CN101295141B - 曝光绘图装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种曝光绘图装置，在确保高运转率的同时，以简易的照明光学系统来分离成多个光束。曝光绘图装置(100)包括：光源(10)，照射紫外线；照明光学系统(30)，将来自光源的光束形成为平行光；有孔构件(20、120)，被配置于来自照明光学系统的平行光上，具有分离成第一光束和第二光束的第一窗及第二窗；第一导光装置及第二导光装置(37-1～37-8、137-1～137-8)，引导在有孔构件上被分离的平行光的第一光束及第二光束；第一及第二空间光调制装置(41)，将在第一导光装置及第二导光装置中引导的第一光束及第二光束进行空间调制；以及第一及第二投影光学系统(60)，将在这些第一及第二空间光调制装置中进行空间调制的第一光束和第二光束引导至被曝光体。

Description

曝光绘图装置

技术领域

本发明涉及一种在电路板、液晶组件用玻璃基板、PDP用玻璃组件基板等平面基础材料的表面上形成图案的曝光绘图装置。

背景技术

例如，电路板(印刷电路板)被安装在移动电话、各种移动装置(mobile)及个人计算机等中。搭载于这些被搭载机器上的基础材料的图案倾向于要求其分辨率、及连接用面(land)径、孔(via)径等相当细微的构成。对应于这些要求，在图案形成用曝光工序中，有必要增加曝光装置的光量。另外，有必要提高光的矫正度、提高平行光的精度等。

另一方面，在短期间内生产多品种、量少的产品的要求变强。在公知的曝光装置，即使是接触方式或投影曝光方式，如果要形成图案则必须有掩模，而在此掩模的准备、管理及维持方面，难以符合要求。

因此，将构成图案的数据从CAD数据直接作为曝光装置的光线的控制信号而加以利用的直接曝光方式和其装置的要求变高。然而，公知的直接曝光装置由于使用405nm激光作为照射至被曝光介质的光线，所以被曝光介质的图案形成的反应速度变慢。因此，强烈希望能够解决这些问题的曝光绘图装置的设计。

[专利文献1]日本特开2006-113413

[专利文献2]日本特开2006-337475

[专利文献3]日本特开2006-343684

然而，公知的曝光绘图装置由于使用405nm激光作为照射至被曝光介质的光线，所以被曝光介质的图案形成的反应速度变慢，这样会妨碍电路形成的生产性。另外，在作为大型基板的被曝光体的全面形成图案时，有必要搭载多个空间光调制组件，在这些组件照射强的激光光会有成本的问题。

在专利文献2或专利文献3中记载的图案绘图装置是将少量输出的七根UV灯光源经由光纤供给光线至一个或多个光学系统的曝光绘图装置。另外，如专利文献2或专利文献3的图6所示，在曝光绘图装置中，光纤的入射端被配置于椭圆镜的第二焦点位置。因此，有难以调整少量输出的七根UV灯光源的光量，无法控制成配合被曝光体的感光条件的光线的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种曝光绘图装置，搭载着少量光源和多个作为空间光调制组件的DMD(Digital Micro-mirror Device，数字微型反射镜组件)组件，在确保高运转率的同时，以简易的照明光学系统来分离成多个光束。

第一观点的曝光绘图装置包括：光源，照射紫外线；照明光学系统，将来自光源的光束形成为平行光；有孔构件，被配置于来自照明光学系统的平行光上，具有分离成第一光束和第二光束的第一窗及第二窗；第一导光装置及第二导光装置，引导在有孔构件中被分离的平行光的第一光束及第二光束；第一及第二空间光调制装置，将在第一导光装置及第二导光装置中引导的第一光束及第二光束进行空间调制；以及第一及第二投影光学系统，将在这些第一及第二空间光调制装置中进行空间调制的第一光束和第二光束引导至被曝光体。

通过此构成，曝光绘图装置将有孔构件配置于照明光学系统的平行光的光束中，形成第一光束和第二光束。有孔构件20的入射侧和出射侧的光束的关系为，与亥姆霍兹-拉格朗日(Helmholtz-Lagrange)的不变式无关，可高效率地得到倍率不变的影像作为所希望的四个光学系统。

