CN100483771C - 制造有机发光二极管的方法和有机发光二极管 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种用于制造具有结构化发光区域和衬底(2)的改进的有机发光二极管(1)的方法，该方法包括以下步骤：应用第一导电电极层(5)，应用具有至少一个结构(17)的电阻层(7)，应用包含一种有机的场致发光材料的至少一层(11)，和应用第二导电电极层(13)，其中结构(17)的表面，特别是在它的边缘区域(27)，采用保持相对于衬底表面小于90°的角度。

Description

制造有机发光二极管的方法和有机发光二极管

技术领域

本发明通常涉及一种生产有机发光二极管的方法，和一种有机发光二极管(OLED)。具体说来，本发明涉及一种具有结构化发光区域的有机发光二极管，和生产这种类型二极管的方法。

背景技术

OLED通常由一组层构成，也就是说，一种在两电极层之间具有有机的场致发光层的层结构，该层结构被用于适当的衬底。通常，在OLED中，在所有情况下一导电层作为阴极而另一导电层作为阳极。为此，人们知道由具有不同功函数的材料制成电极层，从而在这些层之间形成功函数差。

有机发光二极管(OLED)以与其它发光装置相比的特别优点而著名。例如，OLED有非常有前途的平板显示器性质，因为与例如LCD或液晶显示器相比它们允许明显更宽的观察角，并且作为自发光的显示器也允许获得与背光式LCD相比的下降的电流消耗。此外，OLED可以被生产为柔韧性薄膜，该薄膜特别适合具体应用在照明和显示技术中。

然而，OLED不仅适合于显示器。它们通常可在很广泛的应用中被用作为发光装置，例如用在自发光标志和信息牌中。

然而，大多数这些应用要求结构化的发光区域。因此，必须在该发光区域上制造局部、固定点亮度差。为了达到此目的，原则上有以下选择：

·通过横向结构化掩模或过滤器直接地调制发射光。为此，举例来说，OLED可以在该OLED的外侧上具有光阑、穿孔掩模、不透光的或彩色涂层或薄膜，在外侧或内侧上具有衬底的吸收性或不同彩色区。

·由受该有机场致发光层影响的局部电流密度间接地调制发射光。举例来说，这可以通过电极的适当横向结构化获得。也可能电流通过OLED层组合的层系统的流动被该层组合中的绝缘体结构或有高电阻的结构的附加存在而中断。

·此外，对于场致发光层它本身来说，被横面结构化也是可能的。

光通量的局部直接调制被广泛应用于LCD或OLED显示器的生产，其中宽带光谱，优选白光，通过附加的滤色器在光程中适合于所要求颜色轨迹(color loci)。另外，液晶技术要求偏振光，该偏振光通过偏振板对入射光的适当滤波而被生产。该方法的一缺点是光必须被产生并然后在它从元件中显露出来以前又被部分地吸收。举例来说，在LCD背光显示器中，显示器内部产生的光的60％又被单独吸收在偏振板中。

另一方面，场致发光层的结构化要求专门的生产技术。举例来说，具有<1000amu的分子量的有机场致发光材料，被称为小分子，这种材料适合于蒸镀，它被通过蒸镀经由阴罩利用PVD工艺以结构化形式沉积。然而，在这种情况下一大部分非常昂贵的场致发光材料被沉积在阴罩上而不是衬底上。此外，当实施这种性质的结构化时，通常发生问题，由于屏蔽效应和因此产生的电介质场致发光层的局部缺少，可以在电极层之间发生短路，要求更加复杂的层结构并且因此要求更昂贵的制造方法以防止此短路。

相反，构造电极或电极层较简单，举例来说，利用PVD工艺通过阴罩技术由电极材料的结构化沉积构造。然而，在这种情况下也有在电极结构的锐边短路的风险。更进一步的缺点在于以下事实，在此技术中电极层的全部结构必须被相互导电连接。此问题通过在电极层的被隔离结构之间牵引导电桥仅可以被不充分地解决。这些桥对外观具有不利影响，甚至可以自身被照明，并且穿过桥的电流密度远高于穿过大区域结构的电流密度，导致跨桥的相当大的电压降，这反过来可以导致缺乏照明均匀性。

相形之下，最简单的选择是在OLED层组合中应用附加的绝缘结构。可能的制造工艺包括通过阴罩或结构化的粘膜的蒸镀。然而，蒸镀、溅射或其他的PVD工艺是复杂和昂贵的基于真空工艺。另一方面，粘膜典型地具有大约10μm的厚度，因此通常显著地厚于0LED层组合的层，OLED层组合的层厚度通常仅为大约0.1μm。因此该膜显著地破坏OLED层结构的微观结构。

WO 9803043提出一种方法，其中通过光刻法应用结构化的绝缘体层，以生产结构化的发光区域。为此，举例来说，通过打印机生产光掩模。光致抗蚀剂被用于衬底，该衬底已经被涂有氧化铟锡(indiumtin oxide)层，并且然后通过掩模被曝光和显影。因此，在本工艺中，在发光区域上被复制的图案不能被直接地传递至该衬底。相反地，被复制的图案必须按许多中间步骤被生产在衬底上。当图案通过光刻法在光致抗蚀剂中被生产时，发生更进一步的缺点。光致抗蚀剂结构的边缘同样非常锐利。这增加短路的风险。另一特别的缺点是以下的特别事实，由于衬底上的锐边结构，可能在层中形成条纹(cord)和气泡，该层随后通过旋涂或浸涂被应用，因为液膜趋向于在这些边缘处被分离，结果它的厚度缺乏均匀性。本文中，即使随后修圆(rounding)边缘，如在WO 9803043中所提出的那样，也仅提供微小的帮助，因为邻接衬底的内缘保持在原位。

JP 07-289988中也提出一类似的工艺，其中应用均匀薄膜，并然后通过曝光和显影进行结构化，所获得结果是电极层上的结构化的聚氨基甲酸酯薄膜。因此，本文件中所述的工艺具有与WO 9803043所公开的生产工艺类似的缺点。

此外，US 5,660,573和US 3,201,633说明场致发光的电容器，其中局部亮度同样地受结构化的电介质中间层的影响。然而，在这种情况下，不是通过中断流动电流，而是通过介电常数的横向变化影响局部场强度，从而影响亮度。

然而，与有机发光二极管相比场致发光的电容器具有严重的缺点。光输出非常弱。此外，场致发光电容器的操作要求高频交流电，以充分地强烈激发场致发光材料。与适合OLED操作的低直流电压相比，该供应明显更恶劣。此外，在大区域电极处的高频交流电压导致辐射强电磁场和/或作为无功功率损失的结果导致元件效率的较大下降。

