(RL3)-。RL2至RL3选自氢原子和可以由通式(M-1)中的R2或R3表示的取代基。RL1至RL3中的每一个可以与R2，R4至R14中的任何一个结合形成环状结构。当C3和L3之间或C4和L3之间的键是双键时，按照该双键的存在RL2至RL3中的一些不存在。
在通式(M-7)中，选自R4至R17和RL1至RL3并且与相同的原子结合的两个取代基可以是相同的原子或取代基，这样可以形成双键。(例如，如果R4＝R5＝O，可以形成羰基(-CO-)。)
在通式(M-7)中，选自R4至R17和RL1至RL3并且与彼此邻接的原子结合的两个取代基可以是相同的原子或取代基，这样可以形成3-元环。(例如，如果R4＝R8＝O，可以形成环氧基。)
在由通式(1-2)表示的鎓盐中，作为更优选的实例，可以列举由下列通式(1-2-A)表示的鎓盐。
通式(1-2-A)：RA-SO3M+
在通式(1-2-A)中，RA表示含有至少一个含有碱性离解质子的取代基的阴离子，M+表示选自锍，碘鎓，铵盐，磷鎓和氧鎓的抗衡阳离子。
作为在RA上含有碱性离解质子的取代基，优选酚式羟基(Ar-OH)，羧基(-COOH)，巯基(-SH)，膦酸基(-PO3H2)，磷酸基(-OPO3H2)，氨磺酰基(-SO2NH2，-SO2NHR)，取代的氨磺酰类酸性团(以下，称为“活性二酰亚胺基团”，例如，-SO2NHCOR，-SO2NHSO2R，或-CONHSO2R)，磺酸基(-SO3H)，亚磺酸基(-SO2H)，-C(CF3)2OH，或-COCH2COCF3。在上面中，Ar表示可以含有取代基的芳基，R表示可以含有取代基的烃基。此外，作为每个具有在离解抑制作用和灵敏度之间的极好平衡的实例，可以列举酚式羟基，羧基，巯基，氨磺酰基，活性二酰亚胺基团，-C(CF3)2OH和-COCH2COCF3。最优选酚式羟基和羧基。
在RA中，含有具有碱性离解质子的取代基的骨架(skelton)可以是含有另外的取代基的烃基。尽管没有对烃基结构的具体限制，优选该烃基基团包含芳环。芳环可以是芳烃如苯环，萘环，蒽环，或菲环，或芳族杂环如吡咯环，吡啶环，喹啉环，吖啶环，咪唑环，呋喃环，噻吩环，和噻唑环。在它们当中，优选芳烃，特别优选苯环。
在通式(1-2-A)中，考虑到溶解抑制作用，优选M+是锍离子，碘鎓离子或季铵。最优选季铵。季铵的优选实例是在通式(1-2)的说明中作为优选实例列举的季铵离子。
在通式(1-2)中，作为更优选的实例，可以列举由下列通式(1-2-B)表示的鎓盐。
通式(1-2-B)：ArB-SO3 -M+
在通式(1-2-B)中，ArB表示含有至少一个含有碱性离解质子的取代基的阴离子，M+表示选自锍离子，碘鎓离子，铵离子，鏻离子和氧鎓离子的抗衡阳离子。
在通式(1-2-B)中，优选含有碱性离解质子的取代基是酚式羟基(Ar-OH)，羧基(-COOH)，巯基(-SH)，膦酸基(-PO3H2)，磷酸基(-OPO3H2)，氨磺酰基(-SO2NH2，-SO2NHR)，取代的氨磺酰类酸性团(以下，称为“活性二酰亚胺基团”，例如，-SO2NHCOR，-SO2NHSO2R，或-CONHSO2R)，磺酸基(-SO3H)，亚磺酸基(-SO2H)，-C(CF3)2OH，或-COCH2COCF3。在上面中，Ar表示可以含有取代基的芳基，R表示可以含有取代基的烃基。作为每个具有在离解抑制作用和灵敏度之间的极好平衡的实例，可以列举酚式羟基，羧基，巯基，氨磺酰基，活性二酰亚胺基团，-C(CF3)2OH和-COCH2COCF3。最优选酚式羟基和羧基。
在通式(1-2-B)中，考虑到溶解抑制作用，优选M+是锍离子，碘鎓离子或季铵离子。最优选季铵离子。季铵离子的优选实例是在通式(1-2)的说明中作为优选实例列举的季铵离子。
优选由按照本发明的通式(1-2)表示的鎓盐在500-600nm之间没有显著吸收，更优选在可见光范围内没有显著吸收。
可以将由通式(1-2)表示的一种鎓盐用于按照本发明的成像材料。备选地，可以组合使用由通式(1-2)表示的多种鎓盐。从膜的易成型性的观点来看，优选由通式(1-2)表示的鎓盐的含量是基于成像层中总固体含量的50质量％或更小。为了获得极好的图像易成型性，优选鎓盐的含量为0.1-30％。此外，为了同时在高水平上满足印刷性质如印刷耐久性和图像易成型性，最优选该含量为0.5-15％。
下面，列举优选在本发明中使用和由通式(1-2)表示的鎓盐的具体实例(典型化合物C-1至C-30)。然而，可以选择和使用由通式(I-2)表示的任何鎓盐，因此，不将在本发明中可使用的鎓盐限制于典型化合物。
表13
表14
表15
表16
Figure A20041000339200641
表17
下面，将说明上述成像层两者的共同构造。
((B)光热转化剂)
按照本发明的成像层包括(B)光热转化剂。
在本发明中使用的(B)光热转化剂可以是任何吸收用于记录的照射和产生热的物质，对其吸收波长范围无具体限制。然而，从使用容易商购的高功率激光器曝光的适用性观点来看，优选在760-1200nm的波长范围内具有最大吸收的红外光吸收吸收染料或颜料。
(红外吸收染料或颜料)
在本发明中使用的染料可以是可商购的染料或在文献如合成有机化学学会编辑的Senryou Binran(染料手册)(1970年))中所述的众所周知的染料。该染料的具体实例包括偶氮染料，金属复合物偶氮染料，吡唑啉酮偶氮染料，萘醌染料，蒽醌染料，酞菁染料，萘菁染料，碳鎓染料，醌亚胺染料，次甲基染料，花青染料，squalirium染料，(硫代)吡喃鎓盐，金属-硫醇盐，靛苯胺金属复合物染料，氧杂菁(oxonol)染料，diimonium染料，铵染料，croconium染料和分子间类型的CT染料。
优选的实例包括在JP-A号58-125246，59-84356，59-202829和60-78787中公开的花青染料；在JP-A号58-173696，58-181690，和58-194595中公开的次甲基染料；在JP-A号58-112793，58-224793，59-48187，59-73996，60-52940，和60-63744中公开的萘醌染料；在JP-A号58-112792中公开的squalirium染料；和在英国专利号434,875中公开的花青染料。
此外，可以优选使用在美国专利号5，156,938中公开的近红外吸收敏化剂。此外，还可以优选使用在美国专利号3,881,924中公开的取代的芳基苯并(硫代)吡喃鎓盐；在JP-A号57-142645(对应于美国专利号4,327,169)中公开的三次甲基噻喃鎓盐；在JP-A号58-181051，58-220143，59-41363，59-84248，59-84249，59-146063，和59-146061中公开的基于吡喃鎓的化合物；在JP-A号59-216146中公开的花青染料；在美国专利号4,283,475中公开的五次甲基硫代吡喃鎓盐；和在JP-B号5-13514和5-19702中公开的吡喃鎓化合物。
其它优选的染料实例包括由美国专利号4,756,993中的式(I)和(II)表示的近红外吸收染料。
在这些染料中特别优选的染料是花青染料，酞菁染料，氧杂菁(oxonol)染料，squalirium染料，吡喃鎓盐，硫代吡喃鎓染料和镍-硫醇盐络合物。
优选由下列通式(a)至(f)表示的染料，因为其极好的光热转化效率。特别是，当将由下列通式(a)表示的花青染料用于本发明时，花青染料与碱溶性树脂强烈相互作用。因此，最优选由通式(a)表示的花青染料。
通式(a)
在通式(a)中，R1和R2各自独立地表示含有1-12个碳原子的烷基，并且该烷基可以含有选自烷氧基，芳基，酰胺基，烷氧羰基，羟基，磺基或羧基的取代基。Y1和Y2各自独立地表示氧原子，硫原子，硒原子，二烷基亚甲基或-CH＝CH-。Ar1和Ar2各自独立地表示芳烃基团并且可以含有选自烷基，烷氧基，卤原子，或烷氧羰基的取代基。在Ar1中，与Y1相邻的碳原子和与所述碳原子相邻的碳原子可以属于与Ar1缩合的另一个环。在Ar2中，与Y2相邻的碳原子和与所述碳原子相邻的碳原子可以属于与Ar2缩合的另一个环。
在通式(a)中，X表示中和电荷所需的抗衡离子，其在当染料的阳离子部分含有阴离子取代基时是不需要的。Q表示选自三次甲基，五次甲基，七次甲基，九次甲基或十一次甲基的多次甲基。从用于曝光的红外光的稳定性和波长性能(wavelength aptitude)的观点来看，优选五次甲基，七次甲基或九次甲基。从稳定性的观点来看，Q优选包含三个连续碳原子在其次甲基链中，所述三个连续碳原子是环己烯环或环戊烯环的成员。
在通式(a)中，Q可以被取代基所取代，该取代基选自烷氧基，芳氧基，烷硫基，芳硫基，二烷基氨基，二芳基氨基，卤原子，烷基，芳烷基，环烷基，芳基，氧基，iminium基或由下列通式(i)表示的取代基。作为优选的取代基，可以列举卤原子如氯原子，二芳基氨基如二苯基氨基，和芳硫基如苯硫基。
在通式(i)中，R3和R4各自独立地表示氢原子，含有1-8个碳原子的烷基，或含有6-10个碳原子的芳基。Y3表示氧原子或硫原子。
当将具有800-840nm的波长的红外光用丁曝光时，可以列举由下列通式(a-1)至(a-4)表示的七次甲基花青染料作为在由通式(a)表示的花青染料中特别优选的实例。
通式(a-1)
Figure A20041000339200682
在通式(a-1)中，X1表示氢原子或卤原子。R1和R2各自独立地表示含有1-12个碳原子的烃基。考虑到成像层涂渍溶液的储存稳定性，优选R1和R2各自表示含有2个或更多碳原子的烃基。特别优选R1和R2互相结合形成5-或6-元环。
在通式(a-1)中，Ar1和Ar2可以彼此相同或彼此不同，并且各自独立地表示可以含有取代基的芳烃基团。优选该芳烃基团是苯环或萘环。优选芳烃上的取代基是含有12个或更少碳原子的烃基，卤原子，或含有12个或更少碳原子的烷氧基。Y1和Y2可以彼此相同或彼此不同，并且各自独立地表示硫原子或含有12个或更少碳原子的二烷基亚甲基。R3和R4可以彼此相同或彼此不同，并且各自独立地表示含有20个或更少碳原子的烃基并且可以含有取代基。优选该取代基是含有12个或更少碳原子的烷氧基，羧基或磺酸基。R5，R6，R7和R8可以彼此相同或彼此不同，并且各自独立地表示氢原子或含有12个或更少碳原子的烃基。从原料的可用性的观点来看，优选R5，R6，R7和R8各自表示氢。Za-表示中和电荷所需的抗衡阴离子。当染料在其结构中包含阴离子取代基和不需要中和电荷时，不需要Za-。从记录层涂渍溶液的储存稳定性，优选Za-表示卤素离子，高氯酸根离子，四氟硼酸根离子，六氟硫酸根离子或磺酸根离子。特别优选Za-表示高氯酸根离子，四氟硼酸根离子，六氟硫酸根离子或磺酸根离子。可以将由上述通式(a-1)表示的七次甲基染料优选用于阳图型成像材料，并且特别优选用于所谓的消除相互作用类型的阳图型光敏材料，其中光热转化剂与含有酚式羟基的碱溶性树脂结合。
通式(a-2)
Figure A20041000339200691
在通式(a-2)中，R1和R2各自独立地表示氢原子或含有1-1 2个碳原子的烃基。R1和R2可以相互结合形成环状结构。优选该环状结构时5-或6-元环，特别优选5-元环。Ar1和Ar2可以彼此相同或彼此不同，并且各自独立地表示可以含有取代基的芳烃基团。优选该芳烃基团是苯环或萘环。优选芳烃上的取代基是含有12个或更少碳原子的烃基，卤原子，或含有12个或更少碳原子的烷氧基，烷氧羰基，烷基磺酰基，或卤代烷基。特别优选芳烃上的取代基是吸电子取代基。Y1和Y2可以彼此相同或彼此不同，并且各自独立地表示硫原子或含有12个或更少碳原子的二烷基亚甲基。R3和R4可以彼此相同或彼此不同，并且各自独立地表示含有20个或更少碳原子的烃基并且可以含有取代基。优选R3和R4中的取代基是含有12个或更少碳原子的烷氧基，羧基或磺酸基。R5，R6，R7和R8可以彼此相同或彼此不同，并且各自独立地表示氢原子或含有12个或更少碳原子的烃基。从原料的可用性的观点来看，优选R5，R6，R7和R8各自表示氢。R9和R10可以彼此相同或彼此不同。R9和R10各自独立地表示含有6-10个碳原子的芳烃基，含有1-8个碳原子的烷基，其中每一个可以含有取代基，或氢原子，或者R9和R10可以相互结合形成下列各环。