第二观点的曝光绘图装置的第一及第二空间光调制装置具有由多个反射组件构成的矩形形状的反射面，第一窗和第二窗为与反射面成相似形状的矩形形状。

通过此构成，有孔构件的第一窗及第二窗为与第一及第二空间光调制装置反射面的矩形形状相似的形状。因此，可有效地照射光束至各空间光调制装置的表面，不会照射无用的光束至空间光调制装置的表面以外的部分。因此，难以成为由于对空间光调制装置的精度或动作产生影响而使空间光调制装置的基台的温度变化等的原因。

第三观点的曝光绘图装置的第一导光装置及第二导光装置包含一个以上两个以内的全反射光学组件。

由于使用少数的反射光学组件，可不衰减光量而将光引导至第一及第二空间光调制装置。

第四观点的曝光绘图装置的第一导光装置及第二导光装置具有可变化开口面积来调整透过的光量的光圈调整部，此光圈调整部具有散热构件。

第四观点的曝光绘图装置通过有孔构件将一个光束分离成第一及第二光束。因此在第一及第二光束产生的光量较差的情况下，在光圈调整部调整。因为在此光圈调整部热容易累积，通过散热构件抑制温度上升。

第五观点的曝光绘图装置的第一及第二空间光调制装置具有由多个的反射组件构成的矩形形状的反射面，第一窗和第二窗为扇形状。

通过此构成，因为有孔构件的第一窗及第二窗为扇形，可将由照明光学系统被照明的圆形剖面的光束高效率地分离为第一光束及第二光束。

第六观点的曝光绘图装置的第一导光装置及第二导光装置包含有孔构件侧为扇形状、第一及第二空间光调制装置侧为矩形形状的光纤束。

通过此构成，从扇形的有孔构件的第一窗及第二窗，可通过光纤高效率地引导曝光光线至矩形形状的第一及第二空间光调制装置。一般而言，光纤使曝光光线成为散射光，与全反射镜相比，光量衰减，但因为几乎没有浪费圆形的照明光学系统的光量，所以效率高。

有关本发明的曝光绘图装置可将从光源发射的紫外线的平行光的曝光光线高效率地分离成多个光束。

附图说明

图1表示本发明的曝光绘图装置100的概略立体图；

图2是表示照明光学系统30-1及30-2的概念图；

图3是表示导光光学系统37、DMD组件41及投影光学系统60的立体图；

图4是表示导光光学系统37的Y-Z剖面的图示；

图5是表示从Y方向观看的反射光学组件22-1及22-2、以及全反射镜23-1至全反射镜23-8的图示；

图6(a)至图6(c)是表示各种有孔构件的图示；

图7是表示第二导光光学系统137、DMD组件41及投影光学系统60的立体图；

图8是表示第二导光光学系统137的Y-Z剖面的图示；

图9a至图9b是表示第二导光光学系统137用的有孔构件120-A和有孔构件120-B的图示；

图10a是表示一个DMD组件41的立体图，图10b是表示微型反射镜M的动作的图示；以及

图11为绘图处理的流程图。

符号说明：

10～高压水银灯；         11～椭圆镜；

13-1～遮光片；           15-1～波长选择滤光器；

20～第一有孔构件；       120～第二有孔构件；

21～矩形窗；             22～反射光学组件；

23～全反射镜；           29～检测窗；

121～扇形窗；            30～照明光学系统；

31-1～准直透镜；         32-1～复眼透镜；

33-1～集光透镜；         35～光圈调整部；

37～第一导光光学系统；   41～DMD组件；

60～投影光学系统；       90～被曝光体台；

CB～被曝光体；           IL～曝光光线；

SS11～第一光量传感器；SS12～第二光量传感器；137～光纤束(第二导光光学系统)。

具体实施方式

<曝光绘图装置的整体构成>

图1是表示曝光绘图装置100的概略立体图。曝光绘图装置100大致分为照明光学系统30、导光光学系统37、空间光调制部41、投影光学系统60以及被曝光体台90。在本实施例中，为了对大面积的被曝光体CB进行曝光而具备两系统的照明光学系统30-1及照明光学系统30-2。曝光绘图装置100的照明光学系统30-1及照明光学系统30-2具有第一高压水银灯10-1及第二高压水银灯10-2(参考图2)。另外，在本实施例中，由于具有多个相同系统的光学系统等，所以为了区别说明而在符号之后加上「-1」、「-2」等。