发明内容

因此本发明基于提供一种改进OLED的目的，这种OLED生产简单且便宜，并且具有结构化的发光区域。

很惊人地，本目的通过一种如权利要求1所述的生产OLED的方法和通过一种如权利要求34所述的OLED获得。有利的改进形成相应的子权利要求(subclaims)的要点。

因此，本发明提供生产具有衬底的有机发光二极管的一种方法，该方法包括以下步骤：

-应用第一导电电极层，

-应用具有至少一结构的至少一电阻层(resistive layer)，

-应用包含一种有机的场致发光材料的至少一层，和

-应用第二导电电极层。

在本方法中，电阻层被以如下方式应用，结构的表面，特别是在它的边缘区域，采用相对于衬底表面保持小于90°的角度。

如本发明的一种有机发光二极管，具体说来该二极管可以利用如本发明的方法生产，因此包含：

-衬底，

-已经被应用至衬底的第一导电电极层，

-包含有机的场致发光材料的至少一层，和

-第二导电电极层

-如上所述的电阻层，该电阻层具有至少一结构，该结构的表面，特别是在它的边缘区域，采用相对于衬底表面保持小于90°的角度。

为了获得它的效果，结构化电阻层可以被应用或设置在两电极之间的层组合内的任何位置。然而，该层被用作第一导电层之后的第一层特别有利，因为这使得生产过程和层结构化特别简单和便宜。

在OLED层结构已经完成之后，电阻层的结构被设置在第一电极层和第二电极层之间，并因此导致通过在本结构的区域中包含场致发光材料的层的电流减少。包含有机的场致发光材料的层以下也简称为场致发光层。

为本技术领域的专业人员所知的许多物质可被用作场致发光层的有机的场致发光材料。为此目的，特别地，有可能使用有机金属材料，特别是有机金属的合成物，例如三重发射体(such as tripletemitters)或镧系元素合成物。举例来说，大家所熟悉的小分子，也就是说有低分子量的分子，或聚合体材料适合于用作场致发光材料，并广泛应用于OLED的生产。场致发光的小分子，例如三-(8-羟基喹啉(hydroxyquinolino))铝(Alq3)通常被通过PVD方法沉积。场致发光聚合体材料，例如(聚(2-甲氧基，5-(2′-乙己氧基(ethylhexyloxy))对次苯基(paraphenylene)亚乙烯(MEH-PPV)，通常由液相或用印刷方法沉积。涂层也可以包含一涂有例如荧光染料之类的发射体的有机或无机矩阵层，作为有机的场致发光材料。

举例来说，在US 6,107,452、EP 0 573 549、EP 800 563 A1、EP 800 563 B1和EP 1 006 169 A1中说明为本技术领域的专业人员所知的其它场致发光物质，这些专利被整体结合入本专利申请的参考文献中。虽然为本技术领域的专业人员所知，也提及本文所述的OLED层结构的装配方法，并且本说明书被认为形成本申请书的一部分。

在本发明中，OLED层结构或层组合被认为是指包含导电电极层以及至少一层设置在电极层之间的场致发光层的层结构。此外，至少一场致发光层，也可能其它层被设置在电极层之间，例如电子-注入和空穴-注入层或空穴迁移或电子迁移或阻挡层。因此设置在电极层之间的电阻层也是OLED层组合的一部分。

OLED层通常被应用至第一电极，尤其是例如有机场致发光层。然而，在本发明中，特别更优选的是至少一其它层，例如转移层或感应层，或包含有机的场致发光材料的层，被通过液体涂覆应用。因此，在二极管的优选实施方式中，至少被应用于第一导电电极层的一涂层，特别是包含一有机的场致发光材料的涂层，是由液体涂覆生产的涂层。

适当的液体涂覆(liquid coating)方法的实例是旋涂以及浸涂。通过液体涂覆被应用并随后凝固的这种类型的涂层具有许多与蒸镀相比的优点。液体涂覆使以与通过蒸镀相比低得多的成本生产大区域涂层成为可能。对有高分子量的材料而言尤其如此，由于热稳定性这种材料不能利用蒸镀方法沉积。举例来说，液体涂覆还可以被用于应用聚合物，具有它们的正稳定性和弹性性质。

如本发明，以一种方法应用电阻层，从而在结构的边缘避免陡倾侧面。因此，特别是在边缘区域，该结构的表面相对于衬底表面的角度小于90°，因此垂直于衬底表面的壁被避免。结果，举例来说，如果一其它层被应用于例如场致发光层之类的结构化电阻层，液膜被防止分离或条纹的形成被避免，通过液体涂覆方法，例如旋涂。结构的陡倾侧面在随后浸涂期间也不利，因为他们导致通过浸涂应用的涂层的非常不均匀的厚度分布。相形之下，浸涂或旋涂，因为在按照本发明应用的电阻层中不存在这种类型的陡倾侧面，可以在如本发明的方法中没有问题地被使用，以应用至少一其它层，例如功能层或特别是场致发光层，至电阻层。

结构表面相对于衬底表面的角度越尖锐，后来的层的层质量越好。因此，如果不但垂直于衬底表面的电阻层结构的表层区被避免，而是如果电阻层事实上通过如下方式被应用，特别是在它的边缘区域，采用保持相对于衬底表面的小于80°、优选小于60°、特别优选小于45°的最大角度，就更有利。在本文中，如果结构的接触角在此范围之内就特别有利的，因为如果电阻层的涂料以液态被应用，所发生的最大角度为接触角。如果在涂料凝固期间发生材料收缩，在电阻层已经凝固之后最终接触角被减小，所以在这种情况下液态涂料甚至可以具有比所完成、凝固结构相对于衬底表面更大的接触角。

如本发明的另一具体实施方式，以一种方法应用电阻层的结构，以使该结构的表面，特别在它的边缘区域，采用相对于衬底表面的保持10°之下的角度，和/或其中接触角保持小于10°。由于具有这种类型的平面端(flat-ended)结构，有可能获得沉积其上的层的特别均匀的厚度。