Figure A20041000339200701
特别优选在通式(a-2)中的R9和R10表示芳烃基如苯基。
X-是中和电荷所需的抗衡阴离子。它的定义与通式(a-1)中的Za-相同。
通式(a-3)
在通式(a-3)中，R1至R8，Ar1，Ar2，Y1，Y2和X-各自具有与在通式(a-2)中相同的定义。Ar3表示芳烃基如苯基和萘基，或各自包含氮原子，氧原子和硫原子中的至少一种的单环或多环杂环。优选Ar3表示选自噻唑环，苯并噻唑环，萘噻唑环，硫茚并-7，6，4，5-噻唑环，噁唑环，苯并噁唑环，萘噁唑环，硒唑环，苯并硒唑环，萘硒唑环，噻唑啉环，2-喹啉环，4-喹啉环，1-异喹啉环，3-异喹啉环，苯并咪唑环，3，3-二烷基苯并假吲哚环，  2-吡啶环，4-吡啶环，3，3-二烷基苯并吲哚环，四唑环，三唑环，嘧啶环和噻二唑环的杂环。Ar3特别优选地表示具有下列结构之一的杂环基。
通式(a-4)
在通式(a-4)中，R1至R8，Ar1，Ar2，Y1，Y2各自具有与上述通式(a-2)中相同的定义。R11和R12可以彼此相同或彼此不同，并且各自独立地表示氢原子，芳基，环己基或含有1-8个碳原子的烷基。Z表示氧原子或硫原子。
按照本发明，由通式(a)表示的花青染料的优选实例包括下列化合物，在JP-A第2001-133969号，段落号[0017]-[0019]，JP-A第2002-40638号，段落号[0012]-[0038]和JP-A第2002-23360号，段落号[0012]至[0023]中所述的化合物。
Figure A20041000339200751
Figure A20041000339200781
通式(b)
Figure A20041000339200782
在通式(b)中，L表示含有7个或更多共轭碳原子的次甲基链，并且该次甲基链可以含有取代基。如果在次甲基链上存在多个取代基，取代基可以相互结合形成环状结构。Zb+表示抗衡阳离子。优选Zb+表示铵离子，碘鎓离子，锍离子，鏻离子，吡啶鎓(pyridium)离子，或碱金属阳离子(Na+，K+，或Li+)。R9至R14和R15至R20各自独立地表示氢原子或选自卤原子，氰基，烷基，芳基，链烯基，炔基，羰基，硫基，磺酰基，亚硫酰基，氧基和氨基的取代基，或通过结合这些取代基的两种或三种获得的取代基。R9至R14和R15至R20中的任何两种可以互相结合形成环状结构。在由通式(b)表示的化合物中，从可用性和其效果的观点来看，优选其中L表示包含7个共轭碳原子的次甲基链的化合物和其中R9至R14和R15至R20全部表示氢原子的化合物。
在本发明中，作为由通式(b)表示的染料的优选实例，可以列举以下举例说明的染料。
通式(C)
Figure A20041000339200792
在通式(c)中，Y3和Y4各自独立地表示氧原子，硫原子，硒原子或碲原子。M表示包含5个或更多共轭碳原子的次甲基链。R21至R24和R25至R28可以彼此相同或彼此不同。R21至R24和R25至R28各自独立地表示氢原子，卤原子，氰基，烷基，芳基，链烯基，炔基，羰基，硫基，磺酰基，亚硫酰基，氧基和氨基。在通式(c)中，Za-表示抗衡阴离子并具有与通式(a-1)中的Za-相同的定义。
在本发明中，作为由通式(c)表示的染料的优选实例，可以列举以下举例说明的染料。
通式(d)
Figure A20041000339200811
在通式(d)中，R29至R32各自独立地表示氢原子，烷基，或芳基。R33至R34各自独立地表示烷基，取代的氧基，或卤原子。在通式(d)中，n和m各自独立地表示0-4的整数。R29和R30，或R31和R32可以互相结合成环。R29和/或R30可以与R33结合成环。R31和/或R32可以与R34结合成环。当存在多个R33时，这样的多个R33可以互相结合成环。当存在多个R34时，这样的多个R34可以互相结合成环。X2和X3各自独立地表示氢原子，烷基，或芳基。0表示可以含有取代基的三次甲基或可以含有取代基的五次甲基，并且可以与二价有机基团形成环状结构。Zc-表示抗衡阴离子并具有与通式(a-1)中的Za-相同的定义。
在本发明中，作为由通式(d)表示的染料的优选实例，可以列举以下举例说明的染料。
Figure A20041000339200821
通式(e)
在通式(e)中，R35至R50各自独立地表示氢原子，卤原子，氰基，烷基，芳基，链烯基，炔基，羟基，羰基，硫基，磺酰基，亚硫酰基，氧基和氨基或鎓盐结构，其全部可以含有取代基。M表示两个氢原子或金属原子，卤代金属基团(halometal group)，或氧化金属基团(oxymetal group)。作为包含于其中的金属，可以列举在周期表中的IA，IIA，IIIB和IVB族原子，第一，第二和第三周期过度金属元素，和镧系元素。在这些金属中，优选铜，镍，镁，铁，锌，锡，钴，铝，钛，和钒。特别优选钒，镍，锌和锡。这些金属原子各自可以与氧原子，卤素原子等结合来满足它的价数。
在本发明中，由通式(e)表示的染料的优选实例包括以下举例说明的染料。
Figure A20041000339200841
Figure A20041000339200851
Figure A20041000339200861
通式(f-1)
通式(f-2)
在通式(f-1)和(f-2)中，R51至R58各自独立地表示氢原子，可以含有取代基的烷基，或可以含有取代基的芳基。X-具有与上述通式(a-2)中相同的定义。
在本发明中，由通式(d)表示的染料的优选实例包括以下举例说明的染料。
Figure A20041000339200871
作为除了上面列举的实例以外的光热转化剂，可以优选使用含有多个发色团且在JP-A号2001-242613中描述的染料，每个含有与高分子化合物共价连接的发色团且在JP-A号2002-97384和美国专利号6,124,425中描述的染料，在美国专利号6,248,893中描述的阴离子染料，和每个含有表面定向基团且在JP-A号2001-347765中描述的染料。
作为可以用作本发明中的光热转化剂的颜料，可以列举可商购的颜料和在“Color Index(C.I.)Handbook”，Nippon ganryou gijutsu kyoukai编辑，Saishin ganryou binran(Current Pigment Handbook，1977)，Saishinganryou ouyou gijutsu(Current Pigment Application Technology)(CMC，1986)，和Insatsu inki gijutsu(Printing Ink Technology)(CMC，1984)中描述的颜料。
各种颜料的实例包括炭黑，黄色颜料，橙色颜料，褐色颜料，红色颜料，紫色颜料，蓝色颜料，绿色颜料，荧光颜料，金属粉末颜料，和聚合物粘合颜料。具体地，可以使用不溶偶氮颜料，偶氮色淀颜料，缩合偶氮颜料，螯合偶氮颜料，酞菁颜料，蒽醌颜料，pyrelene系颜料，perione颜料，硫靛颜料，醌酞酮颜料，染色色淀颜料，吖嗪颜料，亚硝基颜料，硝基颜料，天然颜料，无机颜料和炭黑。在它们当中，优选炭黑。
这些颜料可以在进行表面处理后或未进行表面处理使用。可以通过方法如用树脂或蜡涂布颜料表面的方法，将表面活性剂粘附在表面的方法，将活性物质(例如，硅烷偶联剂，环氧化合物，或聚异氰酸酯)与颜料表面结合的方法来进行表面处理。在Kinzoku sekken no seishitsu to Ouyou(Properties of Metallic Soaps and their Applications)(Saiwai Shobou)，InsatsuInki Gijutsu(Printing Ink Technology)(CMC，1984)，和Saishin ganryououyou gijutsu(Current Pigment Application Technology)(CMC，1986)中描述上述表面处理方法。
优选颜料的粒径为0.01-10μm，更优选0.05-1μm，特别优选0.1-1μm。当颜料的粒径小于0.01μm时，分散在成像层涂渍溶液中的材料的稳定性是不令人满意的，当粒径大于10μm时，成像层的均匀性是不令人满意的。
作为分散颜料的方法，可以使用在油墨，有机调色剂等的生产中使用的已知的分散技术。分散机的实例包括超声分散混合机，砂摩机，磨光器，珠磨机(pearl mill)，超微磨(super mill)，球磨，高速搅拌机，分散混合机，KD磨，胶体磨，负阻管，三辊滚轧机，和压揉机。其详细资料在Saishinganryou Ouyou gijutsu(Current Pigment Application Technology)(CMC，1986)中描述。
可以以基于成像层(记录层)所有固体含量的总质量的0.01-50质量％，优选0.1-10质量％的量加入颜料或染料。在染料的情形中，特别优选0.5-10质量％的量。在颜料的情形中，特别优选0.1-10质量％的量。当加入的颜料或染料的量小于0.01质量％，灵敏度会降低。当该量大于50质量％，随着混合的量的增大，丧失了记录层的均匀性，并可能损害记录层的耐贮性。可以使用单种染料或颜料或者可以组合使用多种染料或颜料。为了与每个具有不同波长的曝光机配套，优选结合使用各自具有不同吸收波长的染料或颜料。
(其它组分)
当形成按照本发明的阳图型成像层时，按照需要可以另外加入添加剂。从改善防止图像部分被显影剂溶解的效果的观点来看，优选使用可热分解的并显著降低完整状态的(in intact state)碱性水溶性高分子化合物的溶解度的物质。这种物质的实例包括其它鎓盐，邻-醌二叠氮化合物，芳族砜化合物，和芳族磺酸酯。在按照本发明的第一种成像层的情形中这种其它的鎓盐是除了由通式(1-1)表示的鎓盐以外的鎓盐。二在按照本发明第二种成像层的情形中，这种其它的鎓盐是除了由通式(1-2)表示的鎓盐以外的鎓盐。其它鎓盐的实例包括重氮盐，铵盐，鎓盐，碘鎓盐，锍盐，
Figure A20041000339200891
盐，鉮盐和吖嗪鎓(azinium)盐。
本发明所用的其它鎓盐的优选实例包括在S.I.Schlesinger，“Photogr.Sci.Eng.”，18，(1974)，387，T.S.Bal等，“Polymer”，21(1980)，423和JP-A号5-158230中所述的重氮盐；在美国专利号4,069,055与4,069,056，和JP-A号3-140140中所述的铵盐；在D.C.Necker，等，“Macromolecules”，17，(1984)，2468，C.S.Wen，等，“Teh，Proc.Conf.Rad.Curing ASIA”，东京，10月(1988)，第478页，和美国专利号4,069,055与4,069,056中所述的鳞盐；在J.V Crivello，等，“Macromolecules”，lO(6)，(1977)1307，“Chem.&Eng.News”，11月28日，(1988)，第31页，欧洲专利号104,143，美国专利5,041,358和4,491,628，和JP-A 2-150848和2-296514中所述的碘鎓盐；在J.V.Crivello，等，“Polymer J.”17(1985)，73，J.V.Crivello等，“J.Org.Chem.”，43(1978)，3055，W.R.Watt，等，“J.Polymer Sci.”，“PolymerChem.Ed.”，22(1984)，1789，J.V.Crivello等，“Polymer Bull.”，14，(1985)，279，J.V.Crivello，等，“Macromolecules”，14(5)(1981)，1141，J.V.Crivello，等，“J.Polymer Sci.”，“Polymer Chem.Ed.”，17(1979)，2877，欧洲专利0 370,693，233,567，297,443和297,442，美国专利4,9133，377，3,902,114，5,041,358，4,491,628，4,760,013，4,734,444和2,833,827，德国专利2,904,626，3,604,580和3,604,581中所述的锍盐；在J.V.Crivello，等，“Macromolecules”，10(6)，(1977)，1307，和J.V.Crivello等，“J.PolymerSci.”，“Polymer Chem.Ed.”，17(1979)，1047中所述的