图2是表示照明光学系统30-1及照明光学系统30-2的概念图。以下由于照明光学系统30-1及照明光学系统30-2两系统是相同的构造，因此仅说明一系统的照明光学系统30-1。

第一高压水银灯10-1配置于椭圆镜11-1的第一焦点位置上。椭圆镜11-1将从高压水银灯10照射的UV光有效地反射至第二焦点位置的方向。除了高压水银灯之外，也可以使用氙气灯或闪光灯。

配置于照明光学系统30-1的第一高压水银灯10-1，为了使其光输出能够稳定在规定的位置，通过曝光绘图装置100的电源控制部(未图示)，从电源投入到切断保持射出规定位置的照明光。因此，在不曝光被曝光体CB的期间，为了遮蔽曝光光线IL，在椭圆镜11-1的第二焦点位置上配置有遮光片13-1。将遮光片13-1配置于椭圆镜11-1的第二焦点位置的理由是由于从高压水银灯10被射出的曝光光线IL被集中于第二焦点位置，遮光片13-1能够以较少的移动量来遮蔽曝光光线IL。

照明光学系统30-1包含准直透镜31-1及复眼透镜32-1等，将曝光光线IL形成为均匀的光强度的光束。形成于椭圆镜11-1的第二焦点位置的来自光源像的发散光首先由准直透镜31-1成为大致平行的光束，而入射至波长选择滤光器15-1。

此波长调整滤光器15-1搭载着多个滤光器。此滤光器的选择对应于涂布在被曝光体的光阻的种类而决定。

已选择波长的曝光光线IL入射到复眼透镜32-1，在光束范围内照射强度被均匀化。复眼透镜32-1由多个正透镜组件(lens element)构成，使其中心轴线沿着光轴延伸，纵横且稠密地进行配置。因此，入射至复眼透镜32-1的光束通过多个正透镜组件而被波面分割，在其后侧焦点面(即，射出面的附近)，形成由和透镜组件的数目相同的数目的光源像构成的二次光源。即，在复眼透镜32-1的后侧焦点面上，形成有实质的面光源。另外，如本发明，将来自光源的光线在光学系统上控制的光学积分器(optical integrator)，不限于复眼透镜，也可为包含绕射光学组件、微小透镜单元的集合体构成的微复眼透镜，或包含内面反射型的杆状积分器(中空管或光管、棒状玻璃杆等)的构成。

来自复眼透镜32-1的光束入射至集光透镜33-1。经由集光透镜33-1的光束对有孔构件20-1进行重叠照明。另一系统的照明光学系统30-2也相同，将有孔构件20-2分别重叠地照明。被均匀化的曝光光线IL照明具备四个开口矩形窗21与光量检测用的检测窗29的有孔构件20-1。曝光光线IL相对于有孔构件20-1正交而从Z方向入射，分割成四道光束。通过全反射镜或全反射棱镜等反射光学组件22-1反射至水平方向。

回到图1，由有孔构件20-1、有孔构件20-2、反射光学组件22-1及反射光学组件22-2分离成八道的曝光光线IL，由全反射镜23-1至全反射镜23-8反射至Y方向。由全反射镜23-1至全反射镜23-8反射的曝光光线IL入射到导光光学系统37-1至导光光学系统37-8。

入射到导光光学系统37-1至导光光学系统37-8的曝光光线IL被形成为适当的光量及光束形状，并被照射到作为空间光调制组件的排成一列的八个DMD组件41-1至DMD组件41-8。DMD组件41-1至DMD组件41-8利用供给的图像数据将曝光光线IL进行空间调制。由DMD组件41-1至DMD组件41-8调制的光束经由投影光学系统60-1至投影光学系统60-8，作为规定的倍率之后，被照射至被曝光体CB。

此投影光学系统60为了在被曝光体CB中使八个系统的各光路的照明区域均匀，在八个系统的各光路中微妙地调整倍率。另外，也可对应于被曝光体CB的大小而调整倍率。曝光绘图装置100具备合计八个投影光学系统60，此八个投影光学系统60在X方向上配置成一列。配置成一列的DMD组件41及投影光学系统60，制造容易且保养也容易。