此外，已经证明如果以一种方式应用电阻层使该结构的边缘区域的边缘带的深宽比保持小于1，优选小于0.58，对随后所应用的涂层特别有利。

以一种方法使电阻层被有利地结构化，以致衬底表面可以被分成至少一由电阻层覆盖的区域和至少一未被覆盖的区域，以获得一结构化发光区域。

如果电阻层具有有限的电阻，在被涂层区域仍有一定量的电流，因此给定沿该场致发光层的充分电压降，此层仍可以继续发射较低强度的光。然而，对于许多应用而言，被分成发光和不发光区域的结构化发光区域就足够，类似于一位(one bit)色深的图像。

因此，这时，电阻层的电阻可以被保持如此高，以至于在由该电阻层覆盖的区域电流被中断或沿场致发光层的剩余电压降对应可察觉的光发射而言变得太低。在这种情况下，在本发明上下文中的这种类型的涂层被称为绝缘层。如果绝缘层的电阻大于在电极层之间的OLED层组合的其它层的电阻，或如果沿电阻层的电压降大于沿OLED层组合的其它层的电压降，上述绝缘层的条件通常被特别满足。

为了使在发光区域上的图案(motif)中产生不同水平的亮度成为可能，与具有一位色深不同，必须使从发光区域显露出来的局部亮度可变。举例来说，这可以通过具有在电流方向中不同电阻的区域的电阻层结构获得，因此穿过场致发光层的局部电流变化。

举例来说，获得这一目的的一种可能方法在于应用具有厚度逐步变化的区域的电阻层。生产这种类型的涂层的一简单方法是反复涂覆电阻层的涂料，所期望的厚度越大，或所期望的它在电流的流动方向中的电阻越高，区域被涂覆的次数增加。然而，这也可以在单步涂覆工艺中有利地获得，例如灰度标印刷或铜版印刷。

如本发明的另一具体实施方式，电阻层也可以被染色，举例来说通过装备有染料。举例来说，为此有可能应用多层的电阻层，其中依次应用的涂层可以具有不同的颜色和/或色度(shades)。也可能有利的是，单层或多层的电阻层具有图案或图像，举例来说通过横向地改变染料。该图案或图像可能是单色或多色的。此外，如果OLED以这样一种方法构造以致电阻层外部可见，在本文中是有利的。因此这种类型的OLED即使当被关闭时也可以显示信息或提供感官印象。彩色图案也可以因此通过这种方法连同发光层的光可见，因此，举例来说，它与发光区域一起有助于给与感官印象或帮助信息被显示。

此外，电阻层可能由一个位于另一上部的多个不同的层材料的层组成。为此，可以适当的方法顺次应用具有不同的层材料的涂层。具体说来，不同的层材料可以各具有不同的电阻率或颜色。以这种方法，通过局部地变化单层的组合则可能获得更精细的亮度或颜色分度。

此外，还有另一产生局部、精细分度的亮度差的方法，在于应用有栅格结构的电阻或绝缘层。因此，如果电阻层的结构包含栅格，通过栅格的密度，例如通过电阻层的格点的密度或大小，有可能调节电流在栅格区域中的电流平均流量，并因此调节所发射的光的数值。

此外，也可能应用具有光吸收局部变化的另一层，例如通过横向地改变层中存在的染料。举例来说，本层可以在OLED层结构已经完成之后被用于发光区域的外表面。在本文中，亮度的局部变化将被理解为平均数而非仅总亮度的变化。此外，也可能影响光谱区的亮度，例如发射光的光谱密度分布，以改变例如色感。此外，单通过吸收是不可能的。对于染料来说，包含荧光染料是也可能的，以便发射光的光谱密度分布被改变。

此外，可以这样一种方法产生电阻层以使它具有更进一步的功能。如本发明的一具体实施方式，如本发明电阻层也包含化学活性物质或吸气剂(getter)物质，特别是以获得氧和水的吸气作用，并增加OLED的使用寿命。在本文中适当的吸气剂物质包括P₂O₅、CuO或Al₂O₃。本物质可以化学结合结晶水，或在它们的点阵中占据位置，因此这些物质特别起到干燥剂的作用。

许多方法适合于结构化电阻层的应用。特别地，电阻层的应用可以包括通过电子照相涂覆的涂层应用，如一般在激光打印机或复印机中发生的那样。

液体涂料，例如特别是漆的应用，并且涂料的凝固也适合于生产如本发明的结构化电阻层。在这种情况下可能以这样一种方法选择液体涂料，以使由于界面张力，在结构的边缘不形成垂直表层区。这是特别的情况，如果选择润湿衬底表面的液体涂料以生产电阻层，因此形成尖锐的接触角。本效果还可以有利地被使用在电子照相涂层中，如果所应用的涂料被熔化并且所熔化的涂料润湿衬底的表面。

涂料的凝固可以有利地包含涂料的交联和/或干燥。交联电阻层特别对来自其它层的溶剂有抗力，该层由液相被沉积，例如通过浸涂或旋涂。

液体涂料可以有利地用计算机控制印刷头通过印刷被应用，例如喷墨印刷头，通过丝网印刷或通过掩模喷射印刷。当然，这些工艺也可以相互结合。

然而，由于生产丝网的复杂性，丝网印刷不太适合于单个结构的应用。因此，如本发明的一具体实施方式，生产OLED的方法包含不使用丝网印刷的电阻层的生产。

涂料可以包含一种光可固化的漆，特别是可用紫外线固化的漆，从而该漆可以通过暴露被凝固。然而，举例来说如果使用直接结构应用方法，也可能无需附加的曝光步骤和在衬底上显影或借助于光致抗蚀剂。

生产结构化电阻层的涂层的凝固也可以有利地通过被遮蔽在被涂覆表面上的光束被影响。举例来说，光可固化光致抗蚀剂层可以被结构化暴露影响，例如通过遮蔽激光束。通过遮蔽光束的涂层凝固，借助于适当的光束计算机控制或适当的掩模，有可能简单和直接转移图形至电阻层并因此至发光区域的侧向结构。

为通过结构照射，例如通过遮蔽光束产生结构化电阻层，当然有其他选择。适当的预涂层，例如层成形材料的溶液、二元混合物、单体或聚合体、溶胶凝胶或粉末可以通过液施、粉末涂法、接触转移或通过设置在板上被用于衬底。所使用的光束通常可以根据涂料而定，例如相干或非相干光、紫外线、可见或红外光、电子束或离子束。除交联之外，通过光束的预涂层的凝固也可以通过熔化、安装或胶合被影响。