Figure A20041000339200901
盐；和在C.S.Wen等，“Tch，Proc.Conf.Rad.Curing ASIA”，第478页，东京，10月(1988)中所述的鉮盐。
在其它鎓盐中，特别优选重氮盐。此外，作为特别优选的重氮盐，可以列举在JP-A 5-158230中所述的化合物。
在其它鎓盐中的抗衡离子的实例包括四氟硼酸，六氟磷酸，三异丙基萘磺酸，5-硝基-邻-甲苯磺酸，5-磺基水杨酸，2,5-二甲基苯磺酸，2,4,6-三甲基苯磺酸，2-硝基苯磺酸，3-氯苯磺酸，3-溴苯磺酸，2-氟辛基萘磺酸，十二烷基苯磺酸，1-萘酚-5-磺酸，2-甲氧基-4-羟基-5-苯甲酰基苯磺酸，和对-甲苯磺酸等。在它们当中，特别优选六氟磷酸，和烷基芳香磺酸如三异丙基萘磺酸和2，5-二甲基苯磺酸。
作为优选的苯醌二叠氮，可以列举邻-苯醌二叠氮化合物。本发明使用的邻-苯醌二叠氮化合物是一种含有至少一个邻-苯醌二叠氮基并且由于热分解增加其碱溶性度的化合物，并且可以使用各种结构的邻-苯醌二叠氮化合物。即，邻-苯醌二叠氮有助于光敏材料的溶解，因为当邻-苯醌二叠氮被热分解时，邻-苯醌二叠氮停止抑制粘合剂被溶解并且邻-苯醌二叠氮自身转化为碱溶性物质。可以用于本发明的邻-苯醌二叠氮的实例包括在J.Coser Ligat-sensitive Systems(John Wiley＆Sons，Inc3，第339至352页中所述的化合物。邻-苯醌二叠氮特别优选的实例包括通过将邻-苯醌二叠氮与各种芳香多羟基化合物或芳香氨基化合物反应而得到的邻-苯醌二叠氮的磺酸酯或磺酰胺。也优选使用的是如在JP-B 43-28403中所述的苯醌-(1，2)-二叠氮磺酰氯或萘醌-(1，2)-二叠氮-5-磺酰氯与连苯三酚丙酮树脂的酯，和如在USP 3,046,120和3,188,210中所述的苯醌-(1，2)-二叠氮磺酰氯或萘醌-(1，2)-二叠氮-5-磺酰氯与酚醛树脂的酯。
也可以适当地使用萘醌-(1，2)-二叠氮-4-磺酰氯与苯酚甲醛树脂或甲酚甲醛树脂的酯，和萘醌-(1，2)-二叠氮-4-磺酰氯与连苯三酚丙酮树脂的酯。己知并在许多专利中报道了其它有用的邻-苯醌二叠氮化合物。可以使用例如在JP-A 47-5303，48-63802，48-63803，48-96575，49-3870l和48-13354，JP-B 41-11222，45-9610和49-17481，美国专利2,797,213，3,454,400，3,544,323，3,573,91 7，3,674,495和3,785,825，英国专利1,227,602，1,251,345，1,267,005，1,329,888和1,330,932，和德国专利854,890中所述的邻-苯醌二叠氮化合物。
基于成像材料的总固体含量，优选邻-苯醌二叠氮化合物加入量为1至50质量％，更优选为5至30质量％，并且特别优选为10至30质量％。可以单独使用邻-苯醌二叠氮化合物或组合使用多种邻-苯醌二叠氮化合物。
基于成像材料的总固体含量，优选除了邻-苯醌二叠氮化合物以外的添加剂的添加量为1-50质量％，更优选5-30质量％，特别优选10-30质量％。优选在相同层中包含用于本发明的添加剂和粘合剂。
为了进一步改善灵敏度，可以另外使用环状酸酐，酚和有机酸。环状酸酐可以是邻苯二甲酸酐，四氢化邻苯二甲酸酐，六氢化邻苯二甲酸酐，3，6-桥氧-Δ4-四氢化邻苯二甲酸酐，四氯代邻苯二甲酸酐，马来酸酐，氯代马来酸酐，α-苯基马来酸酐，琥珀酸酐和1，2，4，5-苯四酸酐，其全部在美国专利4,115,128中描述。酚的实例包括双酚A，对-硝基苯酚，对-乙氧基苯酚，2，4，4′-三羟基二苯甲酮，2，3，4-三羟基二苯甲酮，4-羟基二苯甲酮，4，4′，4″-三羟基三苯基甲烷，和4，4′，3″，4″-四羟基-3，5，3′，5′-四甲基三苯甲烷。有机酸的实例包括在JP-A 60-88942和2-96755中所述的磺酸，亚磺酸，烷基硫酸，膦酸，磷酸酯，和羧酸。有机酸的具体实例包括对-甲苯磺酸，十二烷基苯磺酸，对-甲苯亚磺酸，硫酸一乙酯，苯基膦酸，苯基次膦酸，磷酸苯酯，磷酸二苯酯，苯甲酸，间苯二甲酸，己二酸，对-甲苯甲酸，3，4-二甲氧基苯甲酸，邻苯二甲酸，对苯二甲酸，4-环己烯-1，2-二羧酸，芥酸，月桂酸，正十一酸，和抗坏血酸。优选上述环状酸酐，酚类和有机酸的总比例为0.05-20质量％，更优选为0.1-15质量％，并且特别优选为0.1-10质量％。
在本发明的成像层的涂渍溶液中，为了保证在更广泛的各种显影条件下的显影稳定性，可以加入至少一种如在JP-A 62-251740和3-208514中所述的非离子表面活性剂，如在JP-A 59-121044和4-13149中所述的两性表面活性剂，如在欧洲专利950517中所述的基于硅氧烷的化合物和在JP-A 11-288093中所述的含氟单体的共聚物。
非离子型表面活性剂的具体实例包括三硬脂酸脱水山梨醇酯，单棕榈酸脱水山梨醇酯，三油酸脱水山梨醇酯，甘油一硬脂酸酯，和聚氧化乙烯壬基苯基醚。两性表面活性剂的具体实例包括烷基二(氨乙基)甘氨酸，烷基多氨乙基-甘氨酸的盐酸化物，2-烷基-N-羧基乙基-N-羟乙基咪唑鎓盐甜菜碱，和N-十四烷基-N，N-甜菜碱类表面活性剂(例如商品名“AMOGENK”，由Dai-ichi Kogyo Corporation.制备)。
作为基于硅氧烷的化合物，优选二甲基硅氧烷与聚环氧烷的嵌段共聚物，其具体实例包括聚环氧烷改性的硅氧烷，如由Chisso Corporation制备的DBE-224，DBE-621，DBE-712，DBP-732和DBP-534，和由TegoCorporation(德国)制备的TEGO GLIDE 100。
优选上述非离子型表面活性剂和两性离子表面活性剂在成像材料中的总比例为0.05-15质量％，更优选0.1-5质量％。
按照本发明的成像层可以包含在通过曝光加热之后立即获得可见图像的印出试剂，或作为图像着色剂的染料和颜料。
由于通过曝光产生的热而释放酸的化合物(光酸释放剂)和可形成盐的有机染料的组合物是印出试剂的典型实例。该组合物的具体实例包括在JP-A 50-36209和53-8128中所述的邻-萘醌二叠氮-4-磺酸卤化物与形成盐的有机染料的组合，和在JP-A 53-36223，54-74728，60-3626，61-143748，61-151644和63-58440中所述的三卤代甲基化合物与形成盐的有机染料的组合物。三卤代甲基化合物的实例包括基于噁唑的化合物和基于三嗪的化合物。两类化合物具有优异的瞬时稳定性并提供清楚的印出图像。
作为图像着色剂，还可以使用除了上述成盐有机染料以外的染料。优选将油溶性染料和碱性染料用作这种另外的染料或成盐染料。其具体的实例包括油黄#101，油黄#103，油粉红#312，油绿BG，油蓝BOS，油蓝#603，油黑BY，油黑BS，油黑T-505(所有的这些是E由Orient Chemical Industries，Ltd.制备)，维多利亚纯蓝，结晶紫(CI 42555)，甲基紫(CI 42535)，乙基紫，若丹明B(CI 145170B)，孔雀绿(CI 42000)和亚甲蓝(CI 52015)。特别优选在JP-A 62-293247中所述的染料。基于成像材料的总固体含量，这些染料可以以0.01-10质量％且优选以0.1至3质量％的量加入成像材料。依照需要，将增塑剂加入按照本发明的成像材料以为膜提供柔韧性。增塑剂的实例包括丁基邻苯二甲酰基，聚乙二醇，柠檬酸三丁酯，邻苯二甲酸二乙酯，邻苯二甲酸二丁酯，邻苯二甲酸二己酯，邻苯二甲酸二辛酯，磷酸三甲苯酯，磷酸三丁酯，磷酸三辛酯，油酸四氢糠基酯，丙烯酸和甲基丙烯酸的低聚物或聚合物。
并且，根据本发明的目的可以适当加入环氧化合物，乙烯基醚，在JP-A8-276558中描述的各自具有羟基甲基的酚化合物，各自具有烷氧基甲基的酚化合物，在JP-A 11-160860中描述的各自具有碱溶解抑制作用的交联化合物，本发明者已建议使用这些化合物。
可以将通过在适当基底上形成成像层而形成的按照本发明的成像材料用于各种用途，如平版印刷版前体，彩色校样，和显像材料(displaymaterial)。作为可以用红外激光曝光进行直接制版的热模式(heat-mode)类型的平版印刷版前体，按照本发明的成像材料特别有用。
[平版印刷版前体]
下面，将使用其中将按照本发明的成像材料用作平版印刷版前体的实例来说明具体的实施例。
(成像层)
通过将光敏层(成像层)涂渍溶液的组分溶解在溶剂中，接着通过将获得的光敏层涂渍溶液涂布在适当的基底上来生产使用按照本发明的成像材料的平版印刷版前体。另外，按照目的，可以以类似的方法提供保护层，树脂中间层，背面涂层等。
溶剂的实例包括但不限于二氯乙烷，环己酮，甲基乙基酮，甲醇，乙醇，丙醇，乙二醇单甲基醚，1-甲氧基-2-丙醇，乙酸(2-甲氧乙基)酯，乙酸(1-甲氧基-2-丙基)酯，二甲氧基乙烷，乳酸甲酯，乳酸乙酯，N，N-二甲基乙酰胺，N，N-甲基甲酰胺，四甲基脲，N-甲基吡咯烷酮，二甲基亚砜，环丁砜，γ-丁内酯和甲苯。可以单独使用溶剂或可以组合使用多种溶剂。
优选上述组分(包括添加剂的总固体含量)在溶剂中的浓度为1-50质量％。
在涂布和染色后的基底上的涂布量基于成像层的用途而变化。在平版印刷版前体的成像层的情形中，通常优选涂布量为0.5-5.0g/m2。随着涂布量变小，表观灵敏度变大，然而，成像层的膜性质恶化。
此外，可以提供单个成像层，或者可以提供多个成像层。
可以使用各种涂布方法。例如，可以列举绕线棒刮涂器涂布，旋涂，喷涂，幕涂，浸涂，气刀刮涂，刮板涂布和辊涂。
为了改善涂布性能，按照本发明的成像层可以包含表面活性剂如在JP-A 62-170950中描述的氟-型的表面活性剂。相对于成像层中的总固体含量，添加量优选为0.01-1质量％，更优选为0.05-0.5质量％。
(树脂中间层)
在按照本发明的平版印刷版前体中，依照需要可以在成像层和基底之间提供树脂中间层。
当提供树脂中间层时，在碱性显影剂中的溶解度通过曝光于红外照射而增大的成像层仍在曝光面上或接近曝光面，并具有对红外激光束的良好灵敏度。由聚合物制成、在基底和成像层之间提供的树脂中间层起隔热层的作用，以使通过曝光于红外激光束产生的热不扩散到基底并被有效用于成像，由此获得更高的灵敏度。认为在未曝光部分，由于对于碱性显影剂是不渗透的成像层作为树脂中间层的保护层，改善了显影的稳定性。因此，形成具有优异分辨率的图像，并保证定期的稳定性。在另一方面，在曝光部分，成像层的组分在碱性显影剂中的溶解不再被抑制，容易地溶解并分散在显影剂中。此外，因为由碱溶性聚合物制成的树脂中间层在显影剂中具有高溶解度，中间层在显影剂中溶解良好。因此，即使当使用具有降低活性的显影剂时，图像部分很快溶解而不剩下残余膜。这样中间层也有助于改善显影性能。由于上述原因，认为树脂中间层是有用的。
(基底)
可以用于本发明的基底的实例包括在尺寸上稳定的板状材料，如纸，用塑料(例如聚乙烯，聚丙烯和聚苯乙烯)层压的纸，金属板(如铝，锌和铜)，塑料膜(如二醋酸纤维素，三醋酸纤维素，丙酸纤维素，丁酸纤维素，丁酸醋酸纤维素，硝酸纤维素，聚对苯二甲酸乙二酯，聚乙烯，聚苯乙烯，聚丙烯，聚碳酸酯和聚乙烯醇缩乙醛)，和具有金属层压或喷镀金属的纸或塑料膜。