曝光绘图装置100在投影光学系统60的Z方向下侧，具备支持照明光学系统30、导光光学系统37以及投影光学系统60等的框体95。在框体95上配置有一对导轨，在这些导轨上搭载着被曝光体台90。通过未图示的驱动机构来驱动此被曝光体台90，例如，将球螺杆等通过步进马达等马达来进行驱动。由此，被曝光体台90沿着一对导轨，在其长度方向的Y方向，相对于投影光学系统60进行移动。在被曝光体台90上设置有作为被曝光体CB的涂布有光阻的基板，此被曝光体CB在被曝光体台90上由真空吸附而被固定。被曝光体台90被构成为，也可于X方向移动，另外，也可移动至投影光学系统60的焦点位置也可在Z方向移动。

<有孔构件20的配置位置>

在此有孔构件20被配置在照明光学系统30的平行光的位置。以下说明有孔构件20的开口矩形窗21被配置在与亥姆霍兹-拉格朗日的不变定理不一致的位置。

一般来说，在投影一定的影像的照明光学系统，通过透镜等光学组件的光束由PA·LA＝PB-·LB的关系式决定(亥姆霍兹-拉格朗日的不变式，其中PA为入射侧的影像高度，LA为入射距离，PB为成像的高度，LB为成像的距离)。

因此，一个光学影像，夹持透镜等的光学组件，在入射侧(投影像)和出射侧(成像侧)，横倍率和角倍率相互成为反比例。因此，平行光被投影的话，通过光学组件来收束成像侧的光束，或经由发散的角度和距离来限定影像。即，光束的角度和距离的关系，即，开口数NA(NumericalAperture)成为和投影侧的成像性能有关系，通过所谓的光源侧的开口数NA和成像侧的开口数NA的关系，被投影的影像被限制。

一般而言，如日本特开2006-337475号公报或日本特开2006-343684号公报的图6所示，设置将光源的光束暂时成像、引导此被成像的光束、成像在最终目的面的光学系统。

相对地，本实施例，不使光源的光束成像，将形成有把平面区分为四个矩形的开口矩形窗21的平板状的有孔构件20，插入成与平行光的光束正交。因为将一道光束分离成四道，有孔构件20的入射侧和出射侧的光束的关系为，与亥姆霍兹-拉格朗日的不变式无关，可高效率地得到倍率不变的影像作为所希望的四个光学系统。

<第一导光光学系统：从有孔构件20至DMD组件41>

图3表示第一导光光学系统37、DMD组件41及投影光学系统60的立体图。

通过有孔构件20-1及20-2的Z方向的光束以平面镜或在表面反射入射光的棱镜等的反射光学组件22-1及反射光学组件22-2被反射至X方向。即，以有孔构件20-1分离成四道的曝光光线IL以反射光学组件22-1被反射，在X方向上被分离成光路IL1、光路IL2、光路IL3以及光路IL4。同样地，以有孔构件20-2分离成四道的曝光光线IL由反射光学组件22-2被反射，在X方向上被分离成光路IL5、光路IL6、光路IL7以及光路IL8。被分离的光路IL1至光路IL8由全反射镜23-1至全反射镜23-8被反射至Y方向，而朝向DMD组件41-1至DMD组件41-8。

在全反射镜23-1至全反射镜23-8被反射的光束通过由透镜等的光学组件及光圈调整部35所构成的第一导光光学系统37-1至第一导光光学系统37-8而导入DMD组件41。如图3所示，被分离的光路IL1、光路IL4、光路IL5及光路IL8到DMD组件41的距离是相等的，被分离的光路IL2、光路IL3、光路IL6及光路IL7到DMD组件41的距离是相等的。但是光路IL1、光路IL4、光路IL5及光路IL8与光路IL2、光路IL3、光路IL6及光路IL7的光路长度不同。在DMD组件41-1至DMD组件41-8被反射的曝光光线IL经由投影光学系统60-1至投影光学系统60-8，必须以均匀的形状照射至被曝光体CB。即，如果从DMD组件41到被曝光体CB的光路长度不是固定，则形成的最终的图案的分辨率、其它质量随着照射曝光光线IL的光路而变化。因此，将从全反射镜23-1至全反射镜23-8到DMD组件41-1至DMD组件41-8的光路IL1至光路IL8，矫正成均匀的焦点距离的光线而投入DMD组件41。当然，与图3不同、在从全反射镜23到DMD组件41的全部光路长度不同的情况下，必须逐一调整。