如本方法的一具体实施方式，具有至少一结构的至少一电阻层的应用包含固体涂料，特别是以预涂层形式的固体涂料的熔化。熔化和所导致的短暂液化(brief liquefaction)使得当熔料润湿衬底时易于产生有浅边缘的电阻层结构。为此，电阻层的应用可以，举例来说，包括通过应用粉末，特别是粉末状的聚合体或漆，和通过熔化的涂料的凝固，应用涂层。而熔化可以通过光照射在熔炉中供给能量获得，特别是通过红外线或激光暴露，通过微波辐射，电子或微粒辐射或感应。也可以通过局部地改变强度影响能量的供应。举例来说，以这种方法有可能由非结构化的预涂层通过该预涂层局部地被熔化和然后又被凝固，生产结构化的电阻层。

除如本发明的方法的这些变化之外，电阻层还可以通过转移被应用。为此，转移可以包括底片中发光区域的图形。如本发明的方法的这种改进的一优点是转移可以在传统的打印机上不用较大的技术成本被产生。举例来说，用户可以自己生产所需的转移薄膜的形式的图形，该薄膜随后进一步被加工以形成有自发光的显示面的OLED。转移也可以至少在区域内被熔化，以生产相应的有以锐角下降的边缘的结构。

此外，电阻层的应用也可以包含通过汽相镀覆沉积电阻层，例如通过化学气相淀积(CVD)。通过CVD沉积具有没有干燥或固化时间的优点，尤其当具有电子照相涂层时。并且，各种材料，特别是无机材料，可以通过CVD镀被沉积。举例来说，通过CVD，有可能沉淀SiO2层作为绝缘层，该层具有优势，特别是由于它的优良的绝缘性质、它的透明度和它的硬度。本方法还可以用来沉淀多种氧化物和氮化物作为电阻层。通过例如蒸镀或溅射之类的物理汽相沉积方法也提供类似的优点。

如本发明的方法的另一变体，通过灰度级光刻，光致抗蚀剂层的结构生产有以锐角下降的侧面的电阻层。利用灰度级光刻，可以以这样一种方法有意地曝光和显影涂层，以致在传统的光刻中形成的具有上述缺点的陡倾侧面被避免。然而，举例来说，不通过利用光致抗蚀剂，如上所述，也可能产生不垂直的侧面，因此如本发明的一具体实施方式光致抗蚀剂不被用作涂料。

许多材料适合于电阻层，并且部分地根据所用的涂层方法被选择。举例来说，除无机材料之外电阻层也可以包含热塑塑料或热固塑料。这些材料可以容易地由液相作为单成分或多成分的漆层被应用。特别地，热固塑料尤其适合，因为，由于它们的交联结构，它们在OLED层组合的随后被应用层中可以抗溶剂。该塑料也可以被掺入导电材料以提供有限定电阻的电阻层。为此，该层可以，举例来说，与碳或导电纳米颗粒混合。

为在被应用的更进一步的层中避免条纹或不均匀的厚度的形成，除具有无垂直壁区域的边缘结构之外，电阻层也应该保持尽可能薄。具体说来，在0.1微米至100微米范围内的层厚是适合的，优选在0.1微米至10微米之间的范围内的层厚。然而，最终层厚的选择特别要根据欲获得的局部电阻和电阻层所用的材料而定。

对许多应用而言，如果电阻层的至少一结构的应用单独地被计算机控制，就是特别有利的。这是以下情况，举例来说，如果利用例如为此被修改的喷墨印刷头之类的计算机控制的印刷头将电阻层应用于衬底，或如果例如LED线之类的激光束或光线或光阵列，暴露光可矫正漆或使之凝固，并且因此以通过计算机控制调整的方法固定适合的预涂层。

以在激光打印机中的着色纸类似的方法执行的电子照相制版法也适合于个别的图案化或结构化电阻层。因此计算机控制涂层或结构化使以简单方法生产有个别地结构化的发光区域的OLED成为可能。举例来说，如果在各情况下OLED必须与特殊的订户规格相配，这能被使用。举例来说，以这种方法有可能生产一组与顾客的希望相配并且许多乃至所有具有不同的图形的渴望(sigh)。

应用第一导电电极层、应用具有至少一结构的电阻层、应用场致发光层和应用第二导电电极层的工序的顺序，决定如本发明的OLED的层结构。因此，该顺序还可以被改变，步骤的顺序得当以使场致发光层被设置在第一导电电极层和第二导电电极层之间，因此电流可以流过此层，结果电压被施加在电极层之间。

然而，在本方法的优选实施方式中，首先第一导电电极层被用于衬底，然后电阻层被用于表面镀第一导电电极层的衬底。在此具体实施方式中，因此，层顺序是衬底/第一导电电极层/电阻层/包括至少一场致发光层的层组合/第二导电电极层。

对由场致发光层所产生的光来说，一导电电极层有利地是透明或半透明的。因此，如本发明的方法的一具体实施方式包含透明或半透明的电极层的应用。在这种情况下，或者第一电极层或第二电极层或两电极层可能是至少半透明的。

在本文中，对可见光透明的导电氧化物(TCOs)，例如如氧化铟锡或氧化锡，是适合的层材料。然而，非天性透明的材料，例如特别是金属，举例来说金或银，也可能对所发射光而言是透明或半透明的，如果使用足够小的层厚，例如以穿孔掩模的方式。

当使用透明导电材料，比如氧化铟锡或薄金属层时，通常发生这些层具有比较高的电阻的问题。经过相对长的距离，这可以导致沿透明层的电压降并因此导致不合需要的横向亮度波动。此外，在此层中功率沿层电阻下降，降低效率并且导致附加热被放出。如果沿至少一被电阻层覆盖的区域形成与一导电层、特别是一透明导电电极层接触的高导电、特别是金属结构，此影响可以被有效地降低。该导电结构决定着流动电流的良好分配，并且因此减少沿电阻层的电压降。该结构的一部分可以，举例来说，处于导电结构化层的形式。

如此具体实施方式的一变体，导电结构被设置在导电层与包括有机的场致发光材料的层面对的那侧上。在这种情况下高导电结构可以被电阻层覆盖。

如另一变体，高导电结构被设置在电极层远离包含有机的场致发光材料的层的一侧上。同样在这种情况下，与场致发光材料面对的电极层的那侧上的高导电层的区域也可以被电阻层覆盖。

对于OLED标准的层结构，选择透明衬底，被应用于该衬底的电极层也为透明。于是，由随后被应用的场致发光层所发射的光穿过衬底。但是，也可能是一种结构，其中最后所应用的电极层对发射光透明并且因此光在OLED层结构远离衬底的一侧上释放。具有这种结构，衬底就不必是透明的。