优选按照本发明的基底是聚酯膜或铝板，特别是当将它用于平版印刷版前体时。在这些材料中，特别优选铝板，其具有高的尺寸稳定性并且相对便宜。优选的铝板是纯铝板，含有作为主要成分的铝与痕量杂元素的合金板，或者用铝层压或喷镀的塑料膜。在铝合金中含有的杂元素实例包括硅，铁，锰，铜，镁，铬，锌，铋，镍和钛。在合金中这些杂元素的总含量不超过10质量％。特别优选本发明中的铝是纯铝。然而，由于从精制技术的观点来看难以生产完全纯的铝，铝板可以含有痕量杂元素。
如上所述，对本发明所用的铝板的组成没有具体限制，并且可以适宜地使用众所周知的或常规使用的铝板。本发明所用的铝板的厚度基本上为0.1-0.6mm，优选为0.15-0.4mm，并且特别优选为约0.2-0.3mm。
在粗糙化铝板之前，根据需要使用例如表面活性剂，有机溶剂，或碱性水溶液对铝板进行去脂处理，以除去在表面上的轧辊油。通过各种方法中的任一种进行铝板表面的表面粗加工处理。例如，通过机械粗糙化表面，电化学溶解和粗糙化表面，或通过化学和选择性地溶解表面进行表面粗糙化处理。作为机械方法，可以使用已知的方法如球磨方法，刷磨方法，气磨方法和抛光磨方法。此外，作为电化学方法，电化学表面粗糙化方法，可以在盐酸或硝酸电解液中使用交流电或直流电来粗糙化表面。此外，如在JP-A 54-63902中所述，可以采用其中结合机械表面粗糙化和电化学表面粗糙化的方法。根据需要，使如此粗糙化的铝板经受碱性蚀刻和中和处理，然后任选地经受阳极氧化处理以改善表面的保湿性和耐磨性。用于铝板阳极氧化处理的电解液选自使用形成多孔氧化膜的各种电解质。该电解质通常可以是硫酸，磷酸，草酸，铬酸或其混合物。基于电解质的种类适当地决定电解质的浓度。
不能唯一地指定阳极氧化的处理条件，因为适当的条件基于电解质的种类而变化。然而，一般而言，关于阳极氧化条件，溶液中电解质的浓度应当为1至80质量％，溶液的温度应当为5至70℃，电流密度应当为5至60A/dm2，电压应当为1至100伏，和电解时间为10秒至5分钟是适当的。当阳极氧化膜量小于1.0g/m2时，印刷寿命不足够，并且平版印刷版的非图像部分易于损坏。因此容易发生所谓的“刮擦-污点”，即在印刷期间油墨被粘附至伤痕。在进行阳极氧化处理之后，任选地使铝板表面经受赋予亲水性的处理。给铝表面赋予亲水性的方法可以选自如在美国专利2,714,066，3,181,461，3,280,374和3,902,734中所述的碱金属硅酸盐(例如，硅酸钠水溶液)方法。在此方法中，将基底浸渍在硅酸钠水溶液中或在其中电解。备选地，可以使用在JP-B 36-22063中公开的、使用氟锆酸钠处理基底的方法和在美国专利3,276,868，4,153,461或4,689,272中公开的、其中用聚乙烯基膦酸处理基底的方法。
在按照本发明的平版印刷版前体中，在基底上提供阳图型成像层(pisitive-type)；然而，根据需要可以在阳图型成像层和基底之间提供底涂层。
可以使用各种有机化合物作为底涂层的组分。底涂层可以包括有机化合物，其选自例如羧甲基纤维素；糊精；阿拉伯树胶；含有氨基的膦酸，如2-氨基乙基膦酸；有机膦酸如苯基膦酸，萘基膦酸，烷基膦酸，甘油膦酸，亚甲基双膦酸和亚乙基双膦酸，其全部可以含有取代基；有机磷酸如苯基磷酸，萘基磷酸，烷基磷酸和甘油基磷酸，其全部可以含有取代基；有机次膦酸如苯基次膦酸，萘基次膦酸，烷基次膦酸和甘油基次膦酸，其全部可以含有取代基；氨基酸如甘氨酸和β-丙氨酸；和各自含有羟基的胺的盐酸盐，如三乙醇胺的盐酸盐。可以组合使用这些化合物中的两种或多种。
通过下列方法可以提供有机底涂层。即，将在水或有机溶剂如甲醇，乙醇或甲基乙基酮或其混合物溶剂中溶解底涂层的组分而获得的溶液涂布在铝板上，并干燥来形成底涂层。备选地，可以通过其中将铝板浸渍在通过在水或有机溶剂如甲醇，乙醇和甲基乙基酮或其混合物溶剂中溶解组分而获得的溶液中，以使组分为铝板吸收，接着用水等洗涤和干燥以形成有机底涂层的方法来提供有机底涂层。在前一种方法中，可以用各种方法中的任何一种涂布包含0.005-10质量％的量的有机化合物(底涂层的组分)的溶液。
此外，在后一种方法中，溶液的浓度为0.01至20质量％，并且优选为0.05至5质量％；浸渍的温度为20至90℃，并且优选为25至50℃；和浸渍时间为0.1秒至20分钟，并且优选为2秒至1分钟。也可以用碱性物质如氨，三乙胺或氢氧化钾或酸性物质如盐酸或磷酸将溶液的pH值调节在1-12的范围内。此外，可以加入黄色染料以提高图像记录材料的色调再现性。
有机底涂层的涂布量适宜地为2至200mg/m2，并且优选为5至100mg/m2。当上述涂布量小于2mg/m2时，没有获得足够的印刷寿命。同样，当涂布量大于200mg/m2时，没有获得足够的印刷寿命。
[曝光-显影]
将上面获得的阳图型平版印刷版前体进行成影像(image-wise)的曝光过程和显影过程。
用于成影像曝光过程的光束光源具有优选在近红外区域至红外区域范围内的发射波长。特别优选光源是固体激光器或半导体激光器。
作为按照本发明的平版印刷版前体的显影剂和补充剂，可以使用常规已知的碱性水溶液。
碱的实例包括无机碱盐如硅酸钠，硅酸钾，三代磷酸钠，三代磷酸钾，三代磷酸铵，二代磷酸钠，二代磷酸钾，二代磷酸铵，碳酸钠，碳酸钾，碳酸铵，碳酸氢钠，碳酸氢钾，碳酸氢铵，硼酸钠，硼酸钾，硼酸铵，氢氧化钠，氢氧化铵，氢氧化钾和氢氧化锂。任选地，可以使用有机碱试剂如单甲胺，二甲胺，三甲胺，单乙胺，二乙胺，三乙胺，单异丙胺，二异丙胺，三异丙胺，正-丁胺，单乙醇胺，二乙醇胺，三乙醇胺，单异丙醇胺，二异丙醇胺，吖丙啶，1，2-乙二胺和吡啶。可以使用单种碱性试剂或可以组合使用多种碱性试剂。
特别优选的显影剂是硅酸盐如硅酸钠和硅酸钾的水溶液。这是因为通过改变二氧化硅SiO2(一种硅酸盐的成分)，和碱金属氧化物M2O的浓度，和改变SiO2和M2O之间的比率可以控制显影性能。可以有效使用金属硅酸盐如在JP-A 54-62004和JP-B57-7427中描述的碱金属硅酸盐。
当在显影中使用自动处理器(automatic processor)时，已知通过向加入具有比显影剂更高碱度的水溶液(补充剂)，可以显影大量的平版印刷版前体而长期不用在展开槽中调换显影剂。该补充系统在本发明中也是优选的。
可以任选地将各种表面活性剂和有机溶剂加入显影剂和补充剂，目的是促进或抑制显影性能，分散显影废物和改善印刷版上的图象部分对油墨的亲和性。
表面活性剂的优选实例包括阴离子，阳离子，非离子和两性的表面活性剂。根据需要，可以另外将还原剂如无机酸如氢醌，间二苯酚，亚硫酸，或氢亚硫酸的钠盐或钾盐；无机羧酸；消泡剂；或软水剂加入显影剂或补充剂。
使用漂洗水，含有表面活性剂等的漂洗溶液，或含有阿拉伯树胶和淀粉衍生物的减感溶液将已经使用上述显影剂和补充剂显影的印刷版进行后处理。当将按照本发明的图像记录材料用作印刷版时可以在后处理中不同地组合和使用这些处理。
近几年，在制版和印刷领域中，已经将用于印刷版的自动处理器广泛用于制版操作的合理化和标准化。通常可以将该自动处理器分为显影部分和后处理部分。自动处理器通常包含用于输送印刷版的装置，各个显影液(processing solution)槽，和喷淋装置，其中当水平输送曝光的印刷版时从喷嘴喷淋用泵抽上来的各种显影液，最近，已经已知一种方法，其中在充满显影液的显影液槽中通过液内导向辊浸渍和输送印刷版。在该自动处理过程中，当按照处理量和操作时间向各种显影液供应补充剂时可以处理印刷版。备选地，可以使用其中用基本上未使用的显影液进行显影的所谓的一次性处理系统。
在本发明中，当在通过成影像曝光，显影，水清洗和/或漂洗和/或涂胶而得到的平版印刷版上存在多余的图像部分(例如，对应于原始图像膜的膜边缘的痕迹)时，删除多余的图像部分。优选通过如JP-B 2-13293所述、其中将删除溶液涂布在多余的图像部分，允许静置预定时间，然后用水洗涤的方法来删除多余的图像部分。备选地，通过如JP-A 59-174842所述、其中用通过光纤传播地活泼光线照射多余地图像部分，接着显影的方法来删除多余部分。
在任选地用脱敏胶涂布后可以将这样获得的平版印刷版用于印刷。为了进一步改善平版印刷版的印刷寿命，进行烘烤处理。如果将平版印刷版进行烘烤，优选在烘烤前用表面调节剂如在JP-B 61-2518，55-28062，JP-A62-31856和61-159655中所述的表面调节剂进行处理。
当使用该表面调节剂时，可以使用涂渍溶液的海绵或脱脂棉将表面调节剂涂布在平版印刷版的表面，或者可以将印刷版浸渍在充满表面调节剂的大缸中以便被表面调节剂所涂布，或者可以通过自动涂布机将表面调节剂涂布在印刷版的表面。为了获得更好的结果，在用表面调节剂涂布平版印刷版之后，优选用橡皮刷或橡皮辊均匀表面调节剂的涂布量。
通常，表面调节溶液的涂布量适宜地为0.03至0.8g/m2(干质量)。如果需要，在干燥后通过烘烤处理机(例如，烘烤处理机：“BP-1300”，可以从Fuji Photo Film Co.，Ltd.商购)将涂布表面调节剂的平版印刷版加热至高温。优选烘烤过程中的加热温度为180-300℃。优选烘烤过程中的加热时间为1-20分钟。然而，适当的加热时间和加热温度基于形成图像的种类和组分而变化。
任选地可以将烘烤处理后的平版印刷版进行进行常规处理如用水洗涤和涂胶。然而，当使用包含水溶性高分子化合物的表面调节溶液时，可以省略所谓的脱敏处理如涂胶。将如此获得的平版印刷版装入胶印机中和用于制备大量的印刷物。
实施例
以下将通过使用实施例详细说明本发明。然而，本发明决不局限于实施例。
(基底的制备)
将下列方法的组合应用于0.3mm厚的JIS-A-1050铝板，由此制备基底A，B，C和D。
(a)机械表面粗糙化
在将在水中比重为1.12的研磨剂(硅质砂)的悬浮液供给铝板表面作为研磨浆液的同时，通过使用旋转的辊状尼龙刷来机械粗糙化铝板的表面。研磨剂的平均粒径为8μm，其最大粒径为50μm。尼龙刷的材料是6，10尼龙，毛长为50mm，毛的直径为0.3mm。对直径为300mm的不锈钢圆筒打孔并且将毛稠密地插入来制备尼龙刷。使用三个旋转刷子。在刷子下部的两个支持辊(直径200nm)之间的距离为300nm。向铝板挤压刷子的辊以致驱动刷子的驱动马达的负载超过在将刷子的辊压向铝板前的负载7kW。刷子的旋转方向和铝板的移动方向相同。刷子的转数为200rpm。(b)碱蚀刻处理
通过用70℃26质量％的氢氧化钠水溶液(含有6.5质量％浓度的铝离子)喷淋，将上面获得的铝板进行蚀刻处理，由此以6g/m2溶解铝板。然后通过用井水喷淋用井水洗涤该板。
(c)去污点处理
通过使用30℃的1质量％的硝酸水溶液(含0.5质量％的铝离子)喷淋，将铝板进行去污点处理，然后通过喷水用水清洗铝板。在去污点处理中所用的硝酸水溶液是下列方法的废液，其中在硝酸水溶液中使用交流电进行电化学表面粗糙化处理。
(d)电化学表面粗糙化处理
使用60Hz交流电压连续进行电化学表面粗糙化处理。电解液是含有10.5g/L硝酸和5g/L铵离子的水溶液。电解溶液的温度为50℃。交流电流是时间TP为0.8毫秒的矩形波交流电流，所述TP是电流从0增大到峰值所需的时间并且负荷比为1∶1。将炭精电极用作对电极。在这些条件下，进行电化学表面粗糙化。将铁氧体用作辅助阳极。所用的电解槽是径室类型的电解槽。
最高的电流密度为30A/dm2，并且当铝板为阳极时电流总量为220C/dm2。来自电源的电流的5％的被转移至辅助阳极。
然后通过用水喷淋洗涤铝板。
(e)碱蚀刻处理
通过喷淋含有26质量％的氢氧化钠和铝离子浓度为6.5质量％温度为32℃的水溶液，使铝板经受蚀刻处理，以溶解铝板0.5g/m2。通过该蚀刻处理，将在上步中使用交流电压的电化学表面粗糙化处理期间所形成的主要由氢氧化铝组成的污点成分清除，并且溶解形成的凹陷的边缘部分，以使边缘部分光滑。此后，喷水清洗铝板。
(f)去污点处理
通过使用30℃的含有15质量％的硝酸和4.5质量％的铝离子的水溶液喷淋，将铝板进行去污点处理，然后通过喷水用水清洗铝板。在去污点处理中所用的硝酸水溶液是在硝酸水溶液中使用交流电的电化学表面粗糙化处理的废液。