图4表示第一导光光学系统37的一个系统的Y-Z剖面的图示。

在有孔构件20、反射光学组件22及全反射面镜23被反射的光束IL经由透镜等光学组件及由光圈调整部35所构成的第一导光光学系统37而导入DMD组件41。

如图4所示，光圈调整部35在与光轴正交的位置上设置光圈窗，设定此光圈窗的面积使四个被分离的各光束IL照射至被曝光体CB的光量均匀。此光圈部的面积的设定由马达等驱动来设定。也可为，测量透过光量、固定至使透过光量成为规定的光量的开口的光圈。

在光圈调整部35，高压水银灯10的大约1/4的光量即热量投入光圈窗。此光圈窗调整光圈窗的面积使光束IL的光量均匀化时，由于光圈窗的内径的边缘会遮蔽光束IL，在光圈调整部35会产生热。因此在光圈调整部35设置翼状的散热部35F，以冷却喷嘴吹制冷剂而限制光圈调整部35的温度上升。安装于此光圈调整部35的散热部35F能够以多个翼状的平板所构成。

通过第一导光光学系统37的光束IL以镜子39被反射至Z方向，而导入反射棱镜43。在反射棱镜43通过改变反射角，将入射光束IL导入DMD组件41，同时将通过DMD组件41的微型反射镜M来反射的光束IL反射至投影光学系统60的方向。

另外，图5表示从Y方向观看的反射光学组件22-1及22-2、以及全反射镜23-1至全反射镜23-8的图示。

如图5所示，在反射光学组件22-1及反射光学组件22-2的中央部设有孔部或无遮蔽物的穿过部22A。另外，第一光量传感器SS11及第二光量传感器SS12配置于穿过部22A下方。第一光量传感器SS11及第二光量传感器SS12测量第一高压水银灯10-1及第二高压水银灯10-2的光量。

<有孔构件>

图6表示各种有孔构件20的图示。有孔构件20-1及有孔构件20-2由金属或陶瓷等低蓄热性且热膨胀系数小的材料形成。由于曝光光线IL的一部份被照射至有孔构件20-1及有孔构件20-2，热容易累积。另外，也可以在有孔构件上设置散热构件，使有孔构件20-1及有孔构件20-2的大小不会因热膨胀而变形。

有孔构件20具有对应于DMD组件41的数量的矩形窗21。例如，DMD组件的光反射面为长14mm宽12mm的矩形大小。因此，被照射至DMD组件的光反射面的曝光光线IL必须是配合光反射面的矩形，必须配合DMD组件的数量。

本实施例的曝光绘图装置100由一系统的照明光学系统30和四个系统的DMD组件41以及投影光学系统60的组合所构成。因此，有孔构件20如图6所示，具有在以一点虚线表示的曝光光线IL的光束IL中将光束IL分离为四个系统的矩形窗21。

在图6(a)所示的有孔构件20-A以通过曝光光线IL的中心CI的X轴为基准，在45度方向、135度方向、225度方向、以及315度方向具有矩形窗21。即，以矩形窗21的一边为基准，在45度方向、135度方向、225度方向、以及315度方向配置四个矩形窗21。另外，在该有孔构件20-A的中心设置一个ψ3至ψ5mm的光量检测用的检测窗。检测窗29为圆形形状也可、矩形形状也可，因为曝光光线IL已成为均匀光束，只要在光束IL内，配置在光束IL内的那里都可以。

图6(b)表示以通过曝光光线IL的中心CI的X轴为基准，在0度方向、90度方向、180度方向、以及270度方向具有矩形窗21，在135度方向设置一个检测窗29的有孔构件20-B。