如本发明的OLED有多种可能的应用。例如，这种类型的OLED可以被用作发光或照明装置。由于它为沿大区域发光的薄元件的性质，以特别适合用作发光信息或广告牌或可变信号，例如象素(pixilated)显示。它们也可以被用于发信号或环境照明，例如在汽车、航海和航空部件和厨房部件的白色家电中。

低分辨率显示器被广泛使用，例如在便携计算器中，而高分辨率显示器也可以容易地被以实质上任何所需尺寸被体现为OLED。

因此，另一应用领域也是数字招贴板和显示牌，其中需要相应的大面积象素。

附图说明

下面参照附图更详细地解释本发明，其中标号指示相同或相似部件，其中：

图1表示通过本发明的第一实施方式的横截面图，

图2表示结构化电阻层的平面图，

图3A和3B表示具有锐结构边和以锐角下降的结构边的结构化电阻层的对比横截面图，

图4表示本发明的一具体实施方式，它具有同步改变的电阻层厚度，

图5表示具有多层电阻层的本发明的具体实施方式，

图6表示具有结构化发光区域附加层的具体实施方式，

图7A至7D表示如本发明的OLED的具体实施方式，它具有附加高导电结构用以辅助一电极层的导电性，和

图8至10表示用以制造如本发明被结构化的电阻层的设备的具体实施方式。

具体实施方式

图1表示通过本发明的第一实施方式的横截面图，该实施方式整体以标号1指示。OLED1包含衬底，整体被指示为3的OLED层结构被应用于该衬底。层结构包含被应用于衬底表面的第一导电电极层5，被应用于电极层5的结构化电阻层7，场致发光层11和功能层91、92，以及最后被应用的第二导电电极层13。

改进光输出的适当功能层的例子是电位匹配层、空穴注入层、电子阻挡层、空穴阻挡层、电子导体层和电子注入层。

为了保护OLED层结构3不受有害作用影响，该层结构还被封装15包围。这保护敏感OLED层不受特别是大气成分，例如水蒸气和氧的影响，这些成分与层反应并导致OLED1的使用寿命的降低。

衬底和第一导电电极层5最好为对由场致发光层11所发射的光透明或至少部分透明。为此，举例说来，第一导电层可以为氧化铟锡层或薄透明金属层。在这种方式中，光可以穿过衬底并在衬底的相对侧上释放。

但是，一种反向OLED层结构也是可能的。在这种情况下，第二导电电极层13为透明的，并且光通过封装15到达外部，因此封装15同样应该选择透明材料以制造OLED1。在这种情况下，衬底2不需要透明。但是，当然，也可能制造一种两侧发光的OLED，其中光可以同时通过封装15和通过衬底传到外部，电极层5和13均至少部分透明。

以最简单的形式，电阻层7被设计为一种绝缘层，它中断阳极和阴极之间例如导电电极层5、13之间的电流流动。

在图1所示的具体实施方式中，电阻层7被以如下方式结构化，以使它将衬底2的表面分为至少一被电阻层7覆盖的区域23和至少一未被覆盖的区域25。图2的平面图表示这种类型的结构化电阻层的实施例。这种结构化电阻层包含实线负箭头状的结构17，因此实线箭头的区域25未被电阻层7覆盖。该区域25因此形成如本发明的OLED的发光区域的发光区。

结构17的边缘区域27被指示在图1中。该边缘区域通过已经以厚度d被应用的电阻层向结构17的边缘变薄的区域被限定。

电阻层7的结构的表面，特别是在它的边缘区域27，采用保持相对于衬底表面小于90°的角度。图1所示的实施方式的边缘区域具有带有接触角19的圆形结构。接触角，即出现在该以下边缘区域中的结构表面与衬底2的表面之间的最大角，在本实施方式中甚至仅为约60度。

此外，电阻层的边缘区域27以一种方式向边缘29变平，使边缘区域27的深宽比保持小于1。在本发明的上下文中，术语深宽比被理解为电阻层7的层厚d与边缘区域27的宽度的含义。因此这也相当于边缘区域27的表面的倾角20的平均角的切线。在图1所示的实施方式中，深宽比甚至略小于0.58，相当于30度的倾角的平均角。

图3A和3B表示基于横截面的具有锐结构边和如本发明的以锐角下降的结构边的结构化电阻层7之间的对比。图3A表示涂有结构化电阻层7的衬底2，其中该结构的边缘或侧面为刃形并且实际上垂直。这种类型的结构通常在光刻结构化的过程中被形成。随后所应用的层，例如在这种情况下示例的场致发光层11，在该结构的边缘区域具有显著降低的层厚。这导致OLED的整体层结构的相当大的变形。此外，在由液相涂覆的情况下的锐边的流阻可以导致条纹的形成并导致层厚的横向不均匀形。相反，如图3B所示，具有如本发明的结构化电阻层，层11的厚度即便在边缘区域也仅与其它区域中的层厚略有偏差。如本发明的以锐角下降的电阻层的边缘，也保证在特别包括电阻层的结构的边缘29的区域中或随后层中的改进的可湿性。因此，特别是在旋涂或浸涂过程中的条纹或气泡的形成被抑制。

边缘区域27朝边缘29的角度越尖锐，或者电阻层相对于衬底表面的角度越尖锐，本发明的益处就越大。因此，如本发明的一具体实施方式，提供小于10°的该结构的倾角或接触角的最大角。

图4通过本发明另一实施方式的横截面图，其中电阻层7的结构27具有不同层厚的区域31、33和35。举例说来，图4所示的实施方式具有三不同层厚的区域。在这种情况下，流经电极层5和13之间的OLED层结构的局部电流和因此的局部区域的亮度根据沿电流流动方向的电阻层的电阻而定，并且此电阻随层厚上升而增加。因此，发光区域将在区域35发射最少光而在区域25发射最大光。

与未涂覆区域25一起，图4所例示的具有不同层厚的三区域31、33、35可以被用于在发光区域上制造四不同亮度级。这相当于2位的色深。

如果需要更高的色深，因而可能选择具有更精细分级的层厚的其它区域。但是，为了可能产生4位的色深，应该必须可能以16阶段分级层厚。

但是，利用少量不同层也可以产生大的色深。图5表示这种实施例。图5表示具有多层电阻层7的一实施方式，其中各层71、72、73和74包含不同的层材料。选择这些层材料和各层71-74的层厚，以使各层在电流流动方向具有不同的电阻，在这种情况下电流流动方向实际上垂直于衬底2的表面。在这种情况下，按照长度相当于不同层的数目的位字的位的有效性，有利地选择各层71-74的电阻。在四不同层71-74的情况下，位字的长度等于4并且各层的电阻被连续地加倍。因此，层74的电阻可以被选择为层73的电阻的两倍高，依次层73的电阻为层72的电阻的两倍高，等等。以这种方式，即使使用四层电阻层，有可能获得4位的发光区域色深，即16不同亮度级。