(g)电化学表面粗糙化处理
使用60Hz交流电压连续进行电化学表面粗糙化处理。电解液是含有7.5g/L硝酸和5g/L铵离子的水溶液。电解溶液的温度为35℃。交流电流是矩形波交流电流。将炭精电极用作对电极。在这些条件下，进行电化学表面粗糙化。将铁氧体用作辅助阳极。所用的电解槽是径室类型的电解槽。
最高的电流密度为25A/dm2，并且当铝板为阳极时电流总量为50C/dm2。
然后通过用水喷淋洗涤铝板。
(h)碱蚀刻处理
通过喷淋含有26质量％的氢氧化钠和铝离子浓度为6.5质量％温度为32℃的水溶液，使铝板经受蚀刻处理，以溶解铝板0.10g/m2。通过该蚀刻处理，将在上步中使用交流电压的电化学表面粗糙化处理期间所形成的主要由氢氧化铝组成的污点成分清除，并且溶解形成的凹陷的边缘部分，以使边缘部分光滑。此后，喷水清洗铝板。
(i)去污点处理
通过使用60℃的含有25质量％的硫酸和0.5质量％的铝离子的水溶液喷淋，将铝板进行去污点处理，然后通过喷水用水洗涤铝板。
(j)阳极氧化处理
将硫酸溶液用作电解液。在每种情形中，电解液包含170g/升硫酸和0.5质量％铝离子。电解液的温度为43℃。然后用水喷淋洗涤铝板。
在每种情形中电流密度约为30A/dm2。氧化膜的最终量为2.7g/m2。
(基底A)
除了将(e)步骤中的蚀刻量变为3.4g/m2之外，以字母顺序进行上述步骤(a)至(j)来制备基底。
(基底B)
除了省略步骤(g)，(h)和(i)之外，以字母顺序进行上述步骤来制备基底。
(基底C)
除了省略步骤(a)，(g)，(h)和(i)之外，以字母顺序进行上述步骤来制备基底。
(基底D)
除了省略步骤(a)，(d)，(e)和(f)之外，以字母顺序进行上述步骤，并且将步骤(g)中的总电流量变为450C/dm2来制备基底。
随后将基底A，B，C和D进行下列赋予亲水性的处理和底涂层处理。(k)碱金属硅酸盐处理
于30℃在电泳槽中在含有1质量％的3号硅酸钠水溶液中浸渍通过阳极氧化得到的铝基底10秒钟。这样，进行碱金属硅酸盐处理(硅酸盐处理)。然后，喷水清洗铝基底。粘附的硅酸盐的量为3.6mg/m2。
(底涂层处理)
用具有下列组成的底涂层溶液涂布在碱金属硅酸盐处理后的铝基底。然后，在80℃干燥铝基底15秒。在干燥后的涂布量为16mg/m2。
(底涂层的组成)
下列聚合化合物               0.3g
甲醇                         100g
水                           1.0g
重均分子量26,000
(实施例1至8和比较例1和2)
通过使用绕线棒刮涂器，用具有下列组成的第一层(下层)涂渍溶液涂布获得的基底A，接着在干燥箱中150℃干燥60秒。在干燥后的涂布量为0.85mg/m2。
通过使用绕线棒刮涂器，用具有下列组成的第二层(上层)涂渍溶液涂布获得的具有下层的基底，接着在干燥箱中145℃干燥70秒。在干燥后的涂布量为1.15mg/m2。这样，制备实施例1至8和比较例1和2的阳图型平版印刷版前体。
共聚物1(按照下列各项合成)          2.133g
花青染料A(下列结构)                0.098g
2-巯基-5-甲硫基-1，3，4-噻二唑     0.030g
顺-Δ4-四氢化邻苯二甲酸酐         0.100g
4，4’-磺酰基联苯酚                0.090g
对甲苯磺酸                         0.008g
通过将Ethyl Violet的抗衡离子转换为6-羟基萘磺酸而获得的化合物
                                   0.100g
3-甲氧基-4-重氮二苯胺六氟磷酸盐    0.030g
氟-类型的表面活性剂(由Dainippon Ink&Chemicals，Incorporated制备的MEGAFAC F-780)                     0.035g
甲基乙基酮                         26.6g
1-甲氧基(metoxy)-2-丙醇            13.6g
γ-丁内酯                          13.8g
花青染料A
Figure A20041000339201041
(共聚物1的合成)
在搅拌后，在带有冷却套管和滴液漏斗的500ml三颈烧瓶中放入31.0g(0.36摩尔)甲基丙烯酸，39.1g(0.36摩尔)氯甲酸乙酯，和200ml乙腈，在用冰水浴冷却的同时搅拌该混合物。对该混合物，通过使用滴液漏斗逐滴加入36.4g(0.36摩尔)三乙胺约1小时。在加入完成后，将冰水浴取走，在室温下搅拌混合物30分钟。
向该混合物加入51.7g(0.30摩尔)对氨基苯磺酰胺，在用油浴保持在70℃的同时将混合物搅拌1小时。在反应完成后，在搅拌水的同时将混合物加入1升水，搅拌获得的混合物30分钟。过滤混合物并分离沉淀。在将500ml水加至沉淀以制备淤浆后，过滤淤浆，干燥获得的固体，由此获得N-(对-氨基磺酰基苯基)甲基丙烯酰胺白色固体(产率46.9g)。
随后，在带有搅棒，冷却套管和滴液漏斗的20ml三颈烧瓶中放入4.61g(0.0192摩尔)N-(对-氨基磺酰基苯基)甲基丙烯酰胺，2.58g(0.0258摩尔)甲基丙烯酸乙酯，0.80g(0.015摩尔)丙烯腈和20g N，N-二甲基乙酰胺，在用水浴保持在65℃的同时搅拌该混合物。作为聚合引发剂，将0.15g 2，2’-偶氮二(2，4-二甲基戊腈)(产品名称：V-65，由Wako Pure ChemicalIndustries，Ltd.生产)加入混合物，在保持在65℃的同时将混合物在氮气流下搅拌2小时。通过使用滴液漏斗在2小时内向反应混合物另外滴加4.61g N-(对-氨基磺酰基苯基)甲基丙烯酰胺，2.58g甲基丙烯酸甲酯，0.80g丙烯腈，20g N，N-二甲基乙酰胺和0.15g“V-65”的混合物。在完成添加后，在65℃进一步搅拌获得的混合物2小时。在反应完成后，将40g甲醇加入混合物，接着冷却。在搅拌水的同时将获得的混合物加入2升水。在搅拌混合物30分钟后，通过过滤和干燥分离沉淀，由此获得15g白色固体。通过渗透色谱(聚苯乙烯标样)测量该特定聚合物1的重均分子量，并发现为54,000。
(第二层(上层)涂渍溶液)
甲基丙烯酸乙酯和2-甲基丙烯酰氧乙基琥珀酸的共聚物(摩尔比67∶33，重均分子量92,000)
                                      0.030g
特定的酚醛清漆树脂(在表18中描述)
                                      0.300g
由通式(1-1)表示的化合物(在表18中描述的铵盐化合物)
                                      0.012g
花青染料A(上述结构)                   0.015g
通过将Ethyl Violet的抗衡阴离子转换为6-羟基萘磺酸而获得的化合物
                                      0.012g
氟-类型的表面活性剂(由Dainippon Ink&Chemicals，Incorporated制备的MEGAFAC F-780)                        0.022
甲基乙基酮                            13.1g
1-甲氧基-2-丙醇                       6.79g
(平版印刷版前体的评估)
根据显影宽容度，灵敏度，和在曝光后的耐贮性评估平版印刷版前体。评估方法的细节如下。
1.显影宽容度将平版印刷版前体在25℃和50％相对湿度的条件下保存5天。此后，通过使用由Creo Corp制备的TRENDSETTER 3244以9.0W的束强和150rpm的转筒转速将平版印刷版前体成影像曝光于测试图案的照射。
通过改变含有下列组合物A和组合物B的碱性显影剂中水的质量比例来制备显影剂，以便控制显影剂的稀释率和显影剂的电导率。在由FujiPhoto Film Co.，Ltd.制造的PS处理机900H中装入显影剂。通过PS处理机900H在30℃的液温下显影平版印刷版前体22秒。测定显影剂的最高电导率和最低电导率，图像部分不被该显影剂溶解并且使用该显影剂可以进行优异的显影，而不产生由于剩余的显影不充分的光敏层导致的污染或着色。把最高电导率和最低电导率之间的差异看作显影宽容度，并用作评估中的因素。
(碱性显影剂A的组成)
SiO2·K2O(K2O/SiO2＝1/1(摩尔比))  4.0质量％
柠檬酸                                  0.5质量％
聚乙二醇月桂基醚(重均分子量1,000)       0.5质量％
水                                      95.0质量％
(碱性显影剂B的组成)
D山梨糖醇                               2.5质量％
氢氧化钠                                0.85质量％
聚乙二醇月桂基醚(重均分子量1,000)       0.5质量％
水                                      96.15质量％
2.灵敏度
通过使用由Creo Corp制备的TRENDSETTER 3244将平版印刷版前体成影像曝光于具有不同曝光能量的测试图案的照射。
其后，测定显影剂的最高电导率和最低电导率，图像部分不被该显影剂溶解，并且使用该显影剂可以进行优异的显影，而没有测定出由于剩余的显影不充分的光敏层导致的污染或着色。计算最高电导率和最低电导率的平均值，制备具有平均电导率的显影剂。测量使用该显影剂可以显影非图像部分的最小曝光量(在150rpm的转筒转速下的最小束强)并把其当作灵敏度。越小的值表示越高的灵敏度。
3.在曝光后的耐贮性
在将曝光的平版前体保存在25℃和70％相对湿度的条件下1小时后，以与上述灵敏度评估相似的方法来评估灵敏度。将从曝光后即刻起灵敏度的降低程度作为曝光后耐贮性的指数。耐贮性值表示在曝光后1小时的灵敏度，与曝光后即刻的灵敏度更接近的耐贮性值被认为是具有更好的曝光后耐贮性。
(按照实施例1至8和比较例1和2的平版印刷版前体的评估)
按照上面说明的方法，根据显影宽容度，灵敏度，和在曝光后的耐贮性中的每一个评估按照实施例1至8和比较例1和2的平版印刷版前体。使用显影剂B显影。获得的结果在表18中显示。
如表18所示，已经证实实施例1至8的平版印刷版前体在保持显影宽容度和灵敏度的同时，实现在曝光后的耐贮性的改善。
表18
酚醛清漆树脂 铵盐化合物 灵敏度(W) 在曝光后的耐贮性(W)   显影宽容度
  实施例1     P1     I-3     5.0     5.5     6
  实施例2     P1     I-13     5.0     5.5     6
  实施例3     P1     I-37     5.0     5.5     6
  实施例4     P1     II-3     5.0     5.5     6
  实施例5     P2     I-3     4.8     5.2     6
  实施例6     P2     I-13     4.8     5.2     6
  实施例7     P2     I-37     4.8     5.2     6
  实施例8     P2     II-3     4.8     5.2     6
  比较例1     C1     I-3     6.0     8.0     6
  比较例2     P1     A     6.0     6.5     2
酚醛清漆树脂P1：酚/甲酚-甲醛酚醛清漆树脂(酚∶间甲酚∶对甲酚＝30∶30∶40，重均分子量＝5500)