图6(c)表示在Y轴方向具有四个矩形窗21，在从Y轴分离的位置设置一个检测窗29的有孔构件20-C。

有孔构件20在以上的图6(a)至图6(c)的矩形窗21的配置以外的矩形窗21的配置也可。然而，必须考虑DMD组件41的数目以及光反射面的大小、和曝光光线IL的光束IL的关系。曝光光线IL的光束IL的直径给予影响至照明光学系统的光学组件的直径。即，使光束IL的直径尽量小的小照明光学系统就足够了，这样可降低成本。比较图6(a)的曝光光线IL的光束IL的直径ψL1、图6(b)的曝光光线IL的光束IL的直径ψL2、以及图6(c)的曝光光线IL的光束IL的直径ψL3的话，ψL2最小。因此，在DMD组件的数目为四个且光反射面为14mm×12mm时，选择图6(b)的有孔构件20-B是较佳的。然而，必须根据平面镜或在表面反射入射光的棱镜等反射光学组件22的形状、其下游的全反射镜23的配置进行综合判断后考虑有孔构件20的矩形窗21的配置。在本实施例，考虑反射光学组件22的形状，采用有孔构件20-A。

另外，本实施例将有孔构件20和DMD组件41的光束等倍化。因此，矩形窗21的大小和DMD组件41的光反射面的大小相同。在第一导光光学系统37具有扩大或缩小光学系统的情况下，矩形窗21的大小只要配合DMD组件41的光反射面的大小而扩大或缩小即可。

<第二导光光学系统：从有孔构件120至DMD组件41>

图7表示作为第二导光光学系统的复数分离型光纤137、DMD组件41及投影光学系统60的立体图。图8表示第二导光光学系统137的Y-Z剖面的图示。与在图3或图4中所示的构件相同的构件，附以相同的符号。

通过第二有孔构件120-1及第二有孔构件120-2的Z方向的光束从多个分离型光纤137的入射端面137A入射至光纤束137。在本实施例中，复数分离型光纤137将光束IL分离成四道。光纤束137将多条细光纤捆束，通过捆束的方式，可将入射端面137A进行成扇形状、也可进行成圆形。另外，可将光纤束137的出射端作成矩形。被入射的光束在光纤束137内被反射，成为具有均匀的照度分布的多个光束而出射，到达反射棱镜43。在反射棱镜43，通过变化反射角，将入射的光束IL引导至DMD组件41的同时，将在DMD组件41的微型反射镜M反射的光束反射至投影光学系统60的方向。

另外，为了增加在DMD组件41的光反射面的照度均匀性，使光纤束137-1至光纤束137-8的各出射端面形状和DMD组件41的光反射面形状一致是较佳的。为了使光纤束137-1至光纤束137-8的各出射端面形状正确地与DMD组件41的光反射面形状为相似形状，在光纤束137-1至光纤束137-8的出射端，设置有框体139-1至框体139-8。为了调整整体的光束IL的光量，将使用于照相机等的可变光圈机构设置在各光纤束137入射端的附近。

<第二有孔构件>

图9表示第二有孔构件120的图示。第二有孔构件120由金属或陶瓷等低蓄热性且热膨胀系数小的材料形成。如上所述，由于光纤束137为将多条细光纤捆束的，所以可将第二有孔构件120的开口窗的形状为各种形状。在图9a中，第二有孔构件120-A具有四个扇形状的窗121-A，配合着扇形状的光纤束的入射端侧。配合四个扇形状的窗121，其与经由复眼透镜32在集光透镜33-1中汇聚的光束的圆形照明一致。

光纤由于在其内部的多重反射，产生光量衰减，但在第二有孔构件120-A中，由于圆形的照明光束IL分离成四道，且和DMD组件41的光反射面的矩形形状相似，所以浪费的光量少。

另外，在图9b中，第二有孔构件120-B具有四个圆形状的窗121-B，配合圆形的光纤束的入射端侧。由于光纤束容易捆束为圆形，可容易制造。

<DMD组件>

图10a表示一个DMD组件41的立体图，图10b是表示微型反射镜M的动作的图示。

本实施例的曝光绘图装置100具有八个DMD组件41，其一个DMD  组件41的光反射面是由例如配置成1024×1280的阵列状的1310720个的微型反射镜M所构成。DMD组件41是沿X方向配置1024个微型反射镜M、沿Y方向配置1280个微型反射镜M，例如，在X方向具有约12mm的光反射面，在Y方向具有约14mm的光反射面。每个微型反射镜M的尺寸例如为11.5μm角。