因此，举例说来，如上所述，如果层74的电阻最高而层71的电阻最低，在各情况下电阻被从层至层减半，在位于图5的左侧的区域中，其中层71、72和73位于另一层的上部，获得发生在区域25中的最大亮度为9/16的亮度。因此，在位于图5的右侧的区域中，其中层71、73和74位于另一层的上部，获得最大亮度为3/16的亮度。

另外，图6表示发光区域的发光横向结构的很简单的方法。图6所示的本发明的实施方式含有另一层41，该层具有通过横向可变染料所产生的局部可变光吸收，以局部改变发光区域的亮度。在图6所示的实施方式中，染料层被应用于OLED1的光释放侧的外部。

在图6中通过不同阴影区域411至414标示染料层41的横向可变着色。在这种情况下，举例说来，区域411至414可以具有不同密度的着色。但是，与电阻层7的电阻横向变化不同，不同着色不能仅被用于局部限定发光区域的亮度。并且，举例说来，由于着色或被引入染料层的荧光染料，染料也可以影响由场致发光层所发射的光的色谱。

当然，染料层可以不仅与带有多层电阻层的OLED组合，如图5和图6所示，而且可以与本发明的所有其它实施方式组合。

作为替代物或除图6所示的染料层41之外，也可能以一种方法应用电阻层7以使它具有单色或多色图案或图像。举例说来，这可以通过具有横向可变染料的电阻层的应用获得。

有可能以多层形式应用电阻层，其中连续被应用层可以具有不同的颜色或色度。在这种情况下，图5和6所示的实施方式的层71、73和74具有不同的颜色或色度，以使这些层的附加横向结构导致图案的形成。电阻层最好也外部可见，以便通过这种方式有助于感观印象或所提供信息量。

图7A至7D表示如本发明的OLED1的另两实施方式。OLED这两实施方式的共同特征是与透明导电电极层5接触的高导电、最好是金属结构80被沿由电阻层覆盖的区域23形成。该附加高导电结构降低沿透明电极层5的电压降，电极层5通常仅适度导电。

结构80可以是连续层的形式，当以平面图看发光区域时该连续层被构造为与区域23的形状匹配。但是，也可能是其它形状，例如沿区域23运行的平行杆。

在图7A所示的OLED实施方式中，导电结构80已经被应用于第一导电层5。在这种情况下，导电结构80被随后所应用的电阻层7的结构覆盖。由于这种布置，导电结构80被设置在导电电极层5与场致发光层11面对的那一侧上。在这种情况下，高导电结构也可以一种方法被有利地应用，以使该导电结构的表面，特别是在它的边缘区域，采用保持相对于衬底表面小于90°的角度，具有与以电阻层结构所获得的优点相似的优点。在本文中，特别上在边缘区域或边缘的最大倾角可以被保持小于80°，优选小于60°，特别优选小于45°。

相反，在图7B所示的实施方式中，首先高导电结构80已经被应用于衬底。然后，后面是OLED的另一层的第一电极层被应用于已经通过这种方法制备的衬底2。因此，在这种实施方式中，高导电结构被设置在电极层5远离包含有机的场致发光材料的层的一侧上。

当然，作为替代或附加物，高导电结构也可以存在以增强第二电极层13的导电性，因而在这种情况下高导电结构再次以这种方式被设置以使它沿被电阻层覆盖区域23延伸并且与导电电极层13接触。

图7C和7D表示这种类型的实施例。在图7C所示的OLED情况下，如图7A所示的本发明的实施方式，高导电结构80位于第二电极层13面对场致发光层11的那侧上。图7D所示的实施方式具有被应用于第二电极层13的高导电结构80。在这两种实施方式中，高导电结构80同样沿被电阻层7覆盖的衬底的区域23延伸。

图7C和7D所示的OLED的布置被设计为光在与衬底的相对侧上释放也可以特别有利，在这种情况下第二电极层13对由场致发光层11所发射的光至少部分透明。具有这种布置，封装被设计为至少在OLED的光释放侧上透明也可能有利。

图8表示一种制造结构化电阻层的设备的实施方式。为此，首先，预涂层以一层光可固化漆49的形式被应用于衬底2。然后，为了固化该漆层，激光束被遮蔽在衬底2的涂层表面上。为了制造适当的结构，例如实线箭头所表示的实施例，激光束被作为表面上的入射点的函数调整，以结构化预涂层被暴露的方式。这通过激光束被以横向瞄准(targeted)方式沿表面遮蔽或被均匀遮蔽和同时相应地亮度调整而获得。为此，激光器45的亮度通过被连接至激光器的计算机装置51控制，同时激光束通过旋转旋转镜47并沿前进52的方向推进衬底被遮蔽在衬底表面上。旋转镜和前进也被计算机装置控制是有利的。在这种情况下，在激光束冲击表面并暴露漆49的位置处，漆被固化。如本发明的另一实施方式，一层固体涂料，例如一层粉状聚合物或漆，被通过如图8所示的设备应用并随后通过熔化被固化。在这种情况下，通过入射激光束提供所需的熔化能，因此可以通过被遮蔽和亮度调整的激光束制造结构化电阻层。此外，通过熔化所获得的固化，特别是当衬底被熔化涂料润湿时，导致结构的边缘以锐角结束和电阻层与衬底之间的小于90°接触层被形成。

图9表示用于将根据本发明制造的结构化的电阻层应用至衬底的设备的另一实施方式。该设备同样包含计算机装置51。计算机装置51控制具有印刷头55的印刷设备53。举例说来，所使用的印刷头可以是一种填充有作为涂料的适当漆的喷墨印刷头。以这种方式，OLED的发光区域的所需图案可以结构化电阻层7的形式通过计算机装置51以及被连接至它的印刷设备被直接转移至衬底2。

图10表示应用结构化电阻层7至衬底2的设备另一优选实施方式。图10所示的实施方式被具体用于电阻层或绝缘层至衬底的电子照相转移。原则上，这种类型的设备的作用方式相当于激光打印机或复印机的作用方式。