酚醛清漆树脂P2：酚/甲酚-甲醛酚醛清漆树脂(酚∶间甲酚∶对甲酚＝60∶30∶10，重均分子量＝4800)
酚醛清漆树脂C1甲酚-甲醛酚醛清漆树脂(间甲酚∶对甲酚＝6∶4，重均分子量＝5000)
以下显示在比较例2中使用的铵盐化合物A(铵盐A)。
铵盐A
Figure A20041000339201081
(实施例9至16，比较例3至4)
在获得的基底C上，通过使用绕线棒刮涂器涂布具有下列组成的第一层(下层)涂渍溶液，接着在干燥箱中130℃干燥60秒。在干燥箱中干燥后的涂布量为0.60g/m2。
在获得的具有下层的基底，通过使用绕线棒刮涂器涂布具有以下组成的第二层(上层)涂渍溶液，接着在干燥箱中150℃干燥60秒。在干燥箱中干燥后的涂布量为1.25mg/m2。由此，制备实施例9至16和比较例3和4的阳图型平版印刷版前体。
(第一层(下层)涂渍溶液
共聚物1                              2.133g
花青染料A(上述结构)                  0.098g
2-巯基-5-甲硫基-1，3，4-噻二唑       0.030g
顺-Δ4-四氢化邻苯二甲酸酐           0.100g
4，4’-磺酰基联苯酚                  0.090g
对甲苯磺酸                           0.008g
通过将Ethyl Violet的抗衡阴离子转换为6-羟基萘磺酸而获得的化合物                                       0.100g
3-甲氧基-4-重氮二苯胺六氟磷酸盐      0.030g
氟-类型的表面活性剂(由Dainippon Ink&Chemicals，Incorporated制备的MEGAFAC F-780)                       0.035g
甲基乙基酮                           26.6g
1-甲氧基-2-丙醇                      13.6g
二甲亚砜                             13.8g
(第二层(上层)涂渍溶液)
甲基丙烯酸乙酯和2-甲基丙烯酰氧乙基琥珀酸的共聚物(摩尔比67∶33，重均分子量92,000)
                                   0.030g
酚醛清漆树脂(在表19中描述)
                                   0.300g
由通式(1-1)表示的化合物(在表19中描述的铵盐化合物)
                                   0.016g
花青染料A(上述结构)                0.015g
氟-类型的表面活性剂(由Dainippon Ink&Chemicals，Incorporated制备的MEGAFAC F-780)                     0.022g
甲基乙基酮                         13.1g
1-甲氧基-2-丙醇                    6.79g
(按照实施例9至16和比较例3和4的评估)
以与实施例1相同的方法评估实施例9至16和比较例3和4的各种平版印刷版前体。使用显影剂B显影。获得的结果在表19中显示。
如表19所示，发现实施例的样品在保持显影宽容度和灵敏度的同时，实现在曝光后的耐贮性的改善。
表19
酚醛清漆树脂 铵盐化合物 灵敏度(W) 在曝光后的耐贮性(W)   显影宽容度
  实施例9     P3     I-2     5.5     5.75     8
  实施例10     P3     I-9     5.5     5.75     8
  实施例11     P3     II-7     5.5     5.75     8
  实施例12     P3     IV-2     5.5     5.75     7
  实施例13     P4     I-2     5.0     5.5     8
  实施例14     P4     I-9     5.0     5.5     8
  实施例15     P4     II-7     5.0     5.5     8
  实施例16     P4     IV-2     5.0     5.5     7
  比较例3     C1     I-2     6.5     10.0     8
比较例4 P3 A 6.0 6.5 3
酚醛清漆树脂P3：酚/甲酚-甲醛酚醛清漆树脂(酚∶间甲酚∶对甲酚＝40∶40∶20，重均分子量＝5200)
酚醛清漆树脂P4：酚/二甲苯酚-甲醛酚醛清漆树脂(酚∶2，5-二甲苯酚＝70∶30，重均分子量＝4600)
酚醛清漆树脂C1甲酚-甲醛酚醛清漆树脂(间甲酚∶对甲酚＝6∶4，重均分子量＝5000)
在比较例4中使用的铵盐化合物A(铵盐A)与比较例2中使用的相同。
(实施例17至24，比较例5和6)
在获得的基底D上，通过使用绕线棒刮涂器涂布具有下列组成的第一层(下层)涂渍溶液，接着在干燥箱中150℃干燥60秒。在干燥箱中干燥后的涂布量为0.81g/m2。
在获得的具有下层的基底，通过使用绕线棒刮涂器涂布具有以下组成的第二层(上层)涂渍溶液。在涂布后，在干燥箱中在150℃将基底干燥60秒。干燥后的总涂布量为0.99g/m2。这样，制备实施例17至24和比较例5和6的阳图型平版印刷版前体。
(第一层(下层)涂渍溶液)
上述的共聚物1                     2.133g
花青染料A(上述结构)               0.098g
顺-Δ4-四氢化邻苯二甲酸酐        0.110g
4，4’-磺酰基联苯酚               0.090g
对甲苯磺酸                        0.008g
通过将Ethyl Violet的抗衡阴离子转换为6-羟基萘磺酸而获得的化合物                                    0.100g
3-甲氧基-4-重氮二苯胺六氟磷酸盐   0.030g
氟-类型的表面活性剂(由Dainippon Ink&Chemicals，Incorporated制备的MEGAFAC F-780)                    0.035g
甲基乙基酮                        26.6g
1-甲氧基-2-丙醇                   13.6g
γ-丁内酯                         13.8g
(第二层(上层)涂渍溶液)
甲基丙烯酸乙酯和2-甲基丙烯酰氧乙基琥珀酸的共聚物(摩尔比67∶33，重均分子量92,000)
                                  0.030g
酚醛清漆树脂(在表20中描述)
                                  0.300g
由通式(1-1)表示的化合物(在表20中描述的铵盐化合物)
                                  0.020g
花青染料A(上述结构)               0.015g
氟-类型的表面活性剂(由Dainippon Ink&Chemicals，Incorporated制备的MEGAFAC F-780)                    0.022g
甲基乙基酮                        13.1g
1-甲氧基-2-丙醇                   6.79g
(实施例17至24和比较例5和6的评估)
按照上述方法评估上面获得的各种平版印刷版前体。在显影中使用显影剂A。获得的结果在表20中显示。
如表20所示，发现实施例17至24的平版印刷版前体在保持显影宽容度和灵敏度的同时，实现在曝光后的耐贮性的改善。
                                 表20
 酚醛清漆树脂    铵盐化合物  灵敏度(W) 在曝光后的耐贮性(W) 显影宽容度
  实施例17     P5     I-2     6.0     7.0     8
  实施例18     P5     I-9     6.0     7.0     8
  实施例19     P5     II-7     6.0     7.0     8
  实施例20     P5     IV-2     6.0     7.0     7
  实施例21     P6     I-2     6.0     7.0     8
  实施例22     P6     I-9     6.0     7.0     8
  实施例23     P6     II-7     6.0     7.0     8
  实施例24     P6     IV-2     6.0     7.0     7
  比较例5     C2     I-2     7.0     12.0     7
  比较例6     P5     B     6.5     8.0     2
酚醛清漆树脂P5：酚/甲酚-甲醛酚醛清漆树脂(酚∶间甲酚∶对甲酚＝40∶40∶20，重均分子量＝8000)
酚醛清漆树脂P6：酚/甲酚-甲醛酚醛清漆树脂(酚∶间甲酚∶对甲酚＝60∶30∶10，重均分子量＝7700)
酚醛清漆树脂C2：甲酚-甲醛酚醛清漆树脂(间甲酚∶对甲酚＝7∶3，重均分子量＝10000)
以下表示在比较例6中使用的铵盐化合物B(铵盐B)。
Figure A20041000339201131
铵盐B
(实施例25至32，比较例7和8)
在获得的基底D上，涂布下列成像层涂渍溶液并在150℃干燥1分钟以形成成像层，由此获得实施例25至32和比较例7和8的平版印刷版前体。干燥后的涂布量为1.55g/m2。
(成像层涂渍溶液)
酚醛清漆树脂(在表21中描述)           1.0g
由通式(1-1)表示的化合物(在表21中描述的铵盐化合物)
                                     0.05g
花青染料A(上述结构)                  0.05g
通过将Victoria Pure Blue BOH的抗衡阴离子转换为1-萘磺酸阴离子而获得的染料
                                     0.01g
氟-类型的表面活性剂(由Dainippon Ink&Chemicals，Incorporated制备的MEGAFAC F-177)                       0.05g
甲基乙基酮                           9.0g
1-甲氧基-2-丙醇                      9.0g
(实施例25至32和比较例7和8的评估)
以与实施例1相同的方法评估实施例25至32和比较例7和8的各种平版印刷版前体。在显影中使用显影剂A。获得的结果在表21中显示。
如表21所示，发现实施例25至32的平版印刷版前体在保持显影宽容度和灵敏度的同时，实现在曝光后的耐贮性的改善。
表21
酚醛清漆树脂 铵盐化合物  灵敏度(W)  在曝光后的耐贮性(W) 显影宽容度
  实施例25     P7     I-2     4.0     4.5     5
  实施例26     P7     I-9     4.0     4.5     6
  实施例27     P7     II-7     4.0     4.5     5
  实施例28     P7     IV-2     4.0     4.5     5
  实施例29     P8     I-2     4.0     4.5     6
  实施例30     P8     I-9     4.0     4.5     6