此DMD组件41例如为通过静电作用使在晶圆42上以铝溅射制作的具有高反射率的矩形微型反射镜M动作的组件(device)。如图10b所示，单个的微型反射镜M以对角线为中心而可旋转倾斜，并可定位于稳定的两个姿势。当任意的微型反射镜M(m，n)(1≤m≤1024，1≤n≤1280)被定位于被曝光体CB方向时，入射到此的曝光光线IL被反射而朝向投影光学系统60。当微型反射镜M(m，n)定位于投影光学系统60的外侧方向时，汇聚的光反射到光吸收板(未图示)而从投影光学系统60离开。

<曝光绘图的动作>

图11为曝光绘图的流程图。

在步骤R11中，第一高压水银灯10-1及第二高压水银灯10-2的光量以第一光量传感器SS11及第二光量传感器SS12来进行确认。未图示的电源控制部控制第一高压水银灯10-1及第二高压水银灯10-2的光量大约均等。第一高压水银灯10-1及第二高压水银灯10-2的光量大约均等后，遮光片13遮蔽曝光光线IL。

在步骤R12中，输入被曝光体CB在X方向Y方向的尺寸及被涂布的光阻的感光度条件等。

在步骤R13中，根据被涂布于被曝光体CB的光阻、及高压水银灯10的光量等而计算被曝光体台90的Y方向的移动速度。

在步骤R14中，被曝光体CB被真空吸附于被曝光体台90。

在步骤R15中，遮光片13开放，开始被曝光体CB的曝光绘图。

在步骤R16中，被曝光体台90于Y方向移动。

在步骤R17中，当曝光区域SP1至曝光区域SP8到达被曝光体CB的端部时，遮光片13遮蔽曝光光线IL。在此状态下，被曝光体CB的一半成为曝光完毕区域EX。

在步骤R18中，被曝光体台90于X方向移动。

在步骤R19中，遮光片13开放，进行被曝光体CB的曝光绘图。

在步骤R20中，被曝光体台90于-Y方向移动。

在步骤R21中，当曝光区域SP1至曝光区域SP8再次到达被曝光体CB的端部时，遮光片13遮蔽曝光光线IL。在此状态下，被曝光体CB的整个面成为曝光完毕的区域EX。

在步骤R22中，被曝光体CB从真空吸附中释放，被曝光体CB从被曝光体台90取出。

Claims (6)

1. 一种曝光绘图装置，包括：

光源，其照射紫外线；

照明光学系统，其将来自上述光源的光束形成为平行光；

有孔构件，其被配置于来自上述照明光学系统的平行光上，具有分离成第一光束和第二光束的第一窗及第二窗；

第一导光装置及第二导光装置，其引导在上述有孔构件上被分离的平行光的第一光束及第二光束；

第一及第二空间光调制装置，其将在上述第一导光装置及第二导光装置中引导的第一光束及第二光束进行空间调制；以及

第一及第二投影光学系统，将在该第一及第二空间光调制装置中进行空间调制的第一光束和第二光束引导至被曝光体。

2. 根据权利要求1所述的曝光绘图装置，其中上述第一及第二空间光调制装置具有由多个反射组件构成的矩形形状的反射面，

上述第一窗和第二窗为与上述反射面相似形状的矩形形状。

3. 根据权利要求2所述的曝光绘图装置，其中上述第一导光装置及第二导光装置包含一个以上两个以内的全反射光学组件。

4. 根据权利要求2或3所述的曝光绘图装置，其中上述第一导光装置及第二导光装置具有可变化开口面积来调整透过的光量的光圈调整部，

该光圈调整部具有散热构件。

5. 根据权利要求1所述的曝光绘图装置，其中上述第一及第二空间光调制装置具有由多个反射组件构成的矩形形状的反射面，

上述第一窗和第二窗为扇形状。

6. 根据权利要求5所述的曝光绘图装置，其中上述第一导光装置及第二导光装置包含上述有孔构件侧为扇形状、上述第一及第二空间光调制装置侧为矩形形状的光纤束。

Images