具有通常为铝鼓的载体、导电涂层、电荷发生层、电荷迁移层和耐磨层的光电导体鼓62旋转，它的表面首先被移动通过清洗和清除光元件64，然后通过充电电晕管(corotron)63，结果后者释放电荷至光电导体鼓62并均匀充电光电导体鼓62的表面，例如负电荷。

然后，由于它的旋转，光电导体鼓62的被充电表面被移动通过成象系统57，例如LED阵列或激光系统。该成象系统又被计算机装置51驱动，因此光电导体鼓62被如所转移至衬底2的表面的图案曝光。在这种情况下，在电荷发生基层中被暴露位置处光被吸收，并且产生正电荷，由于电荷迁移层这补偿光电导体鼓的表面处的电荷，因此在光电导体鼓上形成图案的电荷潜像(latent charge image)。

接着，以调色剂盒59的调色剂的形式的绝缘或电阻材料，通过显象装置60的磁刷61，被转移至光电导体鼓62。并且，为此在光电导体鼓62和显象装置60之间应用偏压。由于电位差，调色剂仅附着于光电导体鼓62的那些已经由暴露导致已经被放电的区域。如果衬底由较硬的材料，例如玻璃构成，有利的是调色剂不被直接转移至衬底2，而是首先被从光电导体鼓62转移至转移鼓65并然后转移至衬底2。转移鼓具有例如由橡胶、硅酮或EPDM制成的软表面，该表面可以被良好地配合至衬底2的表面，因此在衬底和转移鼓65上的调色剂之间获得良好接触。

利用转移电晕管66衬底也被均匀充电，因此调色剂被从转移鼓65获得。作为通过转移电晕管66充电的替代方法，通过于电源的直接电接触也可能容易地获得均匀充电，因为由于使用导电电极层5的前面涂层衬底2的表面具有良好的导电性并且电荷被均匀地分布。在随后的固定操作中，已经涂有调色剂的表面被加热至低于250℃的适当温度，通常在120和180℃之间，并且调色剂被固化。

电子照相涂层的另一方法变体为衬底2和调色剂形式的电阻或绝缘材料提供预先被加热至例如小于200℃的温度，最好在100℃和150℃之间，然后通过与转移鼓65的接触被转移。在这种情况下，在转移之后调色剂不需要被固定。在这种情况下，上述转移电晕管66也可以被省去。

与其它因素一起，这种应用具有至少一结构的电阻层的操作是有利的，因为涂层可以较快地执行，不需要干燥相。

具有这种类型的电子照相涂层，有可能获得小于100微米、最好小于50微米的结构中的横向分辨率。有可能同时执行具有不同层厚例如具有1微米和8微米之间的层厚的灰度标印刷，和照相铜板印刷以获得发光图像的分度亮度。此外，如果使用彩色调色剂，有可能制造彩色电阻层。利用调色剂颗粒的熔化的固定操作也特别导致边缘区域的修圆，结果该结构没有任何陡顷侧面。

通过重复几次印刷操作，也容易以一种方式应用电阻层结构，以使它具有层厚同步改变的区域。通过重复几次具有不同彩色调色剂的印刷操作，也可能产生多色印刷以改进可见电阻层的功能性或感观外观。

除了上述非击打印刷方法之外，也可以利用需要掩膜等的方法应用电阻层。这些例子包括丝网印刷或胶版印刷方法。但是，在这种情况下，由于需要制造掩膜，小批量(in small runs)单独构造电阻层通常更耗时和昂贵。

标号列表

1　　　　　　　　OLED

2                衬底

3                OLED层组合

5                第一导电层

7                电阻层

91、92、...、9N  功能层

11　　　　　　　 场致发光层

13               第二导电层

15               封装

17               7的结构

19               接触角

20               倾角的平均角

23               被覆盖区域

25               未被覆盖区域

29               17的边缘

31、33、35       具有不同层厚的17的区域

71-74            具有不同层材料的7的层

41               染料层

411-414          41的不同着色区域

45               激光器

47               旋转镜

49               光可固化漆层

51               计算机装置

52               前进方向

53　　　　　　　印刷设备

55              印刷头

57              成象系统

59              调色剂盒

60              显象装置

61              磁刷

62              光电导体鼓

63              充电电晕管

64              清洗和清除光元件

65              转移鼓

66              转移电晕管

80              高导电结构

Claims (58)

1.一种生产具有衬底(2)的有机发光二极管(1)的方法，该方法包括以下步骤：

-敷设第一导电电极层(5)，

-敷设具有至少一个结构(17)的至少一个电阻层(7)，

-敷设包含一种有机的场致发光材料的至少一层(11)，和

-敷设第二导电电极层(13)，

其中所述结构(17)的表面采用相对于衬底表面保持小于90°的角度。

2.如权利要求1的方法，其中所述电阻层(7)被以如下方式敷设，使所述结构(17)的表面，采用相对于所述衬底(2)的表面保持小于80°的最大倾角(19)。

3.如前述权利要求之一的方法，其中所述电阻层(7)被以如下方式敷设，使所述结构(17)相对于所述衬底(2)的表面的接触角(19)保持小于80°的角度。

4.如权利要求1的方法，其中所述电阻层(7)被以如下方式敷设，使所述结构(17)的表面采用相对于所述衬底的表面保持小于10°的角度，或者其中接触角保持小于10°。