  实施例31     P8     II-7     4.0     4.5     6
  实施例32     P8     IV-2     4.0     4.5     6
  比较例7     C2     I-2     5.5     8.0     5
  比较例8     P7     B     4.5     5.5     1
酚醛清漆树脂P7：酚/甲酚-甲醛酚醛清漆树脂(酚∶间甲酚∶对甲酚＝20∶60∶20，重均分子量＝10200)
酚醛清漆树脂P8：酚/二甲苯酚-甲醛酚醛清漆树脂(酚∶2，5-二甲苯酚＝60∶40，重均分子量＝11000)
酚醛清漆树脂C2：甲酚-甲醛酚醛清漆树脂(间甲酚∶对甲酚＝7∶3，重均分子量＝10000)
在比较例8中使用的铵盐化合物B(铵盐B)与在比较例6中使用的相同。
(实施例33至40，比较例9和10)
在获得的基底A上，通过使用绕线棒刮涂器涂布具有下列组成的第一层(下层)涂渍溶液，接着在干燥箱中150℃干燥60秒。干燥后的涂布量为0.85g/m2。
在获得的具有下层的基底上，通过使用绕线棒刮涂器涂布具有以下组成的第二层(上层)涂渍溶液。在涂布后，在干燥箱中在140℃将基底干燥60秒。总涂布量为1.17g/m2。这样，制备按照实施例33至40和比较例9和10的阳图型平版印刷版前体。
(第一层(下层)涂渍溶液)
实施例1中的共聚物1                    2.133g
花青染料B(下面的结构)                 0.098g
2-巯基-5-甲硫基-1，3，4-噻二唑        0.030g
顺-Δ4-四氢化邻苯二甲酸酐            0.100g
4，4’-磺酰基联苯酚                   0.090g
对甲苯磺酸                            0.008g
通过将Ethyl Violet的抗衡阴离子转换为6-羟基萘磺酸而获得的化合物                                        0.100g
3-甲氧基-4-重氮二苯胺六氟磷酸盐       0.030g
氟-类型的表面活性剂(由Dainippon Ink&Chemicals，Incorporated制备的MEGAFAC F-780)                        0.035g
甲基乙基酮                            26.6g
1-甲氧基-2-丙醇                       13.6g
γ-丁内酯                             13.8g
花青染料B
(第二层(上层)涂渍溶液)
甲基丙烯酸乙酯和2-甲基丙烯酰氧乙基琥珀酸的共聚物(摩尔比67∶33，重均分子量92,000)
                                    0.030g
特定的酚醛清漆树脂(在表22中描述)
                                    0.300g
由通式(1-2)表示的鎓盐(在表22中描述的鎓盐)
                                    0.012g
上述花青染料B                       0.015g
通过将Ethyl Violet的抗衡阴离子转换为6-羟基萘磺酸而获得的化合物                                      0.012g
氟-类型的表面活性剂(由Dainippon Ink&Chemicals，Incorporated制备的MEGAFAC F-780)                      0.022g
甲基乙基酮                          13.1g
1-甲氧基-2-丙醇                     6.79g
(平版印刷版前体的评估)
根据显影宽容度，灵敏度，和在曝光后的耐贮性中的每一个评估平版印刷版前体。以下显示评估方法的细节。
1.显影宽容度
将平版印刷版前体在25℃和50％相对湿度的条件下保存5天。此后，通过使用由Creo Corp制备的TRENDSETTER 3244以9.0W的束强和150rpm的转筒转速将平版印刷版前体成影像曝光于测试图案的照射。
通过改变含有在实施例1中叙述的组合物A和组合物B的碱性显影剂中水的质量比例来制备显影剂，以便控制显影剂的稀释率和显影剂的电导率。在由Fuji Photo Film Co.，Ltd.制造的PS处理机900H中装入显影剂。通过PS处理机900H在29℃的液温下显影平版印刷版前体24秒。测定显影剂的最高电导率和最低电导率，图像部分不被该显影剂溶解并且使用该显影剂可以进行优异的显影，而没有检测出由于剩余的显影不充分的光敏层导致的污染或着色。把最高电导率和最低电导率之间的差异看作显影宽容度，并用作评估中的因素。
2.灵敏度
以与实施例1中相同的方法测量灵敏度。
3.在曝光后的耐贮性
以与实施例1中相同的方法测量曝光后的耐贮性。
(实施例33至40和比较例9和10的平版印刷版前体的评估)
按照上述方法，根据显影宽容度，灵敏度，和在曝光后的耐贮性中的每一个评估实施例33至40和比较例9和10的各种平版印刷版前体。使用显影剂B显影。获得的结果在表22中显示。
如表22所示，发现实施例33至40的平版印刷版前体在保持显影宽容度和灵敏度的同时，实现在曝光后的耐贮性的改善。
表22
  酚醛清漆树脂 鎓盐化合物   灵敏度(W) 在曝光后的耐贮性(W) 显影宽容度
  实施例33     P1     C-1     5.0     5.2     6
  实施例34     P1     C-3     5.0     5.2     6
  实施例35     P1     C-4     5.0     5.2     6
  实施例36     P1     C-10     5.0     5.0     6
  实施例37     P2     C-1     4.8     5.0     6
  实施例38     P2     C-3     4.8     5.0     6
  实施例39     P2     C-4     4.8     5.0     6
  实施例40     P2     C-10     4.8     4.8     6
  比较例9     CP1     C-1     6.0     7.0     6
  比较例10     P1     A     6.0     6.5     2
酚醛清漆树脂P1：酚/甲酚-甲醛酚醛清漆树脂(酚∶间甲酚∶对甲酚＝30∶40∶30，重均分子量＝5000)
酚醛清漆树脂P2：酚/甲酚-甲醛酚醛清漆树脂(酚∶间甲酚∶对甲酚＝60∶30∶10，重均分子量＝5200)
酚醛清漆树脂CP1甲酚-甲醛酚醛清漆树脂(间甲酚∶对甲酚＝6∶4，重均分子量＝5000)
在比较例10中使用的鎓盐A与在比较例2中使用的铵盐化合物相同。
(实施例41至48，比较例11和12)
在获得的基底C上，通过使用绕线棒刮涂器涂布具有下列组成的第一层(下层)涂渍溶液，接着在干燥箱中130℃干燥60秒。干燥后的涂布量为0.60g/m2。
在获得的具有下层的基底上，通过使用绕线棒刮涂器涂布具有以下组成的第二层(上层)涂渍溶液。在涂布后，在干燥箱中在150℃将基底干燥60秒。总涂布量为1.25g/m2。这样，制备按照实施例41至48和比较例11和12的阳图型平版印刷版前体。
(第一层(下层)涂渍溶液)
实施例1中的共聚物1                        2.133g
花青染料C(下面的结构)                     0.098g
2-巯基-5-甲硫基-1，3，4-噻二唑            0.030g
顺-Δ4-四氢化邻苯二甲酸酐                0.100g
4，4’-磺酰基联苯酚                       0.090g
对甲苯磺酸                                0.008g
通过将Ethyl Violet的抗衡阴离子转换为6-羟基萘磺酸而获得的化合物                                            0.100g
3-甲氧基-4-重氮二苯胺六氟磷酸盐           0.030g
氟-类型的表面活性剂(由Dainippon Ink&Chemicals，Incorporated制备的MEGAFAC F-780)                            0.035g
甲基乙基酮                                26.6g
1-甲氧基-2-丙醇                           13.6g
二甲亚砜                                  13.8g
花青染料C
Figure A20041000339201191
(第二层(上层)涂渍溶液)
甲基丙烯酸乙酯和2-甲基丙烯酰氧乙基琥珀酸的共聚物(摩尔比67∶33，重均分子量92,000)
                                     0.030g
酚醛清漆树脂(在表23中描述)
                                     0.300g
由通式(1-2)表示的鎓盐(在表23中描述的鎓盐)
                                     0.016g
以上显示的花青染料C                  0.015g
氟-类型的表面活性剂(由Dainippon Ink&Chemicals，Incorporated制备的MEGAFAC F-780)                       0.022g
甲基乙基酮                           13.1g
1-甲氧基-2-丙醇                      6.79g
(实施例41至48和比较例11和12的评估)
以与实施例33相同的方法评估实施例41至48和比较例11和12的各种平版印刷版前体。使用显影剂B显影。获得的结果在表23中显示。
如表23所示，发现实施例的样品在保持显影宽容度和灵敏度的同时，实现在曝光后的耐贮性的改善。
表23
  酚醛清漆树脂 鎓盐化合物 灵敏度(W) 在曝光后的耐贮性(W)   显影宽容度
  实施例41     P3     C-2     5.5     5.8     8
  实施例42     P3     C-8     5.5     5.8     8
  实施例43     P3     C-16     5.5     5.8     8
  实施例44     P3     C-20     5.5     5.6     7
  实施例45     P4     C-2     5.0     5.3     8
  实施例46     P4     C-8     5.0     5.3     8
  实施例47     P4     C-16     5.0     5.3     8
  实施例48     P4     C-20     5.0     5.0     8
  比较例11     CP1     C-1     6.5     7.5     8
  比较例12     P3     A     6.0     7.0     3
酚醛清漆树脂P3：酚/甲酚-甲醛酚醛清漆树脂(酚∶间甲酚∶对甲酚＝40∶40∶20，重均分子量＝5200)
酚醛清漆树脂P4：酚/二甲苯酚-甲醛酚醛清漆树脂(酚∶2，5-二甲苯酚＝70∶30，重均分子量＝4600)
酚醛清漆树脂CP1：甲酚-甲醛酚醛清漆树脂(间甲酚∶对甲酚＝6∶4，重均分子量＝5000)