5.如权利要求1的方法，其中所述第一导电电极层(5)的敷设或所述第二导电电极层(13)的敷设包括透明或部分透明导电电极层的敷设。

6.如权利要求1的方法，其中所述第一导电电极层(5)被敷设于所述衬底(2)，并且所述至少一个电阻层(7)被敷设于所述第一导电电极层(5)。

7.如权利要求1的方法，其中所述电阻层(7)被以如下方式敷设，以使该结构的边缘区域的深宽比保持小于1。

8.如权利要求1的方法，其中所述电阻层(7)的敷设包括通过电子照相涂覆实现的层的敷设。

9.如权利要求1的方法，其中所述电阻层(7)的敷设包括通过敷设液体涂料、并且固化该涂料来实现的层的敷设。

10.如权利要求9的方法，其中为所述电阻层(7)选用润湿所述衬底(2)的表面的材料的液体涂料。

11.如权利要求9的方法，其中所述涂料的固化包括至少以下步骤之一：

-交联该涂料，

-干燥该涂料。

12.如权利要求9的方法，其中所述液体涂料的敷设通过以下步骤中的至少一个步骤实现：

-通过计算机控制印刷头印刷，

-通过丝网印刷来印刷，

-通过掩膜喷射

13.如权利要求9的方法，其中所述涂料包含光可固化漆，并且该固化通过对该漆曝光来实现。

14.如权利要求1的方法，其中具有至少一个结构(17)的电阻层(7)的敷设包括预涂层的敷设和该预涂层通过结构化曝光来固化。

15.如权利要求1的方法，其中至少一个另外的层被通过液体涂覆敷设于电阻层(7)。

16.如权利要求15的方法，其中所述液体涂覆包括旋涂或浸涂。

17.如权利要求1的方法，其中具有至少一个结构(17)的至少一个电阻层(7)的敷设包括固体涂料的熔化。

18.如权利要求1的方法，其中所述电阻层(7)的敷设包括通过敷设粉末并通过熔化固化涂料来进行的层的敷设。

19.如权利要求18的方法，其中为了熔化粉末，通过光照射把能量提供到熔炉中。

20.如权利要求18的方法，其中以局部改变强度的方式提供熔化粉末所用的能量。

21.如权利要求1的方法，其中所述电阻层(7)被以在0.1微米至100微米范围内的层厚敷设。

22.如权利要求1的方法，其中通过转移敷设所述电阻层(7)。

23.如权利要求1的方法，其中所述电阻层(7)的敷设包含通过气相镀进行的电阻层的沉积。

24.如权利要求1的方法，其中所述电阻层(7)被以如下方法敷设，使所述电阻层(7)的结构包括具有不同层厚的区域(31，33，35)。

25.如权利要求24的方法，其中具有不同层厚的所述区域(31，33，35)通过重复涂覆制造。

26.如权利要求25的方法，其中所述电阻层(7)包含被连续敷设的具有不同涂料的多个层(71-74)。

27.如权利要求1的方法，其中敷设包括染料以局部改变发光区域的亮度的另一层(41)。

28.如权利要求1的方法，其中具有至少一个结构(17)的所述至少一个电阻层(7)的敷设包括具有被连续敷设的不同颜色或色度的多个层(71-74)的电阻层(7)的敷设。

29.如权利要求1的方法，其中具有至少一个结构(17)的所述至少一个电阻层(7)的敷设包括具有单色或多色图案或图像的电阻层(7)的敷设。

30.如权利要求1的方法，其中具有至少一个结构(17)的电阻层(7)的敷设包括敷设具有栅格结构的电阻层的步骤。

31.如权利要求1的方法，其中与所述第一和第二导电电极层(5，13)之一接触的高导电结构(80)被沿由所述电阻层(7)覆盖的至少一个区域(23)形成。

32.如权利要求31的方法，其中所述高导电结构被设置在所述第一和第二导电电极层(5，13)之一面对包含有机的场致发光材料的层的那侧上。

33.如权利要求31的方法，其中所述高导电结构被设置在所述第一和第二导电电极层(5，13)之一远离包含有机的场致发光材料的层(11)的那侧上。

34.一种有机发光二极管(1)，包含：

-衬底(2)，

-已经被敷设至衬底(2)的第一导电电极层(5)，

-至少一个包含一种有机的场致发光材料的层(11)，和

-第二导电电极层(13)，

该有机发光二极管还包括具有至少一个结构(17)的电阻层(7)，所述结构(17)的表面采用相对于衬底(2)的表面保持小于90°的角度。

35.如权利要求34的二极管，其中所述结构(17)的表面采用相对于所述衬底(2)的表面保持小于80°的最大角度。

36.如权利要求34的二极管，其中所述结构(17)相对于衬底表面的接触角小于80°。

37.如权利要求34的二极管，其中所述结构(17)的边缘区域的深宽比保持小于1。

38.如权利要求34的二极管，其中结构(17)的表面采用相对于衬底的表面保持小于10°的角度，或者其中接触角保持小于10°。

39.如权利要求34的二极管，其中至少一个已经被敷设于所述第一导电电极层(5)上的另外的层被通过液体涂覆敷设。

40.如权利要求34的二极管，其中所述衬底(2)的表面被分为至少一个被所述电阻层(7)覆盖的区域(23)和至少一个未被覆盖的区域(25)。

41.如权利要求34的二极管，其中所述电阻层(7)被敷设于所述第一导电电极层(5)上。

42.如权利要求34的二极管，其中所述第一和第二导电电极层(5，13)中的至少一个对由包含有机的场致发光材料的层(11)所产生的光透明或部分透明。

43.如权利要求34的二极管，其中所述第一和第二导电电极层(5，13)中的至少一个包含透明导电氧化物。

44.如权利要求34的二极管，其中所述电阻层(7)具有0.1微米至100微米范围内的层厚。

45.如权利要求34的二极管，其中所述电阻层(7)的所述结构(17)包括在电流流动方向具有不同电阻的区域(31，33，35，71-74)。

46.如权利要求34的二极管，其中所述电阻层(7)的所述结构(17)包括不同层厚的区域(31，33，35)。

47.如权利要求34的二极管，其中所述电阻层包括具有不同层材料的多个层(71-74)。

48.如权利要求34的二极管，其中所述电阻层(7)为彩色。

49.如权利要求47的二极管，其中所述电阻层(7)包括单色或多色图案或图像。

50.如权利要求34的二极管，其中所述电阻层(7)包括吸气剂物质。

51.如权利要求34的二极管，其中所述衬底(2)对由包括所述场致发光材料的层(11)所发射的光透明。

52.如权利要求24的二极管，该二极管包括具有光吸收横向变化的另一层(41)。

53.如权利要求34的二极管，其中所述电阻层(7)的所述结构(17)包括栅格结构。

54.如权利要求34的二极管，其中所述电阻层(7)包含绝缘层。

55.如权利要求34的二极管，该二极管包括沿由所述电阻层覆盖的至少一个区域(23)延伸的高导电结构(80)，该高导电结构(80)与所述第一和第二导电电极层(5，13)之一接触。

56.如权利要求55的二极管，其中所述导电结构(80)被设置在所述第一和第二导电电极层(5，13)之一面对包含有机的场致发光材料的层(11)的那侧上。

57.如权利要求55的二极管，其中所述高导电结构(80)被设置在所述第一和第二导电电极层(5，13)之一远离包含有机的场致发光材料的层(11)的那侧上。

58.如权利要求34至57之一的二极管的用途：

-作为发光装置，或

-作为照明装置，或

-用作发光信息或广告牌，或

-作为可变标识，或

-用于发信号或环境照明，或

-作为低分辨率或高分辨率显示器，或

-作为数字招贴板或广告牌。

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