在比较例12中使用的鎓盐A(铵盐A)与在比较例10中使用的相同。
(实施例49至56，比较例13和14)
在获得的基底D上，通过使用绕线棒刮涂器涂布具有下列组成的第一层(下层)涂渍溶液，接着在干燥箱中150℃干燥60秒。干燥后的涂布量为0.81g/m2。
在获得的具有下层的基底上，通过使用绕线棒刮涂器涂布具有以下组成的第二层(上层)涂渍溶液。在涂布后，在干燥箱中在150℃将基底干燥60秒。干燥后的总涂布量为0.99g/m2。这样，制备按照实施例49至56和比较例13和14的阳图型平版印刷版前体。
(第一层(下层)涂渍溶液)
实施例1中的共聚物1                    2.133g
花青染料D(下面的结构)                 0.098g
顺-Δ4-四氢化邻苯二甲酸酐            0.110g
4，4’-磺酰基联苯酚                   0.090g
对甲苯磺酸                            0.008g
通过将Ethyl Violet的抗衡阴离子转换为6-羟基萘磺酸而获得的化合物                                        0.100g
3-甲氧基-4-重氮二苯胺六氟磷酸盐       0.030g
氟-类型的表面活性剂(由Dainippon Ink&Chemicals，Incorporated制备的MEGAFAC F-780)                        0.035g
甲基乙基酮                            26.6g
1-甲氧基-2-丙醇                       13.6g
γ-丁内酯                             13.8g
花青染料D
Figure A20041000339201211
(第二层(上层)涂渍溶液)
甲基丙烯酸乙酯和2-甲基丙烯酰氧乙基琥珀酸的共聚物(摩尔比67∶33，重均分子量92,000)
                                      0.030g
酚醛清漆树脂(在表24中描述)
                                      0.300g
由通式(1-2)表示的鎓盐(在表24中描述的鎓盐)
                                     0.020g
以上所述花青染料D                    0.015g
氟-类型的表面活性剂(由Dainippon Ink&Chemicals，Incorporated制备的MEGAFAC F-780)                       0.022g
甲基乙基酮                           13.1g
1-甲氧基-2-丙醇                      6.79g
(实施例49至56和比较例13和14的评估)
以与实施例33相同的方法评估获得的各种平版印刷版前体。使用显影剂A显影。获得的结果在表24中显示。
如表24所示，发现实施例49至56的平版印刷版前体在保持显影宽容度和灵敏度的同时，实现在曝光后的耐贮性的改善。
表24
  酚醛清漆树脂 鎓盐化合物 灵敏度(W) 在曝光后的耐贮性(W)    显影宽容度
  实施例49     P5     C-4     6.0     6.3     8
  实施例50     P5     C-13     6.0     6.3     8
  实施例51     P5     C-21     6.0     6.2     8
  实施例52     P5     C-28     6.0     6.2     7
  实施例53     P6     C-4     6.0     6.4     8
  实施例54     P6     C-13     6.0     6.4     8
  实施例55     P6     C-21     6.0     6.1     8
  实施例56     P6     C-28     6.0     6.2     7
  比较例13     CP2     C-4     7.0     8.0     7
  比较例14     P5     B     6.5     8.0     2
酚醛清漆树脂P5：酚/甲酚-甲醛酚醛清漆树脂(酚∶间甲酚∶对甲酚＝40∶40∶20，重均分子量＝8000)
酚醛清漆树脂P6：酚/甲酚-甲醛酚醛清漆树脂(酚∶间甲酚∶对甲酚＝60∶30∶10，重均分子量＝7700)
酚醛清漆树脂CP2：甲酚-甲醛酚醛清漆树脂(间甲酚∶对甲酚＝7∶3，重均分子量＝10000)
在比较例14中使用的鎓盐B(铵盐B)与在比较例6中使用的相同。(实施例57至64，比较例15和16)
在获得的基底D上，涂布下列成像层涂渍溶液，接着在150℃干燥1分钟，以形成成像层。由此，获得实施例57至64和比较例15和16的平版印刷版前体。干燥后的涂布量为1.55g/m2。
(成像层涂渍溶液)
酚醛清漆树脂(在表25中描述)     1.0g
由通式(1-2)表示的鎓盐(在表25中描述的鎓盐)
                               0.05g
上述花青染料D                  0.05g
通过将Victoria Pure Blue BOH的抗衡离子转换为1-萘磺酸阴离子而获得的化合物
                               0.01g
氟-类型的表面活性剂(由Dainippon Ink&Chemicals，Incorporated制备的MEGAFAC F-177)                 0.05g
甲基乙基酮                     9.0g
1-甲氧基-2-丙醇                9.0g
(实施例57至64和比较例15和16的评估)
以与实施例33相同的方法评估实施例57至64和比较例15和16的各种平版印刷版前体。使用显影剂A显影。获得的结果在表25中显示。
如表25所示，发现实施例57至64的平版印刷版前体在保持显影宽容度和灵敏度的同时，实现在曝光后的耐贮性的改善。
表25
酚醛清漆树脂 鎓盐化合物 灵敏度(W) 在曝光后的耐贮性(W) 显影宽容度
  实施例57     P7     C-14     4.0     4.0     5
  实施例58     P7     C-22     4.0     4.3     6
  实施例59     P7     C-23     4.0     4.4     5
  实施例60     P7     C-29     4.0     4.3     5
  实施例61     P8     C-14     3.8     3.9     6
  实施例62     P8     C-22     3.8     4.1     6
  实施例63     P8     C-23     3.8     4.1     6
  实施例64     P8     C-29     3.8     4.0     6
  比较例15     CP2     C-1     5.5     6.5     5
  比较例16     P7     B     4.5     5.5     1
酚醛清漆树脂P7：酚/甲酚-甲醛酚醛清漆树脂(酚∶间甲酚∶对甲酚＝20∶60∶20，重均分子量＝10200)
酚醛清漆树脂P8：酚/二甲苯酚-甲醛酚醛清漆树脂(酚∶2，5-二甲苯酚＝60∶40，重均分子量＝11000)
酚醛清漆树脂CP2：甲酚-甲醛酚醛清漆树脂(间甲酚∶对甲酚＝7∶3，重均分子量＝10000)
在比较例16中使用的鎓盐B(铵盐B)与在比较例14中使用的相同。
按照本发明，可以提供可用于热模式(heat-mode)类型的阳平版印刷版前体的和在溶解度分辨率和在曝光后的耐贮性方面优异的成像材料。使用成像材料的平版印刷版前体可以改善在曝光后的耐贮性而不损伤显影宽容度和灵敏度。

Claims (14)

1.一种成像材料，其包含在基底上的成像层，该成像层至少包含(A)包含酚作为结构单元的酚醛清漆型的酚醛树脂，(B)光热转化剂，和(C)由下列通式(1-1)表示的化合物：
通式(1-1)
其中在通式(1-1)中，R1表示与N1一起形成环状结构的残基；R2和R3各自独立表示有机基团并且可以彼此结合形成环状结构；R2和R3中的至少一个可以与R1结合形成环状结构；X-表示有机酸或无机酸的共轭碱。
2.按照权利要求1的成像材料，其中通式(1-1)表示的化合物由下列通式(1-1-a)表示：
Figure A20041000339200022
通式(1-1-a)
其中在通式(1-1-a)中，R2和R3各自独立地表示有机基团并且可以彼此结合形成环状结构；X-表示有机酸或无机酸的共轭碱；R4至R7各自独立地表示氢原子或者取代基，它们可以彼此相同或彼此不同，并且可以相互结合成环；R4至R7可以各自与L1，R2或R3结合形成环状结构；当L1和C1或者C2之间的键是双键或者三键，根据双键或者三键的存在R4至R7中的一些不存在；L1表示单键或者与-C1-N1-C2-一起形成环状结构的二价连接基团；R4和R5可以表示相同的原子或者相同的取代基以致C1与R4以及还可以是R5之间的键成为双键；R6和R7可以表示相同的原子或者相同的取代基以致C2与R6以及还可以是R7之间的键成为双键。
3.按照权利要求1的成像材料，其中由通式(1-1)表示的化合物的质量是成像层中总固体含量质量的50％或更小。
4.按照权利要求1的成像材料，其中所述酚醛清漆树脂是通过缩合酚、由下列通式(I)表示的取代酚，和醛而获得的树脂：
Figure A20041000339200031
通式(I)
其中在通式(I)中，R1和R2各自独立地表示氢原子，烷基，或卤原子。
5.按照权利要求4的成像材料，其中组成所述酚醛清漆型的酚醛树脂的单体中的酚含量为21-90摩尔％。
6.按照权利要求4的成像材料，其中所述酚醛清漆型的酚醛树脂的重均分子量为500-50000。
7.按照权利要求4的成像材料，其中所述酚醛清漆型的酚醛树脂与成像层中总固体含量的比例为0.1-20质量％。
8.一种成像材料，其包含在基底上的成像层，所述成像层至少包含(A)包含酚作为结构单元的酚醛清漆型的酚醛树脂，(B)光热转化剂，和(C)由下列通式(1-2)表示的鎓盐：
通式(1-2)X-M+
其中，在通式(1-2)中，X-表示包括至少一个含有碱性离解质子的取代基的阴离子，M+表示选自锍离子，碘鎓离子，铵离子，鏻离子和氧鎓离子的抗衡阳离子。
9.按照权利要求8的成像层，其中在通式(1-2)中的M+由下列通式(M-1)表示
Figure A20041000339200041
通式(M-1)
其中在通式(M-1)中，R1表示与N1一起形成环状结构的残基；R2和R3各自独立地表示有机基团并且可以彼此结合形成环状结构；R2和R3中的至少一种可以与R1结合形成环状结构。
10.按照权利要求8的成像材料，其中由通式(1-2)表示的化合物的质量是成像层中总固体含量的质量的50％或更小。
11.按照权利要求8的成像材料，其中所述酚醛清漆树脂是通过缩合酚、由下列通式(I)表示的取代酚，和醛而获得的树脂：
通式(I)
其中在通式(I)中，R1和R2各自独立地表示氢原子，烷基，或卤原子。
12.按照权利要求11的成像材料，其中组成所述酚醛清漆型的酚醛树脂的单体中的酚含量为21-90摩尔％。
13.按照权利要求11的成像材料，其中所述酚醛清漆型的酚醛树脂的重均分子量为500-50000。
14.按照权利要求11的成像材料，其中所述酚醛清漆型的酚醛树脂与成像层中总固体含量的比例为0.1-20质量％。
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